CN103586229A - 一种提高纳米印章抗粘性能的方法 - Google Patents

一种提高纳米印章抗粘性能的方法 Download PDF

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Abstract

本发明公开了一种提高纳米印章抗粘性能的方法，包括如下步骤：（1）将纳米印章放入清洗溶液中清洁，然后吹干，转移到干燥环境中；（2）用异丙醇冲洗纳米印章5～10分钟；（3）将纳米印章放入无水异辛烷中5～10分钟；（4）在步骤（3）得到的纳米印章旋涂上抗粘层；（5）清洗纳米印章，然后用氮气吹干。本发明提供的提高纳米印章抗粘性能的方法操作步骤简单，能大大降低模板的自由能，缩短脱模时间，延长纳米印章的使用寿命。

Description

一种提高纳米印章抗粘性能的方法
技术领域
本发明涉及微加工领域，具体涉及一种提高纳米印章抗粘性能的方法。
背景技术
纳米印章表面凸起或凹陷结构越多，意味着与聚合物接触的表面越多，越容易引起聚合物和印章间的粘连。这些表面对印章的寿命有着非常重要的影响，直接决定了压印技术能否在工业界大量应用。
发明内容
发明目的：为了克服现有技术中存在的不足，本发明提供的提高纳米印章抗粘性能的方法，工艺简单、效率高，适合推广应用。
技术方案：为解决上述技术问题，本发明的采用的技术方案为：一种提高纳米印章抗粘性能的方法，包括如下步骤：
（1）将纳米印章放入清洗溶液中清洁，然后吹干，转移到干燥环境中；
（2）用异丙醇冲洗纳米印章5～10分钟；
（3）将纳米印章放入无水异辛烷中5～10分钟；
（4）在步骤（3）得到的纳米印章旋涂上抗粘层；
（5）清洗纳米印章，然后用氮气吹干。
优选地，所述步骤（1）中采用的清洗溶液为混合比例为1：1：4的NH4OH:H2O2:H2O。
优选地，所述的抗粘层为道康宁DC系列。
优选地，所述步骤（4）旋涂时匀胶机转速设为2500～3000转，旋转时间为1～1.5分钟。
优选地，所述步骤（5）中清洗印章包括丙醇超声4～5分钟，去离子水超声2～3分钟。
有益效果：本发明提供的提高纳米印章抗粘性能的方法操作步骤简单，能大大降低模板的自由能，缩短脱模时间，延长纳米印章的使用寿命。
具体实施方式
实施例1：
一种提高纳米印章抗粘性能的方法，包括如下步骤：
（1）将纳米印章放入清洗溶液中清洁，然后吹干，转移到干燥环境中，；
（2）用异丙醇冲洗纳米印章5分钟；
（3）将纳米印章放入无水异辛烷中5分钟；
（4）在步骤（3）得到的纳米印章旋涂上道康宁的DC20抗粘层，旋涂时匀胶机转速设为2500转，旋转时间为1.5分钟；
（5）通过丙醇超声4分钟，去离子水超声2分钟清洗纳米印章，然后用氮气吹干。
以上所述仅是本发明的优选实施方式，应当指出：对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。

Claims (5)

1.一种提高纳米印章抗粘性能的方法，其特征在于，包括如下步骤：
（1）将纳米印章放入清洗溶液中清洁，然后吹干，转移到干燥环境中，；
（2）用异丙醇冲洗纳米印章5～10分钟；
（3）将纳米印章放入无水异辛烷中5～10分钟；
（4）在步骤（3）得到的纳米印章旋涂上抗粘层；
（5）清洗纳米印章，然后用氮气吹干。
2.根据权利要求1所述的提高纳米印章抗粘性能的方法，其特征在于：所述步骤（1）中采用的清洗溶液为混合比例为1：1：4的NH4OH:H2O2:H2O。
3.根据权利要求1所述的提高纳米印章抗粘性能的方法，其特征在于：优选地，所述的抗粘层为道康宁DC系列。
4.根据权利要求1所述的提高纳米印章抗粘性能的方法，其特征在于：所述步骤（4）旋涂时匀胶机转速设为2500～3000转，旋转时间为1～1.5分钟。
5.根据权利要求1所述的提高纳米印章抗粘性能的方法，其特征在于：所述步骤（5）中清洗印章包括丙醇超声4～5分钟，去离子水超声2～3分钟。
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PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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