CN103602956A - 一种真空沉积系统及其旋转馈入装置 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种真空沉积系统及其旋转馈入装置。真空沉积系统包括旋转馈入装置及真空腔室。旋转馈入装置安装于真空腔室的安装孔，其包括第一固定组件、传动轴、第一动密封组件及第一直驱马达；第一固定组件的第一固定座上设有轴孔；第一动密封组件安装于轴孔中；传动轴绕自身轴向转动穿设第一动密封组件；第一直驱马达安装于第一固定组件。采用直驱马达作为动力源，第一直驱马达可直接驱动传动轴转动，其连接方式更加简捷，并使得整个旋转馈入装置的结构简捷轻巧，节约了整个装置的成本，且方便后期的设备安装维护；第一直驱马达的传动声音小、寿命长、控制精度更加准确，且工作时产生的振动小，可有效保证真空沉积系统的高精度、无污染。

Description

一种真空沉积系统及其旋转馈入装置

技术领域

本发明涉及真空沉积镀膜，尤其涉及一种真空沉积系统及其旋转馈入装置，可应用于TFT-LCD、太阳能薄膜电池、半导体芯片、晶圆等薄膜工艺制备和生产的真空镀膜系统中。

背景技术

薄膜沉积模块的生产包括将基片（例如玻璃板）运入且运出沉积系统中的一个或多个真空室，在沉积系统，半导体材料的薄膜层被沉积至基片的表面上。该沉积过程可以是任何已知的过程，例如封闭空间升华系统(CSS)，化学气象沉积系统(CVD)或物理气象沉积系统（PVD）。

输送基片通过真空室结构的沉积系统典型地使用受驱动的输送机或其他合适的输送装置。在维持结构内高真空状态的同时，需要在真空室内建立受控制的旋转运动以驱动输送机。为该目的而提供的传统的旋转馈入是相对复杂且通常需要由室壁内或室壁外的轴承支撑的通轴。该轴又可操作地连接至齿轮箱或马达，马达经由直接联接、带传动或链传动提供旋转驱动。现有技术中一种用于真空室结构的旋转馈入装置，应用于太阳能光伏产业。其旋转馈入装置包括具有外壳和轴的齿轮箱，轴由包含在外壳内的轴承可旋转地支承。马达可操作地联接至齿轮箱外壳以驱动轴，且轴从齿轮箱延伸。第一动密封组件可操作地设置在齿轮箱外壳和室壁之间，且轴设置成穿过第一动密封组件并且延伸穿过在室壁中的孔并进入结构的内部。经由齿轮箱外壳中的轴承，轴由轴承可旋转地支承。这些传统的装置是相对昂贵、复杂且笨重的，不利于设备的安装维护。

另外，随着薄膜沉积技术的发展，生产工艺在保证膜层质量的基础上，提出了提高生产效率，降低制造成本的要求，那么传输机构就不会局限于一种动作，为降低设备成本，增加薄膜产品的竞争力，如何利用一个旋转馈入装置同时能满足两种不同运动功能就成为了行业发展迫切的需求。

发明内容

本发明所要解决的技术问题在于，提供一种真空沉积系统及其旋转馈入装置，结构简捷轻巧，成本低，安装维护方便，控制精度准确。

为了解决上述技术问题，一方面，本发明的实施例提供了一种旋转馈入装置，括第一固定组件、传动轴、第一动密封组件及第一直驱马达；

所述第一固定组件包括第一固定座，所述第一固定座上设有轴孔；

所述第一动密封组件安装于所述轴孔中，用于所述传动轴与所述第一固定座之间的密封；

所述传动轴绕自身轴向转动穿设所述第一动密封组件；

所述第一直驱马达安装于所述第一固定组件，所述第一直驱马达的输出端连接于所述传动轴，以驱动所述传动轴转动。

其中，所述第一固定座为一端闭合的筒状，所述轴孔开设在第一固定座的闭合端；所述第一固定座上相对闭合端的另一端密封设置以形成一密闭腔体，所述第一直驱马达的输出端位于该密闭腔体中。

其中，所述第一固定组件还包括第一支撑套筒及第一端盖，所述第一固定座上相对闭合端的另一端与所述第一支撑套筒的一端固定连接，所述第一支撑套筒的另一端与所述第一端盖固定连接；所述第一直驱马达位于所述第一支撑套筒中。

