CN103417334A - 不致敏无规则透气胶带及其制备方法 - Google Patents

不致敏无规则透气胶带及其制备方法 Download PDF

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钱兴根
李进进
杨亦敏
徐天骥
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Abstract

本发明涉及不致敏无规则透气胶带及制备方法,在基材表面涂覆有胶黏剂层,胶黏剂层上设有形状无规则的透气孔。在保证胶带应有粘度的情况下,增加产品的透气性,提高产品的舒适性。使用过程中无致敏源,可直接接触皮肤,透气性较好。

Description

不致敏无规则透气胶带及其制备方法
技术领域
本发明涉及一种不致敏无规则透气胶带及其制备方法,属于医疗运动护理用品技术领域。
背景技术
目前,国内生产的胶带,如橡皮膏等都采取天然橡胶为原料制作胶黏剂,从而制作胶带,这类胶带不透气,人们在使用时感觉舒适性差;且因为天然橡胶中含有蛋白质成分,有些人群在使用时会出现皮肤过敏。
发明内容
本发明的目的是提供一种不致敏无规则透气胶带及其制备方法,旨在解决不透气、使用舒适性差和皮肤过敏等问题。
本发明的目的通过以下技术方案来实现:
不致敏无规则透气胶带,包含基材,在基材表面涂覆有胶黏剂层,胶黏剂层上设有形状无规则的透气孔。
进一步地,上述的不致敏无规则透气胶带,所述基材为平纹针织布或者无纺布。
更进一步地,上述的不致敏无规则透气胶带,所述胶黏剂层为合成胶胶黏剂层,所述合成胶胶黏剂的成分质量百分比为:合成胶为10~20%,增粘树脂为8~20%,氧化锌为5~15%,软化剂为0.1~1.5%,防老剂为0.1~0.5%,溶剂油为50~65% 。
不致敏无规则透气胶带的制备方法,包括以下步骤: 
①制备合成胶胶黏剂:先将合成胶溶于溶剂油,然后依次加入增粘树脂、氧化锌、软化剂、防老剂等,搅拌混匀后,过滤除去气泡;
②在基材表面涂覆上述合成胶胶黏剂;
③将涂覆有胶黏剂层的基材通过涂胶辊与复合辊之间,以不同转速,控制涂胶辊与复合辊的速度差,在基材的胶黏剂层上产生摩擦透气孔。
本发明技术方案突出的实质性特点和显著的进步主要体现在:
本发明在保证胶带应有粘度的情况下,增加产品的透气性,提高产品的舒适性。使用过程中无致敏源,可直接接触皮肤,透气性较好。
附图说明
下面结合附图对本发明技术方案作进一步说明:
图1:本发明的截面结构示意图。
具体实施方式
本发明设计一种不致敏无规则透气胶带,胶带不仅有形状无规则的透气孔,且使用的胶黏剂采用合成胶为主要原料制作而成,不含蛋白质,在使用过程中无致敏源,可直接接触皮肤。
如图1所示,不致敏无规则透气胶带,包含基材1,在基材1表面涂覆有胶黏剂层2,胶黏剂层2上设有形状无规则的透气孔3。
其中,基材1为平纹针织布或者无纺布。
胶黏剂层2为合成胶胶黏剂层,所述合成胶胶黏剂的成分质量百分比为:合成胶为10~20%,增粘树脂为8~20%,氧化锌为5~15%,软化剂为0.1~1.5%,防老剂为0.1~0.5%,溶剂油为50~65% 。
不致敏无规则透气胶带的制备工艺为:
①制备合成胶胶黏剂:先将合成胶溶于溶剂油,然后依次加入增粘树脂、氧化锌、软化剂、防老剂等,搅拌混匀后,过滤除去气泡;
②在基材表面涂覆上述合成胶胶黏剂;
③将涂覆有胶黏剂层的基材通过涂胶辊与复合辊之间,以不同转速,控制涂胶辊与复合辊的速度差,在基材的胶黏剂层上产生摩擦透气孔。
综上所述,本发明在保证胶带应有粘度的情况下,增加产品的透气性,提高产品的舒适性。使用过程中无致敏源,可直接接触皮肤,透气性较好。
需要理解到的是:以上所述仅是本发明的优选实施方式,对于本技术领域的普通技术人员来说,在不脱离本发明原理的前提下,还可以作出若干改进和润饰,这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。

Claims (4)

1.不致敏无规则透气胶带,包含基材,其特征在于:在基材表面涂覆有胶黏剂层,胶黏剂层上设有形状无规则的透气孔。
2.根据权利要求1所述的不致敏无规则透气胶带,其特征在于:所述基材为平纹针织布或者无纺布。
3.根据权利要求1所述的不致敏无规则透气胶带,其特征在于:所述胶黏剂层为合成胶胶黏剂层,所述合成胶胶黏剂的成分质量百分比为:合成胶为10~20%,增粘树脂为8~20%,氧化锌为5~15%,软化剂为0.1~1.5%,防老剂为0.1~0.5%,溶剂油为50~65% 。
4.权利要求1所述的不致敏无规则透气胶带的制备方法,其特征在于包括以下步骤: 
①制备合成胶胶黏剂:先将合成胶溶于溶剂油,然后依次加入增粘树脂、氧化锌、软化剂、防老剂等,搅拌混匀后,过滤除去气泡;
②在基材表面涂覆上述合成胶胶黏剂;
③将涂覆有胶黏剂层的基材通过涂胶辊与复合辊之间,以不同转速,控制涂胶辊与复合辊的速度差,在基材的胶黏剂层上产生摩擦透气孔。
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PB01 Publication
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SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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