CN103436752A - 耐磨铝硅合金 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及特殊金属领域,特别涉及一种耐磨铝硅合金。本发明包括以下质量百分比的组分:铝30~50%,硅10~15%,镁5~10%,铬1~3%,锰1~5%。本发明的有益效果是:本发明提供一种耐磨铝硅合金,提高了耐磨铝硅合金的硬度,并且其耐腐蚀性也显著提高。
Description
技术领域
本发明涉及特殊金属领域,特别涉及一种耐磨铝硅合金。
背景技术
铝硅合金是一种常见的铝合金,铝硅比的变化可以使硬度产生非常大的影响,如硅含量7%以下时,铝硅合金具有良好的延展性,而硅含量超过铝硅共晶点后,合金的硬度和耐磨性显著提高,但现有的铝硅合金虽然耐磨性和硬度比较高,但是由于生产方法存在操作复杂、处理质量不易控制,而且其耐腐蚀性较低。
发明内容
针对以上对现有技术的不足,本发明所要解决的技术问题是:提供一种耐磨铝硅合金。
采用的技术方案是:一种耐磨铝硅合金,包括以下质量百分比的组分:铝30~50%,硅10~15%,镁5~10%,铬1~3%,锰1~5%。
进一步,所述耐磨铝硅合金还含有钛,钛的质量百分比为0.05~0.1%。
进一步,所述耐磨铝硅合金还含有钒,钒的质量百分比为0.01~0.05%。
本发明的有益效果是:本发明提供一种耐磨铝硅合金,提高了耐磨铝硅合金的的硬度,并且其耐腐蚀性也显著提高。
具体实施方式
实施例1 耐磨铝硅合金组方
铝 50%
硅 15%
镁 10%
铬 3%
锰 5%
钛 0.1%
钒 0.05%。
实施例2 耐磨铝硅合金组方
铝 30%
硅 10%
镁 5%
铬 1%
锰 1%
钛 0.05%
钒 0.01%。
实施例3耐磨铝硅合金组方
铝 40%
硅 13%
镁 8%
铬 2%
锰 3%
钛 0.08%
钒 0.03%。
Claims (3)
1.一种耐磨铝硅合金,其特征在与:包括以下质量百分比的组分:
铝 30~50%
硅 10~15%
镁 5~10%
铬 1~3%
锰 1~5%。
2.根据权利要求1所述的耐磨铝硅合金,其特征在于:所述耐磨铝硅合金还含有钛,钛的质量百分比为0.05~0.1%。
3.根据权利要求1所述的耐磨铝硅合金,其特征在于:所述耐磨铝硅合金还含有钒,钒的质量百分比为0.01~0.05%。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN2013103766535A CN103436752A (zh) | 2013-08-27 | 2013-08-27 | 耐磨铝硅合金 |
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Publication Number | Publication Date |
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CN103436752A true CN103436752A (zh) | 2013-12-11 |
Family
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Country Status (1)
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---|---|
CN (1) | CN103436752A (zh) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105154727A (zh) * | 2015-09-18 | 2015-12-16 | 张家港市和伟五金工具厂 | 一种抗蚀铝合金 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102808119A (zh) * | 2012-09-07 | 2012-12-05 | 重庆大学 | 一种轻质高温耐磨铝合金 |
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2013
- 2013-08-27 CN CN2013103766535A patent/CN103436752A/zh active Pending
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CN105154727A (zh) * | 2015-09-18 | 2015-12-16 | 张家港市和伟五金工具厂 | 一种抗蚀铝合金 |
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C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C12 | Rejection of a patent application after its publication | ||
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20131211 |