CN103668142A - 一种形成保护膜的金属表面处理剂 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种金属表面处理剂，具有讲是涉及一种形成保护膜的金属表面处理剂，其属于金属表面清洗及表面防锈处理技术领域，其组分为：助膜剂、表面活性剂、甲壳素、海藻酸钠、二氧化硅、珍珠粉和水，在使用时，纳米级的二氧化硅在金属表面形成一层保护膜，纳米级的二氧化硅其在阳光的照射下能够分解金属表面的细菌，并且具有很高的亲水性，更充分的保护金属表面不被细菌和雨水侵蚀；从而不但很好的清理金属表面，同时在金属表面形成保护膜，可以保护金属表面的光泽度。
Description
技术领域
本发明涉及一种金属表面处理剂，具有讲是涉及一种形成保护膜的金属表面处理剂,其属于金属表面清洗及表面防锈处理技术领域。
背景技术
随着工业的不断发展，涂装是金属表面处理中广泛应用的防腐技术。在涂装过程中，磷化是比不可少的步骤，但是在磷化过程中，会产生大量的含磷污水，其严重污染环境，并且在磷化过程需要用到强酸或者强碱，其对工人的人身有很大的威胁。
发明内容
鉴于现有技术存在的缺陷，本发明是提供一种形成保护膜的金属表面处理剂，以达到能同时清洗的同时在金属表面涂有一层保护膜，保持金属原有光泽的目的。
为达到上述目的，本发明所采用技术方案为一种形成保护膜的金属表面处理剂，其特征在于：其组分为：助膜剂、表面活性剂、甲壳素、海藻酸钠、二氧化硅、珍珠粉和水，各个物质按重量百分比含量有如下：助膜剂0.5~1、表面活性剂1~3、甲壳素0.1~8、海藻酸钠0.5~6、二氧化硅2~10、珍珠粉1~3和余量水。
所述表面活性剂为非离子表面活性剂，包括脂肪醇聚氧乙烯醚、壬基酚聚氧乙烯醚和吐温80。
所述二氧化硅为纳米级的二氧化硅。
所述水为去离子水。
本发明的优点在于：在使用时，纳米级的二氧化硅在金属表面形成一层保护膜，纳米级的二氧化硅其在阳光的照射下能够分解金属表面的细菌，并且具有很高的亲水性，更充分的保护金属表面不被细菌和雨水侵蚀；从而不但很好的清理金属表面，同时在金属表面形成保护膜，可以保护金属表面的光泽度。
具体实施方式
一种形成保护膜的金属表面处理剂，其特征在于：其组分为：助膜剂、表面活性剂、甲壳素、海藻酸钠、二氧化硅、珍珠粉和水，各个物质按重量百分比含量有如下：助膜剂0.5~1、表面活性剂1~3、甲壳素0.1~8、海藻酸钠0.5~6、二氧化硅2~10、珍珠粉1~3和余量水。
所述表面活性剂为非离子表面活性剂，包括脂肪醇聚氧乙烯醚、壬基酚聚氧乙烯醚和吐温80。
所述二氧化硅为纳米级的二氧化硅。
所述水为去离子水。
Claims (4)
1.一种形成保护膜的金属表面处理剂，其特征在于：其组分为：助膜剂、表面活性剂、甲壳素、海藻酸钠、二氧化硅、珍珠粉和水，各个物质按重量百分比含量有如下：助膜剂0.5~1、表面活性剂1~3、甲壳素0.1~8、海藻酸钠0.5~6、二氧化硅2~10、珍珠粉1~3和余量水。
2. 根据权利要求1所述的一种形成保护膜的金属表面处理剂，其特征在于： 所述表面活性剂为非离子表面活性剂，包括脂肪醇聚氧乙烯醚、壬基酚聚氧乙烯醚和吐温80。
3.根据权利要求1所述的一种形成保护膜的金属表面处理剂，其特征在于：所述二氧化硅为纳米级的二氧化硅。
4.根据权利要求1所述的一种形成保护膜的金属表面处理剂，其特征在于：所述水为去离子水。
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| CN201310701423.1A CN103668142A (zh) | 2013-12-19 | 2013-12-19 | 一种形成保护膜的金属表面处理剂 |
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| CN (1) | CN103668142A (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104099019A (zh) * | 2014-06-19 | 2014-10-15 | 锐展(铜陵)科技有限公司 | 一种含沙棘油的铝合金表面处理剂 |
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2013
- 2013-12-19 CN CN201310701423.1A patent/CN103668142A/zh active Pending
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| CN104099019A (zh) * | 2014-06-19 | 2014-10-15 | 锐展(铜陵)科技有限公司 | 一种含沙棘油的铝合金表面处理剂 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| PB01 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20140326 |
|
| WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |