CN103489648A - 提高电解电容器阳极块介质氧化膜厚度均匀性的方法 - Google Patents
提高电解电容器阳极块介质氧化膜厚度均匀性的方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN103489648A CN103489648A CN201310485421.3A CN201310485421A CN103489648A CN 103489648 A CN103489648 A CN 103489648A CN 201310485421 A CN201310485421 A CN 201310485421A CN 103489648 A CN103489648 A CN 103489648A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- electrolytic capacitor
- dielectric oxide
- anode block
- conductive frame
- oxide film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)
Abstract
本发明公开了一种提高电解电容器阳极块介质氧化膜厚度均匀性的方法；旨在提供一种在各电解电容器阳极坯块表面均匀制备介质氧化膜的方法，以提高电解电容器产品的合格率。它包括将均匀分布有若干阳极坯块的多根辅助金属条固定在金属支架上，将该金属支架浸入电解液中进行电化学处理，在电化学处理前先将呈王字形结构的导电框架重叠于金属支架上，并保证该导电框架与各辅助金属条接触，然后将电源正极与导电框架的中心位置连接、电源负极与电解槽连接。采用本发明可使电流通向各阳极坯块的路径相同、保证了电场强度均匀，从而使各阳极坯块表面生成的介质氧化膜厚度均匀；是一种在电解电容器阳极块表面制备介质氧化膜方法。
Description
技术领域
本发明涉及一种电解电容器的制备方法，尤其涉及一种在电解电容器阳极块表面制备介质氧化膜方法。
背景技术
目前，通常利用电化学方法在钽、钛、铝、铌等阀金属电解电容器阳极坯块表面制备介质氧化膜；其方法是将若干阳极坯块均匀点焊在辅助金属条上，再将各辅助金属条固定在与电源正极连接的金属支架上，然后将该金属支架浸入与电源负极连接的电解槽中进行电化学处理。由于电源正极与金属支架之间、电源负极与电解槽之间均为点连接，电解槽中的电场是由强到弱、呈四周向中心递减的趋势分布；因此处于外围的阳极坯块距离连接点较近、先发生电化学反应，而靠近中间位置的哪些阳极坯块距离连接点较远、后发生电化学反应；随着时间的推移，外围阳极坯块所形成的介质氧化膜厚度与靠近中间位置的阳极坯块所形成的介质氧化膜厚度不一致，最终影响电解电容器产品的合格率。
发明内容
针对现有技术中存在的上述缺陷，本发明旨在提供一种提高电解电容器阳极块介质氧化膜厚度均匀性的方法，该方法可确保在各电解电容器阳极坯块表面均匀制备介质氧化膜，从而提高电解电容器产品的合格率。
为了实现上述目的，本发明采用的技术方案包括将均匀分布有若干阳极坯块的多根辅助金属条固定在金属支架上，将该金属支架浸入电解液中进行电化学处理，在进行电化学处理前先将呈王字形结构的导电框架重叠于所述金属支架上，并保证该导电框架与所述各辅助金属条接触，然后将电源的正极与所述导电框架的中心位置连接、电源的负极与电解槽连接。
与现有技术比较，本发明采用了上述技术方案，将王字形结构的导电框架与各辅助金属条保持接触，并将电源的正极与该导电框架的中心连接；
因此能够减小电源输出端到各阳极坯块之间的电压误差、使电流通向各阳极坯块的路径相同、保证了电场强度均匀，从而使各阳极坯块表面生成的介质氧化膜厚度均匀。
以下是对本发明方法制备的电解电容器阳极块介质氧化膜以及采用本传统方法制备的电解电容器阳极块介质氧化膜进行测试的一组对比数据：
表1：本发明方法制备的电解电容器阳极块介质氧化膜厚度
从上表1、表2可看出：采用本发明方法制备的各电解电容器阳极块之间的介质氧化膜厚度误差最大为1nm、同一电解电容器阳极块上不同测试点的介质氧化膜厚度误差最大为1nm，而传统方法制备的各电解电容器阳极块之间的介质氧化膜厚度误差最大为10nm、同一电解电容器阳极块上不同测试点的介质氧化膜厚度误差最大为10nm。
具体实施方式
下面结合具体的实施例对本发明作进一步说明，具体方法如下：
1）将多个阳极坯块通过点焊的方式均匀固定在多根辅助金属条上；
2）将各所述辅助金属条固定在金属支架上；
3）将呈王字形结构的导电框架重叠于所述金属支架上，并保证该导电框架与各辅助金属条接触；
4）将电源的正极与所述导电框架的中心位置连接、电源的负极与所述电解槽连接；
5）将金属支架连同阳极坯块浸入盛有磷酸溶液的电解槽中，按常规工艺进行电化学处理，直至在阳极坯块形成介质氧化膜。
Claims (1)
1. 一种提高电解电容器阳极块介质氧化膜厚度均匀性的方法，包括将均匀分布有若干阳极坯块的多根辅助金属条固定在金属支架上，将该金属支架浸入电解液中进行电化学处理，其特征在于：在进行电化学处理前先将呈王字形结构的导电框架重叠于所述金属支架上，并保证该导电框架与所述各辅助金属条接触，然后将电源的正极与所述导电框架的中心位置连接、电源的负极与电解槽连接。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201310485421.3A CN103489648A (zh) | 2013-10-16 | 2013-10-16 | 提高电解电容器阳极块介质氧化膜厚度均匀性的方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN201310485421.3A CN103489648A (zh) | 2013-10-16 | 2013-10-16 | 提高电解电容器阳极块介质氧化膜厚度均匀性的方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN103489648A true CN103489648A (zh) | 2014-01-01 |
Family
ID=49829801