其中，所述第一动密封组件包括套筒、磁流体密封件及密封圈，所述套筒固定于所述轴孔中，所述密封圈设置在所述套筒与所述第一固定组件之间，所述传动轴绕自身轴向转动套设在所述套筒内，所述磁流体设置在所述套筒的内壁与所述传动轴之间。

其中，所述旋转馈入装置还包括第二固定组件及第二直驱马达；

所述第一固定组件转动连接于第二固定组件；

所述第二直驱马达固定于第二固定组件，其输出端连接于所述第一固定组件或所述第一直驱马达，以驱动所述第一固定组件转动。

其中，所述第二固定组件包括第二固定座，所述第二固定座为环状，所述第一固定座转动套设在所述第二固定座内；所述第一固定座与所述第二固定座之间设有第二动密封组件，所述第二动密封组件包括两个同轴设置的两个动密封圈及真空管道，所述第一固定座、所述第二固定座与两个所述动密封圈之间形成环状的密封空间，所述真空管道设置在所述第二固定座上，所述真空管道的一端连通至所述密封空间、另一端连通至一真空抽气装置。

其中，所述传动轴、所述第一直驱马达及所述第二直驱马达同轴设置。

另一方面，本发明还提供了一种真空沉积系统，包括前述的旋转馈入装置及真空腔室，所述真空腔室的腔壁上设有安装孔，所述旋转馈入装置安装于所述安装孔处；

所述旋转馈入装置的第一固定组件安装于所述安装孔，所述旋转馈入装置的第一直驱马达位于所述真空腔室外、传动轴上远离所述第一直驱马达的一端位于所述真空腔室中。

其中，所述旋转馈入装置还包括第二固定组件及第二直驱马达；

所述第二固定组件密封固定于所述安装孔，所述第一固定组件转动连接于所述第二固定组件；

所述第二直驱马达固定于第二固定组件，其输出端连接于所述第一固定组件或所述第一直驱马达，以驱动所述第一固定组件转动。

其中，所述真空沉积系统还包括设置在所述真空腔室中的传输装置；所述传输装置包括叉手及旋转台；所述叉手通过直线导向组件直线滑动连接于所述旋转台；所述叉手与所述传动轴之间设有传动组件，用于将所述传动轴的转动转化为所述叉手的直线移动；

所述旋转台转动设置于所述真空腔室的内壁，所述旋转台固定连接于所述第一固定组件。

本发明提供的真空沉积系统及其旋转馈入装置，采用直驱马达作为动力源，第一直驱马达可直接驱动传动轴转动，无需联轴器或传动机构等，其连接方式更加简捷，并使得整个旋转馈入装置的结构简捷轻巧，可直接安装于真空腔室的外壁而无需其他支撑结构，节约了整个装置的成本，且方便后期的设备安装维护；由于结构简捷，在工作做成中产生的颗粒粉尘等污染少，有利于保证真空腔室的洁净；第一直驱马达的传动声音小、寿命长、控制精度更加准确，且工作时产生的振动小，可有效保证真空沉积系统的高精度、无污染。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本发明第一实施方式提供的真空沉积系统的结构示意图；

图2是图1的真空沉积系统中传输装置与中转室的示意图；

图3是图2中真空沉积系统的局部剖面图；

图4是本发明第二实施方式提供的真空沉积系统的示意图；

图5是本发明第三实施方式提供的真空沉积系统的示意图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。

参见图1至图3，为本发明中第一实施例提供的一种真空沉积系统。本实施例中，真空沉积系统为簇式（cluster type）真空沉积系统。

如图1所示，真空沉积系统包括真空腔室、传输装置2及旋转馈入装置3。真空腔室为多个，分别是：进出室11、至少一个反应室12、及中转室13。基片通过进出室11进行上下料，每个反应室12、进出室11、与中转室13之间均设有活动闸阀，每个真空腔室分别与真空系统连接，以保证每个真空腔室的真空环境的相对独立，可单独调节每个真空腔室内的压力大小。本实施例中反应室12为多个，可在一个真空沉积系统中对基片进行多种膜层沉积，可在一个反应室12中沉积完成一种膜层后通过中转室13利用传输装置2将基片传输到另一个反应室12中进行沉积第二膜层，既提高了生产节拍，又因为避免了膜层的交叉感染，保证了膜层质量，该种真空沉积系统也必将成为新沉积系统的发展趋势。

