CN103596705A - 盖及盖用轧制件的制造方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种能够减少并简化作业工序的盖及盖用轧制件的制造方法。设于硬盘装置(1)且至少覆盖硬盘装置(1)的驱动机构的上表面,盖(2b)通过使用在轧制处理的同时实施表面加工,使外侧与内侧的算术平均粗糙度不同,且内侧的算术平均粗糙度比外侧的算术平均粗糙度小的轧制件而成形,从而能够减少并简化作业工序。
Description
技术领域
本发明涉及在硬盘装置等中使用的盖及盖用轧制件的制造方法。
背景技术
一直以来,在进行计算机等的信息处理的精密设备中使用硬盘装置。直到近年来,该硬盘装置不仅作为计算机的外部存储装置,还能够搭载于电视、摄像机等家电产品及汽车用的电子仪器类。
现有的硬盘装置在盖所覆盖的外壳主体内收纳有驱动机构。在现有的盖中,要求至少在外部侧的表面的划痕、污渍不显著,根据该要求而使用成为至少外部侧的表面的划痕、污渍不显著的规格(消光处理)的盖。作为进一步要求的特性,希望与驱动机构对置的内部侧的表面的清洁度高。
作为满足上述两个要求特性的情况,公开有借助粘弹性树脂而层叠两张不锈钢钢板的精密设备盖用树脂复合型不锈钢减振钢板(例如,参照专利文献1)。对于该不锈钢减振钢板,以实施外部侧的表面难以注意到划痕、污渍的消光处理,内部侧的表面清洁度高的光泽退火(BA)精加工的方式进行层叠。
先行技术文献
专利文献
专利文献1:日本专利第3956346号公报
发明概要
发明要解决的课题
然而,在专利文献1中公开的不锈钢减振钢板存在因使多个钢板层叠而导致作业工序多且变得繁琐这样的问题。
发明内容
本发明是鉴于上述情况而完成的,其目的在于提供一种能够减少并简化作业工序的盖及盖用轧制件的制造方法。
解决方案
为了解决上述的课题、实现目的,本发明所涉及的盖设于精密设备且至少覆盖该精密设备的驱动机构,其特征在于,使用在外侧的表面与内侧的表面算术平均粗糙度不同的轧制件而成形,所述内侧的表面的算术平均粗糙度比所述外侧的表面的算术平均粗糙度小。
另外,本发明所涉及的盖在上述的发明的基础上,其特征在于,所述内侧的表面的算术平均粗糙度在0.1μm以下。
另外,本发明所涉及的盖在上述的发明的基础上,其特征在于,所述外侧的表面的算术平均粗糙度在0.2μm以上。
另外,本发明所涉及的盖用轧制件的制造方法为在设于精密设备且至少覆盖该精密设备的驱动机构的盖中使用的盖用轧制件的制造方法,其特征在于,包括:多级碾磨轧制步骤,在该步骤中,将带状材料轧制成所希望的板厚,并且实施使一方的表面的算术平均粗糙度比另一方的表面的算术平均粗糙度小的表面加工;光泽退火步骤,在该步骤中,在所述多级碾磨轧制步骤之后,对实施了所述轧制及所述表面加工的所述带状材料实施光泽退火处理。
另外,本发明所涉及的盖用轧制件的制造方法在上述的发明的基础上,其特征在于,所述盖用轧制件的制造方法还包括表皮光轧步骤,在该步骤中,对在所述光泽退火步骤中实施了光泽退火处理的所述带状材料借助比所述多级碾磨轧制步骤小的载重来实施轻轧制处理。
发明效果
本发明所涉及的盖及盖用轧制件的制造方法中,借助轧制时的工作轧辊的表面而对于一方的表面实施算术平均粗糙度在0.2μm以上的无光泽加工,对另一方的表面实施算术平均粗糙度在0.1μm以下的光泽加工,因此起到能够减少并简化作业工序这样的效果。
附图说明
图1是表示本发明的实施方式所涉及的硬盘装置的概要结构的立体图。
