CN103668416A - 一种电镀设备 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种电镀设备,包含有电镀槽、挂架与驱动机构,所述电镀槽设置于驱动机构侧方,挂架连接于驱动机构,所述挂架具有基部,所述基部一侧延伸有支撑部,所述支撑部位于电镀槽上方,支撑部悬挂有用以吊挂被镀工件之固定架,而基部于远离支撑部之另侧延伸有位移部;通过在电镀设备设置一外罩,所述外罩覆有一用以隔离外界脏污与灰尘之防尘罩。由于设置外壳电镀液不会受到污染,可完全避免电镀液受到驱动机构之粉尘与油渍污染,因此可有效降低电镀不良率。
Description
技术领域
本发明涉及电镀设备技术领域,尤其涉及一种带外罩的电镀设备技术领域。
背景技术
当电镀设备于进行电镀作业时,因为需要将被镀工件浸泡至电镀槽的电镀液中始可进行电镀作业,所以一般均会利用夹具夹取被镀工件,再让夹具沿移载轨道移动来移载被镀工件,用以对被镀工件进行上下料与电镀作业,而已知移载轨道均位于电镀槽上方,且移载轨道均为利用许多零件所构成,因此必须利用机械油在各零件中进行润滑,以便让移载轨道更能平稳作动,但也因此让机械油容易因重力作用而从移载轨道掉落至电镀槽内,或者,当移载轨道于作动时会产生机械振动,此种振动则会连带将附着于移载轨道的粉尘震落至电镀槽内,因此造成电镀液的污染,进而影响被镀工件的电镀质量,大幅降低电镀良率,因此,如何解决上述现有问题与缺点,即为本领域技术人员所急需解决的技术问题。
发明内容
为了解决上述技术问题,本发明提供一种电镀设备,包含有电镀槽、挂架与驱动机构,所述电镀槽设置于驱动机构侧方,挂架连接于驱动机构,其所述挂架具有基部,所述基部一侧延伸有支撑部,所述支撑部位于电镀槽上方,支撑部悬挂有用以吊挂被镀工件之固定架,而基部于远离支撑部之另侧延伸有位移部;所述驱动机构具有第一驱动组与第二驱动组,第一驱动组与第二驱动组连接于挂架之位移部,第一驱动组用以驱动挂架横向位移,第二驱动组用以驱动挂架纵向位移。
优选的,所述驱动机构具有第一基座与第二基座,所述第一驱动组与所述第二驱动组均位于第一基座与第二基座之间处,第一基座连接于挂架之位移部,第一驱动组用以驱动第一基座沿第二基座横向位移,藉以带动挂架横向位移。
优选的,所述驱动机构具有第一基座与第二基座,第一驱动组与第二驱动组均位于第一基座与第二基座之间处,第一基座连接于挂架之位移部,第一驱动组用以驱动第一基座沿第二基座横向位移,藉以带动挂架横向位移,第二驱动组驱动位移部纵向位移,用以带动挂架纵向位移。
优选的,所述驱动机构具有第一基座与第二基座,第一驱动组与第二驱动组均位于第一基座与第二基座之间处,第一基座设置有第一导正组,第一导正组用以让第一基座于横向位移时产生限位作用。
优选的,所述驱动机构具有第一基座与第二基座,第一驱动组与第二驱动组均位于第一基座与第二基座之间位置,第二基座上方设置有第二导正组,第二导正组用以让第一基座于横向位移时产生限位作用。
优选的,所述电镀槽与驱动机构外罩覆有外罩,外罩用以隔绝外界灰尘进入电镀槽与驱动机构内。
优选的,所述外罩设置有用以提供检视作用之活动拉门。为了便于施工人员进入,所述活动拉门的高度范围为1.5米-2米。
本发明的优点在于:公开了一种电镀设备,包含有电镀槽、挂架与驱动机构,所述电镀槽设置于驱动机构侧方,挂架连接于驱动机构,所述挂架具有基部,所述基部一侧延伸有支撑部,所述支撑部位于电镀槽上方,支撑部悬挂有用以吊挂被镀工件之固定架,而基部于远离支撑部之另侧延伸有位移部;通过在电镀设备设置一外罩,所述外罩覆有一用以隔离外界脏污与灰尘之防尘罩。由于设置外壳电镀液不会受到污染,可完全避免电镀液受到驱动机构之粉尘与油渍污染,因此可有效降低电镀不良率。
附图说明
通过阅读参照以下附图对非限制性实施例所作的详细描述,本发明的其它特征、目的和优点将会变得更明显,如下附图构成了本说明书的一部分,和说明书一起列举了不同的实施例,以解释和阐明本发明的宗旨。以下附图并没有描绘出具体实施例的所有技术特征,也没有描绘出部件的实际大小和真实比例。
图1示出本发明优选实施例之结构示意图;
图2示出本发明带外罩的结构示意图。
具体实施方式
为了更好的描述本发明技术方案,以下结合附图对本发明的具体实施方式进行详细描述。
根据图1所述,本发明所述的电镀设备包含有电镀槽1、挂架2与驱动机构3,所述电镀槽1设置于驱动机构3侧方,电镀槽1内容置有电镀液11。所述挂架2连接于驱动机构3,并位于电镀槽1上方,挂架2具有基部21,基部21一侧延伸有支撑部22,支撑部22位于电镀槽1上方,基部21于远离支撑部22之另侧延伸有位移部23。驱动机构3具有第一基座31、第二基座32、第一驱动组33与第二驱动组34,而第一驱动组33与第二驱动组34均位于第一基座31与第二基座32之间处,并让第一驱动组33与第二驱动组34位于电镀槽1侧方。第一驱动组33与第二驱动组34连接于挂架2之位移部23。第一基座31设置有第一导正组35,第二基座32上方设置有第二导正组36,驱动机构3外罩覆有一用以隔离外界脏污与灰尘之防尘罩7。