传输装置2设置在真空腔室中，在本实施例中传输装置2设置在中转室13中。各反应室12及进出室11环绕中转室13设置，传输装置2旋转可对应配合不同的反应室12或进出室11。如图2、图3所示，传输装置2包括叉手21及旋转台22。叉手21通过直线导向组件23直线滑动连接于旋转台22，用于实现基片在真空腔室之间的移进或移出；旋转台22转动设置于中转室13的内壁，以带动叉手21转动对应至向相应的真空腔室。

直线导向组件23用于叉手21的直线导向，以保证叉手21沿直线移动，同时保证真空沉积系统的精密度。直线导向组件23包括滑动配合的直线导轨及直线滑块，直线导轨固定于旋转台22，直线滑块固定于叉手21，结构简单，便于装配。此处，作为另外的实施方式，直线导向组件23亦可为T型槽与T型块的配合、或燕尾槽与燕尾块的配合，等等。

叉手21通过传动组件24连接于旋转馈入装置3的传动轴，传动组件24用于将旋转馈入装置3的传动轴的转动转化为叉手21的直线移动，以使叉手21相对旋转台22直线移动从而进出真空腔室实现基片在真空腔室之间的移动。

本实施例中，传动组件24为皮带轮传动组件，通过皮带轮可将旋转馈入装置3的传动轴的转动转化为叉手21的直线移动，且可使传动轴的轴向垂直于叉手21的直线移动方向。更具体地，传动组件24包括安装于传动轴的转轮241、传送带242、及两个张紧轮243，传送带242连接于转轮241及两个张紧轮243。两个张紧轮243沿叉手21的直线运动方向排布，位于两个张紧轮243之间的传送带242与叉手21固定连接，当转轮241转动时，传送轮移动，从而带动叉手21直线移动。

旋转台22通过旋转导向组件25转动连接于中转室13的内壁，以转动可带动直线移动机构转动，旋转台22的旋转轴向垂直于叉手21的直线运动方向，以使叉手21对应配合不同的真空腔室。旋转导向组件25用于保证旋转台22转动的稳定性及精密度。本实施例中，旋转导向组件25包括滑动配合的圆弧导轨及圆弧滑块，圆弧导轨固定于中转室13的内壁，圆弧滑块固定于旋转台22，在旋转馈入装置3的驱动下，旋转台22可沿着圆弧导轨进行360°旋转。

Cluster type真空沉积系统的工艺流程具体是：当基片通过真空沉积系统外部的传送装置进入进出室11后，待真空抽气系统将进出室11的真空度与中转室13的真空度相同时，进出室11和中转室13之间的活动闸阀打开连通，传输机构先旋转到进出室11活动闸阀通道位置，然后利用驱动叉手21将基片从进出室11搬运到中转室13，动作完成，进出室11和中转室13之间的活动闸阀关闭。接着传输装置2根据控制系统的设定，开始将基片搬运到预定的反应室12，传输机构先是通过旋转台22将叉手21旋转到预定反应室12与中转室13之间的活动闸阀的正中位置，然后该活动闸阀打开，叉手21开始进行直线运动将基片输送到反应室12内的预定位置，动作完成，叉手21退出反应室12，反应室12与中转室13之间的活动闸阀关闭，传输装置2开始下一基片的输送工作。