图2是表示图1所示的硬盘装置的主要部分的结构的分解立体图。
图3是表示图1所示的硬盘装置的主要部分的结构的立体图。
图4是表示本发明的实施方式所涉及的外壳主体的盖用轧制件的制造方法的一例的流程图。
图5是表示本发明的实施方式所涉及的外壳主体的盖用轧制件的制造处理的概要的示意图。
图6是表示本发明的实施方式所涉及的清洁度试验的图表。
图7是表示本发明的实施方式所涉及的清洁度试验的曲线表。
具体实施方式
以下,参照附图对用于实施本发明的方式进行详细地说明。需要说明的是,本发明并不被以下的实施方式所限定。另外,在以下的说明中参照的各图只不过以能够理解本发明的内容的程度简要示出形状、大小、及位置关系。即,本发明并不仅局限于在各图所例示的形状、大小、及位置关系。需要说明的是,在以下的说明中,使用精密设备即硬盘装置的结构作为盖的例而进行说明。
图1是表示本发明的实施方式所涉及的硬盘装置的概要结构的立体图。另外,图2是表示本发明的实施方式所涉及的硬盘装置的概要结构的分解立体图。硬盘装置1在外壳主体2内收纳有驱动机构。外壳主体2具有:收纳驱动机构的呈大致矩形状的收纳部2a;与收纳部2a的开口一致的呈大致矩形形状且覆盖收纳部2a的开口的盖2b。驱动机构具有:作为记录介质的硬盘3;驱动硬盘3旋转的主轴4;支承进行向硬盘3的信息记录及从硬盘3的信息读出的磁头50且在硬盘3的面上转动的滑架5;在由卷中流通的电流与磁场产生的力的作用下驱动滑架5且使滑架5精密地转动而控制磁头50的扫描的VCM6;固定于外壳主体2而与滑架5连结且具有轴承的结构的大致柱状的枢轴7。
收纳部2a使用铝等散热性高的材料而形成,上部开口且形成可收纳驱动机构的大致长方体的空间。
盖2b使用作为轧制件的板状的不锈钢而成形,为了与沿着外缘而设于收纳部2a的孔部21连结,设有在板厚方向上贯通的孔部20。通过向该孔部20、21之间插入螺钉22而进行螺纹连接,由此收纳部2a与盖2b被固定。此时,图2所示的盖2b的、与收纳部2a连结时成为外部侧的外部侧表面S1实施表面的算术平均粗糙度(Ra)为例如0.2~0.3μm的无光泽(2D)加工。需要说明的是,外部侧表面S1的表面的算术平均粗糙度只要在0.2μm以上即可。
图3是表示本实施方式所涉及的硬盘装置的盖的立体图。图3是翻转图2所示的盖2b的上下而观察到的图,内部侧表面S2与收纳部2a侧即驱动机构对置。内部侧表面S2实施表面的算术平均粗糙度(Ra)为例如0.08~0.09μm的光泽(2B)加工。需要说明的是,内部侧表面S2的表面的算术平均粗糙度只要在0.1μm以下即可。
由板状的不锈钢形成的盖2b由具有不同的粗糙度的两个表面(外部侧表面S1、内部侧表面S2)构成。由此,能够在硬盘装置1的外部侧的面难以注意到划痕、污渍,在内部侧的面提高清洁度。
滑架5具有在硬盘3的面上延伸且以前端保持磁头50的臂51。磁头50设于同与臂51的相连侧不同的一侧的端部,且进行信息记录及信息读出。臂51在端部且是同与枢轴7的连结侧不同的端部侧具有借助因硬盘3的旋转产生的空气流而能够相对于硬盘3的面浮起的悬架。该悬架具有能够在与硬盘3的面垂直的方向上往复移动的弹性,并在端部支承磁头50。
图4是表示本发明的实施方式所涉及的外壳主体的盖用轧制件的制造方法的一例的流程图。首先,对被热轧的带状材料(热卷)进行基于冷轧的多级碾磨轧制处理(步骤S102)。在多级碾磨轧制处理中,使用工作轧辊将作为热卷而卷绕成卷状的带状材料阶段性地轧制成所希望的板厚,并且对板面实施表面加工。通过该表面加工,对一方的表面实施算术平均粗糙度在0.2μm以上的无光泽加工,而对另一方的表面实施算术平均粗糙度在0.1μm以下的光泽加工。由此,在多级碾磨轧制处理中,获得加工成规定的板厚且算术平均粗糙度不同的表面的带状材料。