根据上文描述,使用时,预先将挂架2与电镀槽1之间设置有用以吊挂被镀工件5之固定架6,让固定架6悬挂于挂架2下方侧,并且挂附于挂架2之支撑部22,因挂架2下方处设置有电镀槽1,让固定架6正对电镀槽1开口处,进而让被镀工件5正对于电镀槽1,用以进行电镀作业。其次,挂架2凭借驱动机构3驱动,用以带动被镀工件5位移时,第一驱动组33驱动第一基座31沿第二基座32横向位移,用以带动挂架2横向位移,第二驱动组34驱动位移部23纵向位移,用以带动挂架2纵向位移;其中,当第一驱动组33驱动第一基座31横向位移时,配合第一导正组35与第二导正组36使用,用于让第一基座31分别沿着第一导正组35与第二导正组36横向位移并产生限位作用,防止第一基座31于横向位移时,因重心不稳而发生倒塌,进而影响电镀作业,再者,因挂架2侧方延伸有位移部23,位移部23与第一基座31相互连接,因此,第二驱动组34驱动挂架2纵向位移之状态如下所述,当位移部23向下位移时,为内缩入第一基座31内,并带动被镀工件5进入电镀液11,用以进行电镀作业,当位移部23向上位移时,系带动被镀工件5向上移动,并离开电镀液11,即完成电镀作业;再者,第一导正组35配合位移部23纵向位移。
图2示出本发明带外罩的结构示意图;电镀槽1与驱动机构3外罩覆有外罩8,外罩8 用以隔绝外界灰尘或脏污等进入电镀槽1与驱动机构3内,让电镀槽1与驱动机构3达到更佳之防尘效果;除此之外,外罩8位于电镀槽1与驱动机构3的侧方分别设置有活动拉门81,活动拉门81方便工作者随时透过活动拉门81来监视电镀槽1与驱动机构3的作动情况。为了便于施工人员进入,所述活动拉门的高度范围为1.5米-2米。将驱动机构3设置于电镀槽1侧方,因此,当驱动机构3的第一驱动组33从电镀槽1侧方来带动挂架2横向位移,即可避免附着于挂架2之粉尘或机械润滑油因机械振动或重力作用而掉落至电镀槽1内,让电镀液11不会受到污染,本发明公开的技术方案可完全避免电镀液11受到驱动机构3的粉尘与油渍污染,因此可有效降低电镀不良率。
本发明虽然以较佳实施例公开如上,但其并不是用来限定本发明,任何本领域技术人员在不脱离本发明的精神和范围内,都可以做出可能的变动和修改,因此本发明的保护范围应当以本发明权利要求所界定的范围为准。
Claims (8)
1.一种电镀设备,包含有电镀槽、挂架与驱动机构,所述电镀槽设置于所述驱动机构侧方,所述挂架连接于所述驱动机构,其特征在于:所述挂架具有基部,所述基部一侧延伸有支撑部,所述支撑部位于电镀槽上方,所述支撑部悬挂有用以吊挂被镀工件之固定架,而所述基部于远离支撑部之另侧延伸有位移部;所述驱动机构具有第一驱动组与第二驱动组,所述第一驱动组与所述第二驱动组连接于所述挂架之位移部,所述第一驱动组用以驱动所述挂架横向位移,所述第二驱动组用以所述驱动挂架纵向位移。
2.根据权利要求1所述电镀设备,其特征在于:所述驱动机构具有第一基座与第二基座,所述第一驱动组与所述第二驱动组均位于第一基座与第二基座之间处,所述第一基座连接于所述挂架之位移部,所述第一驱动组用以驱动第一基座沿第二基座横向位移,用以带动所述挂架横向位移。
3.根据权利要求1所述电镀设备,其特征在于:所述驱动机构具有第一基座与第二基座,所述第一驱动组与所述第二驱动组均位于第一基座与第二基座之间处,所述第一基座连接于所述挂架之位移部,所述第一驱动组用以驱动第一基座沿第二基座横向位移,用以带动挂架横向位移,所述第二驱动组驱动位移部纵向位移,用以带动挂架纵向位移。
4.根据权利要求1所述电镀设备,其特征在于:所述驱动机构具有第一基座与第二基座,第一驱动组与第二驱动组均位于第一基座与第二基座之间处,第一基座设置有第一导正组,第一导正组用以让第一基座于横向位移时产生限位作用。
5.根据权利要求1所述电镀设备,其特征在于:所述驱动机构具有第一基座与第二基座,第一驱动组与第二驱动组均位于第一基座与第二基座之间位置,第二基座上方设置有第二导正组,第二导正组用以让第一基座于横向位移时产生限位作用。
6.根据权利要求1所述电镀设备,其特征在于:所述电镀槽与驱动机构外罩覆有外罩,外罩用以隔绝外界灰尘进入电镀槽与驱动机构内。
7.根据权利要求1所述电镀设备,其特征在于:所述外罩设置有用以提供检视作用之活动拉门。
8.根据权利要求7所述电镀设备,其特征在于:所述活动拉门的高度范围为1.5米-2米。
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PB01 | Publication | ||
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SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20140326 |