中转室13的腔壁上设有安装孔10，旋转馈入装置3安装于安装孔10中，用以在真空室内提供双旋转驱动，即驱动叉手21直线移动及驱动旋转台22转动。

如图3所示，旋转馈入装置3包括第一固定组件31、第一直驱马达32、传动轴33、第一动密封组件34、第二固定组件35及第二直驱马达36。第一固定组件31转动连接于第二固定组件35，第一直驱马达32固定于第一固定组件31，其输出端连接于传动轴33，以驱动传动轴33绕自身轴向转动。传动轴33绕自身轴向转动穿设第一动密封组件34，以保证密封性能，其一端连接至第一直驱马达32，另一端延伸至中转室并固定连接于转轮241，以带动叉手21直线移动。第二固定组件35密封固定于中转室13的安装孔，第二直驱马达36固定于第二固定组件35，其输出端连接于第一固定组件31，以驱动第一固定组件31转动。第一固定组件31固定连接于旋转台22，第一固定组件31转动时可带动旋转台22转动。利用第一直驱马达32可驱动叉手21直线移动，利用第二直驱马达36可实现整个传输装置2的旋转，从而使得旋转馈入装置3实现双旋转驱动馈入，能够适应多传动馈入的发展需求。

第一固定组件31包括第一固定座311、第一支撑套筒312及第一端盖313。第一固定座311上设有轴孔，用于安装第一动密封组件34及传动轴33。第一支撑套筒312连接在第一固定座311与第一端盖313之间，以形成用于安装第一直驱马达32的密闭腔体。

第一固定座311为一端闭合的筒状，轴孔开设在第一固定座311的闭合端。第一固定座311与第一支撑套筒312同轴设置，且沿轴向排布设置。第一固定座311上相对闭合端的另一端与第一支撑套筒312的一端固定连接，第一支撑套筒312的另一端与第一端盖313固定连接。第一直驱马达32固定连接第一端盖313，当然第一直驱马达32亦可与第一支撑套筒312或第一固定座311固定连接。通过第一支撑套筒312与第一端盖313的配合，可将第一固定座311的另一端密封，在安装第一动密封组件34后可在第一固定组件31内形成一密闭腔体，以防止有杂物及空气进入该密闭腔体，第一直驱马达32整体位于该密闭腔体中，进而防止杂物及空气通过轴孔处进入到中转室13中。第一直驱马达32位于第一支撑套筒312中，利用第一固定组件31各部分之间的配合，拆下第一端盖313及第一支撑套筒312即可完全露出第一直驱马达32，可便于第一直驱马达32的装配与维护。

此处，作为另外的实施方式，第一固定座311的另一端可直接安装第一端盖313进行密封。或者，第一直驱马达32直接固定连接于第一固定座311，在第一直驱马达32的外壁与第一固定座311的筒内壁之间设置密封，实现第一固定座311的另一端的密封以形成一密闭腔体，并使得第一直驱马达的输出端位于该密闭腔体中。

传动轴33绕自身轴向转动穿设轴孔。传动轴33的一端连接至第一直驱马达32的输出端、另一端延伸至中转室13中连接至传输装置2的轮轴241以带动叉手21动作。通过第一直驱马达32作为动力源，其具有输出力矩大、精度高等特点，第一直驱马达32可直接与传动轴33连接，无需联轴器、减速器、齿轮箱等机构，其连接方式相对更加简捷，从而使得整个装置的结构设计更加简捷轻巧，可直接安装于真空腔室的外壁而无需其他支撑结构，节约了整个装置的成本，且方便后期的设备安装维护；控制精度也更加准确。同时第一直驱马达32具备噪音低、寿命长等特定，其传动的噪音小，使得整个旋转馈入装置3具有更长的使用寿命、更低噪音及振动，更适用高精密的真空沉积系统。

第一动密封组件34安装于轴孔中，并位于传动轴33与第一固定座311之间，以实现传动轴33与第一固定座311之间的密封。第一动密封组件34包括套筒341、磁流体密封件342及密封圈343，套筒341固定于轴孔中，密封圈343设置在套筒341与第一固定组件31之间，传动轴33套设在套筒341内，磁流体密封件342设置在套筒341的内壁与传动轴33之间。磁流体密封件342寿命长、无磨损、可保证传动轴33与第一固定座311之间的密封性能，其结构亦相对简单，降低了整个旋转馈入装置3的加工精度和装配精度，大大减小了设备的整体成本。

套筒341的外壁上绕其周向设有环形凸缘，环形凸缘在套筒341的轴向上具有相对的两凸缘面，密封圈343设置在一法兰面与第一固定座311之间。以便于套筒341、密封圈343与第一固定座311之间的装配连接。本实施例中，环形凸缘位于第一固定座311的闭合端的外侧，以进一步便于装配。轴孔为与环形凸缘相配合的阶梯状，以便于套筒341与轴孔之间的定位连接。