图5是表示多级碾磨轧制处理的概要的示意图。在多级碾磨轧制处理中,如图5所示,带状构件100在通过第一工作轧辊101a及第二工作轧辊102a之间时轧制成与第一工作轧辊101a和第二工作轧辊102a之间的分离距离对应的板厚。另外,在多级碾磨轧制处理中,沿着各工作轧辊而分别配设有中间轧辊101b、102b及支承轧辊101c、102c,从而抑制各工作轧辊的辊的轴心方向上的挠曲。
带状构件100在第一工作轧辊101a与第二工作轧辊102a之间往复。此时,第一工作轧辊101a与第二工作轧辊102a之间的分离距离伴随着带状构件100的往复而阶段性地变窄,最终与所希望的板厚同等。由此,带状构件100以成为所希望的板厚的方式成形。
此时,第一工作轧辊101a及第二工作轧辊102a中的进行轧制侧的表面以成为规定的算术平均粗糙度的方式加工。例如,第一工作轧辊101a的表面实施表面的算术平均粗糙度为例如0.2~0.3μm的无光泽加工。另外,第二工作轧辊102a实施表面的算术平均粗糙度为例如0.08~0.09μm的光泽加工。由此,在多级碾磨轧制处理中,加工成算术平均粗糙度不同的表面。
需要说明的是,在上述的多级碾磨轧制处理中,对使用一组的工作轧辊而阶段性地减小板厚的情况进行了说明,但也可以是依次通过多组的工作轧辊之间而阶段性地轧制带状构件100而成形为所希望的板厚。此时,各组的工作轧辊间的分离距离随着带状构件100的行进方向而变小,在最后段的工作轧辊间的分离距离与所希望的板厚同等。
接着,在多级碾磨轧制处理后,实施光泽退火(BA)处理(步骤S104)。在光泽退火处理中,在无氧化性环境下进行多级碾磨轧制处理后的材料的退火。
然后,为了防止拉延成形时的拉伸应变而进行表皮光轧(步骤S106)。该表皮光轧对实施了光泽退火处理的材料施加比多级碾磨轧制处理小的载重而进行轧制处理(轻轧制处理),除了除去变形以外,还使用上述的工作轧辊来实施表面加工。
根据上述的步骤S102~S106的处理,轧制成规定的板厚且实施了表面加工的轧制件作为冷轧后卷而卷绕为卷状。盖2b通过由该冷轧后卷塑形而获得。
需要说明的是,在轧制中使用的带状材料如果是在不需要拉延成形的产品中使用的材料的话,也可以不进行表皮光轧。另外,用作工作轧辊的材料是至少轧制的表面的硬度比带状材料高即可。
在上述的盖用轧制件的制造方法中,能够在轧制带状构件100而调整板厚的同时实施表面加工。由此,能够不使带状构件100在多个装置间进行移动及再配置而使用一个装置(一个生产线)来减少并简化工序数,从而来制造盖用轧制件。
在此,在作为实施盖用轧制件的表面加工的方法而对两表面实施了光泽加工之后,还考虑通过研磨来实施无光泽加工。在该情况下,除了需要研磨装置之外,还可能因组装到一个生产线上而导致装置结构变得复杂。另外,由于因研磨而产生屑末,因此还需要除去的机构,从而难以减少制造所涉及的工序数。
根据上述的本实施方式,因轧制时的工作轧辊的表面不同,对一方的表面实施算术平均粗糙度在0.2μm以上的无光泽加工,对另一方的表面实施算术平均粗糙度在0.1μm以下的光泽加工,因此能够满足外表面与内表面所要求的特性,并且能够减少并简化硬盘装置的制造所涉及的工序,从而能够降低成本。