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN201310485421.3A Pending CN103489648A (zh) | 2013-10-16 | 2013-10-16 | 提高电解电容器阳极块介质氧化膜厚度均匀性的方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN103489648A (zh) |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003086467A (ja) * | 2001-09-12 | 2003-03-20 | Rohm Co Ltd | 固体電解コンデンサ用コンデンサ素子における誘電体層の形成方法及びその装置 |
| CN101494118A (zh) * | 2008-01-22 | 2009-07-29 | 阿维科斯公司 | 用于电解电容器的经表面活性剂处理的烧结的阳极颗粒 |
| JP4381107B2 (ja) * | 2003-11-12 | 2009-12-09 | 三洋電機株式会社 | 固体電解コンデンサの製造方法及び製造装置 |
| CN203165672U (zh) * | 2013-01-15 | 2013-08-28 | 中国振华（集团）新云电子元器件有限责任公司 | 一种提高钽阳极块内部电场均匀性的结构 |
| CN103572350A (zh) * | 2012-08-07 | 2014-02-12 | 中国振华（集团）新云电子元器件有限责任公司 | 一种厚度一致的氧化膜形成技术 |
-
2013
- 2013-10-16 CN CN201310485421.3A patent/CN103489648A/zh active Pending
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003086467A (ja) * | 2001-09-12 | 2003-03-20 | Rohm Co Ltd | 固体電解コンデンサ用コンデンサ素子における誘電体層の形成方法及びその装置 |
| JP4381107B2 (ja) * | 2003-11-12 | 2009-12-09 | 三洋電機株式会社 | 固体電解コンデンサの製造方法及び製造装置 |
| CN101494118A (zh) * | 2008-01-22 | 2009-07-29 | 阿维科斯公司 | 用于电解电容器的经表面活性剂处理的烧结的阳极颗粒 |
| CN103572350A (zh) * | 2012-08-07 | 2014-02-12 | 中国振华（集团）新云电子元器件有限责任公司 | 一种厚度一致的氧化膜形成技术 |
| CN203165672U (zh) * | 2013-01-15 | 2013-08-28 | 中国振华（集团）新云电子元器件有限责任公司 | 一种提高钽阳极块内部电场均匀性的结构 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| MX2015000412A (es) | Sistema y metodo electroquimicos para electropulir las cavidades superconductoras de radio frecuencia. | |
| Kashapov et al. | Research of the impact acidity of electrolytic cathode on the course of the plasma-electrolytic process | |
| CN103985877A (zh) | 表面含有导电聚合物膜的锂离子电池集流体处理工艺 | |
| KR20140018538A (ko) | 전기화학적 환원에 의한 환원 산화그래핀의 제조방법 | |
| CN105200509A (zh) | 一种电子储能材料的清洗方法 | |
| CN103606703A (zh) | 一种电流密度均匀且稳定的锂离子电池 | |
| CN105018982B (zh) | 一种利用离子液体低温电沉积制备钴锰合金的方法 | |
| CN101409156A (zh) | 固体电解电容器制备过程中铝箔的边缘修补方法 | |
| JP2004139951A (ja) | 燃料電池用セパレータおよびその製造方法 | |
| CN108007950B (zh) | Ipmc驱动过程中金属电极动态修复的方法 | |
| CN104357886A (zh) | 中高压阳极用高纯铝箔表面化学沉积弥散锡、锌晶核的方法 | |
| CN104966835A (zh) | 一种在Ag基底上电解制备AgVO3薄膜的方法 | |
| CN105513802B (zh) | 一种含复合介质膜低压化成箔的制造方法 | |
| CN103489648A (zh) | 提高电解电容器阳极块介质氧化膜厚度均匀性的方法 | |
| CN103887085A (zh) | 混合型超级钽电容器用高压电解质及其制备方法 | |
| CN206359652U (zh) | 退镀装置 | |
| JP5737727B2 (ja) | マグネシウム電池 | |
| CN1805088A (zh) | 一种铝电解电容器介电质膜的制备方法 | |
| CN103572350B (zh) | 一种厚度一致的氧化膜形成技术 | |
| CN109326449A (zh) | 固体电解电容器的制备方法 | |
| Dai et al. | Effects of lead-foam grids on performance of VRLA battery | |
| CN109727775B (zh) | 一种双v发孔腐蚀制备中高压阳极铝箔长短孔结构的方法 | |
| CN112701356A (zh) | 软包装锂离子电池化成方法 | |
| RU2008115739A (ru) | Способ микродугового оксидирования | |
| CN104752704A (zh) | 一种利用离子液体电沉积制备多孔锗的方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
| WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20140101 |