第一动密封组件34进一步包括一压紧法兰344，压紧法兰344与环形凸缘的形状相配合，压紧法兰344与第一固定座311之间通过螺钉固定连接并将环形凸缘及密封圈343压紧在第一固定座311与压紧法兰344之间，以进一步保证套筒341与第一固定座311之间的密封性能。

在本实施方式中，第一动密封组件34包括套筒341、密封圈343及磁流体密封件342，便于加工制备，可将第一动密封组件34与传动轴33作为一个整体与第一固定座311装配连接，便于第一动密封组件34、第一固定座311及传动轴33之间的装配连接，作为另外的实施方式，套筒341可与第一固定座311为一体式结构，而不必设置套筒341与第二固定座之间的密封圈343；或者采用其他结构或形式的第一动密封组件34实现传动轴33与第一固定座311之间的密封。

第二固定组件35包括第二固定座351、第二支撑套筒352及第二端盖353。第二固定座351与中转室13的腔壁密封连接，第二支撑套筒352固定在第二固定座351与第二端盖353之间。

第二固定座351为环状，第一固定座311转动套设在第二固定座351内。第一固定座311与第二固定座351之间设有轴承，以保证二者相对转动的稳定性。

为保证第一固定座311与第二固定座351之间的密封性能，第一固定座311与第二固定座351之间设有第二动密封组件37，第二动密封组件37包括两个同轴设置的两个动密封圈371、372，及真空管道373。第一固定座311、第二固定座351与两个动密封圈371、372之间形成环状的密封空间，真空管道373设置在第二固定座351上，真空管道373的一端连通至所述密封空间，另一端连通至一真空抽气装置。利用真空抽气装置对真空管道373进行抽气可使得密封空间形成保持真空状态的真空环，当靠近中转室13外侧的动密封圈371、372的密封性能不够导致泄漏是，其泄漏的气体进入到真空环中后迅速被真空抽气装置从真空管道373抽出，避免了泄漏进来的气体进入到中转室13中，从而保证了真空腔室的真空管度。同时由于真空管道373的存在，避免了动密封圈371、372在转动时测试的颗粒、粉尘等污染物进入到真空腔室内，保证了腔室的洁净度，避免了因基片受到污染而导致膜层质量的降低。此处的真空抽气装置可以是为中转室13提供真空抽气的装置，而无需额外提供真空抽气装置，进而简化结构，降低系统成本。

第二固定座351套设在第二支撑套筒352内，并通过第二支撑套筒352与中转室13固定连接。当然，亦可将第二固定座351直接与中转室13的腔壁固定连接。本实施例中，第二支撑套筒352包括多段子筒352a、352b、352c，多段子筒352a、352b、352c沿轴向依次排布固定连接。位于第二支撑套筒352一端的子筒352a套设在第二固定座351外，其与中转室13的安装孔10对应固定连接，且二者之间设有静密封圈354，以使第一固定座311的闭合端伸入到中转室13中，并保证中转室13的真空度。位于第二支撑套筒352另一端的子筒352c与第二端盖353固定连接，从而在第一固定组件31与第二固定组件35之间形成一密封空间350，第二直驱马达36固定于密封空间中。以进一步避免气体及杂物进入到中转室13中。

本实施例中，第二直驱马达36位于第二支撑套筒352中，且与第二端盖353固定连接，从而使得第二直驱马达36位于前述密封空间350中。第二直驱马达的输出端与第一固定组件31连接，以驱动第一固定组件31转动，从而使得整个传输装置2转动。采用第二直驱马达作为动力源，亦可使得整个装置的结构设计更加简单轻巧，节约了整个装置的成本，且方便后期的设备安装维护；噪音小、寿命长，控制精度也更加准确，适用于高精密的真空沉积系统。此处，作为另外的实施方式，若第一直驱马达32后端部位于第一固定组件31外，第二直驱马达的输出端亦可连接至第一直驱马达32，以带动第一直驱马达32及第一固定组件31转动，并使传输装置2转动。