在此,参照图6、7而对本实施方式所涉及的盖2b的内部侧表面S2(光泽加工面)与现有的盖的内部侧表面(无光泽加工面)的清洁度进行说明。首先,作为本实施方式所涉及的盖,将由根据上述的制造方法而成形的盖用轧制件塑形而得到的盖用于清洁度试验。在清洁度试验对象的光泽加工面中,例如对表面实施算术平均粗糙度为0.081μm的光泽加工。在清洁度试验中,使用由SUS430形成的呈相同的形状的五个盖而分别进行清洁度试验。
另外,在作为清洁度比较对象的内部侧表面具有无光泽加工面的现有的盖,例如,对无光泽加工面实施算术平均粗糙度为0.273μm的无光泽加工。另外,在清洁度试验中,使用由SUS430形成的呈相同的形状的五个盖而分别进行清洁度试验。在此,盖的形状呈与具有上述的光泽加工面的本实施方式所涉及的盖相同的形状,作为试验对象面的无光泽加工面的面积与光泽加工面的面积相同。
清洁度试验中,以恒定量的纯水冲洗盖的试验对象面,集中该冲洗后的纯水,并对纯水中的垃圾量进行测定。垃圾量的测定使用液中颗粒计数器(Liquid Particle Counter,PMS公司制,型号为CLS-700)。对各自的五个盖依次进行该清洁度试验,并进行颗粒直径以上的颗粒测定。需要说明的是,在该清洁度试验中,将清洁度设为垃圾量(个数)。
图6是表示清洁度试验的结果的图表。另外,图7是表示基于清洁度试验结果的清洁度的平均(黑方块)、最大值及最小值的曲线图。上述的清洁度试验的结果是,光泽加工面的平均清洁度为约1703个,无光泽加工面的平均清洁度为31020个。另外,光泽加工面中的清洁度的最大值为4347个,比无光泽加工面中的清洁度的最小值即25500个少。由此,能够确认光泽加工面的清洁度比无光泽加工面高。
另外,作为精密设备的盖的内部侧的清洁度,当以上述的清洁度试验中的面的面积进行换算时,要求其大小约在以上的颗粒为几千个以下。上述的光泽加工面(内部侧表面S2)满足该条件,并满足作为在精密设备中使用的盖的要求性能。
工业上的可利用性
如以上那样,本发明所涉及的盖及盖用轧制件的制造方法对于减少并简化作业工序的情况是有用的。
附图标记说明如下:
Claims (5)
1.一种盖,其设于精密设备且至少覆盖该精密设备的驱动机构,
所述盖的特征在于,
使用在外侧的表面与内侧的表面算术平均粗糙度不同的轧制件而成形,所述内侧的表面的算术平均粗糙度比所述外侧的表面的算术平均粗糙度小。
2.根据权利要求1所述的盖,其特征在于,
所述内侧的表面的算术平均粗糙度在0.1μm以下。
3.根据权利要求1或2所述的盖,其特征在于,
所述外侧的表面的算术平均粗糙度在0.2μm以上。
4.一种盖用轧制件的制造方法,该盖用轧制件在设于精密设备且至少覆盖该精密设备的驱动机构的盖中使用,
所述盖用轧制件的制造方法的特征在于,包括:
多级碾磨轧制步骤,在该步骤中,将带状材料轧制成所希望的板厚,并且实施使一方的表面的算术平均粗糙度比另一方的表面的算术平均粗糙度小的表面加工;
光泽退火步骤,在该步骤中,在所述多级碾磨轧制步骤之后,对实施了所述轧制及所述表面加工的所述带状材料实施光泽退火处理。
5.根据权利要求4所述的盖用轧制件的制造方法,其特征在于,
所述盖用轧制件的制造方法还包括表皮光轧步骤,在该步骤中,对在所述光泽退火步骤中实施了光泽退火处理的所述带状材料借助比所述多级碾磨轧制步骤小的载重来实施轻轧制处理。
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