第二直驱马达36与第一直驱马达32沿同一轴向排布设置，以便于装配连接。同时，利用多段子筒的拼接，拆分不同的子筒可分别露出第一直驱马达32或者第二直驱马达36，从而利于维护。传动轴33、第一直驱马达32及第二直驱马达36同轴设置，可仅使传动轴33的一端位于真空腔室中，第一直驱马达32及第二直驱马达36均位于真空腔室外，以保证真空腔室内部的真空度及洁净。

本发明在第一实施方式中提供的真空沉积系统为cluster type真空沉积系统，其传输装置2具有直线移动和旋转两个动作，旋转馈入装置3的结构亦可提供双旋转驱动。当然，真空沉积系统还可以为其他系统，如TFT-LCD、太阳能薄膜电池、半导体芯片、晶圆等薄膜工艺制备和生产的真空镀膜系统中。

如图4所示，在本发明第二实施方式提供的真空沉积系统中，其包括真空腔室及旋转馈入装置3。旋转馈入装置3作为单一传动的旋转馈入，即只提供一个旋转驱动。旋转馈入装置3包括第一固定组件31、第一直驱马达32、传动轴33及第一动密封组件34，第一固定组件31、第一直驱马达32、传动轴33及第一动密封组件34的具体结构与第一实施例相同，在此不再赘述。真空腔室的腔壁100上开设有安装孔，旋转馈入装置3的第一固定组件31密封固定于安装孔，第一直驱马达32位于真空腔室外。为了便于第一固定组件31与真空腔室腔壁100之间的密封，第一固定组件31上设有环形周缘319，环形周缘319的形状与安装孔的形状相配合，环形周缘319与真空腔室腔壁100之间设有固定密封圈318。

传动轴33的一端通过安装孔10延伸至真空腔室中，其可通过键或其他方式与任何合适的传动装置、被驱动部件联接，从而实现动力驱动馈入。

本实施例中，真空腔室中设有传输装置，且传输装置只需要提供单一的动作，如叉手21的直线往复运动，传动轴33通过与第一实施方式相同的传动组件24连接于叉手21，以驱动叉手21直线往复动作。当然，当传输装置2只需要进行旋转台22的转动时，传动轴33直接连接于旋转台22即可。

如图5所示，在本发明第三实施方式提供的真空沉积系统中，其包括真空腔室及旋转馈入装置3。旋转馈入装置3与前述第二实施方式相同，在此不再赘述。在本实施方式中，真空腔室为反应室，真空腔室中设有基片顶针机构5，旋转馈入装置3可为基片顶针机构5提供传动馈入。

真空腔室的腔壁100上设有安装孔，旋转馈入装置3安装于安装孔，且位于真空腔室的底部，顶针机构位于旋转馈入装置3的上部。基片顶针机构5包括传动丝杆51、与传动丝杆51相配合的丝杆轴承52、空心轴53、托板54及顶针55。传动轴33、传动丝杆51及空心轴53三者同轴设置，传动丝杆51固定连接于传动轴33，传动丝杆51套设在空心轴53内，丝杆轴承52设置在传动丝杆51与空心轴53之间，且固定于空心轴53内。空心轴53固定于顶针55的底面。顶针55安装于托板54的上表面，用于支撑基片9，以减小与基片9的接触面积。传动轴33转动可带动传动丝杆51转动，利用传动丝杆51与丝杆轴承52的配合，可使得托板54及顶针55上下升降活动，顶针55可在反应室12中的通孔进行上下活动，实现基片9的升起和降落功能。

在上述实施方式中，旋转馈入装置3均设置在真空腔室的底部，作为另外的实施方式，旋转馈入装置3亦可设置在真空腔室的侧壁上。

在上述实施方式中，第一动密封组件34包括套筒341、磁流体密封件342及密封圈343，其体积小，可便于与直径相对较小的传动轴33的配合连接；第二动密封组件37包括两个同轴设置的两个动密封圈371、372及真空管道373，可适用于直径相对较大的第一固定座的密封，作为另外的实施方式，第一动密封组件可采用与第二动密封组件相同的结构，即第一动密封组件包括两个同轴设置的动密封圈及真空管道，真空管道设置在第一固定座上，其一端连通两个动密封圈之间的密封环中，另一端连通至真空抽气装置。当然，第二动密封组件亦可采用与第一动密封组件相同的结构。

以上所述的实施方式，并不构成对该技术方案保护范围的限定。任何在上述实施方式的精神和原则之内所作的修改、等同替换和改进等，均应包含在该技术方案的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种旋转馈入装置，其特征在于，包括第一固定组件、传动轴、第一动密封组件及第一直驱马达；

所述第一固定组件包括第一固定座，所述第一固定座上设有轴孔；

所述第一动密封组件安装于所述轴孔中，用于所述传动轴与所述第一固定座之间的密封；

所述传动轴绕自身轴向转动穿设所述第一动密封组件；

所述第一直驱马达安装于所述第一固定组件，所述第一直驱马达的输出端连接于所述传动轴，以驱动所述传动轴转动。

2.根据权利要求1所述的旋转馈入装置，其特征在于，所述第一固定座为一端闭合的筒状，所述轴孔开设在第一固定座的闭合端；所述第一固定座上相对闭合端的另一端密封设置以形成一密闭腔体，所述第一直驱马达的输出端位于该密闭腔体中。

3.根据权利要求2所述的旋转馈入装置，其特征在于，所述第一固定组件还包括第一支撑套筒及第一端盖，所述第一固定座上相对闭合端的另一端与所述第一支撑套筒的一端固定连接，所述第一支撑套筒的另一端与所述第一端盖固定连接；所述第一直驱马达位于所述第一支撑套筒中。

4.根据权利要求1所述的旋转馈入装置，其特征在于，所述第一动密封组件包括套筒、磁流体密封件及密封圈，所述套筒固定于所述轴孔中，所述密封圈设置在所述套筒与所述第一固定组件之间，所述传动轴绕自身轴向转动套设在所述套筒内，所述磁流体设置在所述套筒的内壁与所述传动轴之间。

5.根据权利要求1至4任一项所述的旋转馈入装置，其特征在于，所述旋转馈入装置还包括第二固定组件及第二直驱马达；

所述第一固定组件转动连接于第二固定组件；

所述第二直驱马达固定于第二固定组件，其输出端连接于所述第一固定组件或所述第一直驱马达，以驱动所述第一固定组件转动。

6.根据权利要求5所述的旋转馈入装置，其特征在于，所述第二固定组件包括第二固定座，所述第二固定座为环状，所述第一固定座转动套设在所述第二固定座内；所述第一固定座与所述第二固定座之间设有第二动密封组件，所述第二动密封组件包括两个同轴设置的两个动密封圈及真空管道，所述第一固定座、所述第二固定座与两个所述动密封圈之间形成环状的密封空间，所述真空管道设置在所述第二固定座上，所述真空管道的一端连通至所述密封空间、另一端连通至一真空抽气装置。

7.根据权利要求5所述的旋转馈入装置，其特征在于，所述传动轴、所述第一直驱马达及所述第二直驱马达同轴设置。

8.一种真空沉积系统，其特征在于，包括权利要求1至3任一项所述的旋转馈入装置及真空腔室，所述真空腔室的腔壁上设有安装孔，所述旋转馈入装置安装于所述安装孔处；

所述旋转馈入装置的第一固定组件安装于所述安装孔，所述旋转馈入装置的第一直驱马达位于所述真空腔室外、传动轴上远离所述第一直驱马达的一端位于所述真空腔室中。

9.根据权利要求8所述的真空沉积系统，其特征在于，所述旋转馈入装置还包括第二固定组件及第二直驱马达；

所述第二固定组件密封固定于所述安装孔，所述第一固定组件转动连接于所述第二固定组件；

所述第二直驱马达固定于第二固定组件，其输出端连接于所述第一固定组件或所述第一直驱马达，以驱动所述第一固定组件转动。

10.根据权利要求9所述的真空沉积系统，其特征在于，所述真空沉积系统还包括设置在所述真空腔室中的传输装置；所述传输装置包括叉手及旋转台；所述叉手通过直线导向组件直线滑动连接于所述旋转台；所述叉手与所述传动轴之间设有传动组件，用于将所述传动轴的转动转化为所述叉手的直线移动；

所述旋转台转动设置于所述真空腔室的内壁，所述旋转台固定连接于所述第一固定组件。

Images