CN103412693A - 大尺寸电容屏制作方法及大尺寸电容屏 - Google Patents

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Abstract

本发明公开一种大尺寸电容屏制作方法，设置两片ITO玻璃，并在该ITO玻璃的ITO面上制作几何图案；将图案制作完成的ITO玻璃贴合在一起组成完整的信号传感装置；在所述ITO玻璃上表面紧密覆盖一层保护玻璃，组成表面保护层，完成制作。采用单面电阻的消影玻璃，并将玻璃的ITO阻值经过精确计算并保证线阻在IC计算范围以内；本发明还提供一种满足该方法的大尺寸电容屏，有效控制通道的阻值达到IC能驱动的效果，通过消影技术将ITO的蚀刻痕消掉，达到外观美观的效果，大尺寸设计满足多领域及不同环境的应用，可有效推广市场。

Description

大尺寸电容屏制作方法及大尺寸电容屏
技术领域
本发明涉及电容屏设计技术，尤其涉及一种大尺寸电容屏制作方法，更涉及一种满足该方法的大尺寸电容屏。
背景技术
电容式触摸屏是在玻璃表面镀上一层透明的特殊金属导电物质。当手指触摸在金属层上时，触点的电容就会发生变化，使得与之相连的振荡器频率发生变化，通过测量频率变化可以确定触摸位置获得信息。目前，由于传统电容屏制作的工艺及结构限制，在做出大尺寸的电容屏的时候，很难保证ITO线阻在IC能驱动的范围内，无法实现大尺寸电容屏的制作。
发明内容
本发明的目的在于，针对现有技术的不足，提供一种大尺寸电容屏制作方法，采用单面电阻的消影玻璃，并将玻璃的ITO阻值经过精确计算并保证线阻在IC计算范围以内；本发明还提供一种满足该方法的大尺寸电容屏，有效控制通道的阻值达到IC能驱动的效果，通过消影技术将ITO的蚀刻痕消掉，达到外观美观的效果。
为有效解决上述问题，本发明采取的技术方案如下：
一种大尺寸电容屏制作方法，该方法包括以下步骤：
(1)制作图案：设置两片ITO玻璃，并在该ITO玻璃的ITO面上制作几何图案；
(2)制作电容屏sensor：将图案制作完成的ITO玻璃贴合在一起组成完整的信号传感装置；
(3)制作保护层：在所述ITO玻璃上表面紧密覆盖一层保护玻璃，组成表面保护层，完成制作。
特别的，所述步骤(1)还包括以下步骤：
所述ITO玻璃为单面电阻的消影玻璃或ITO膜，且该ITO玻璃的ITO阻值通过精确计算后，保证线阻在集成电路的计算范围以内，或直接将图案制作在保护层的ITO层上。
特别的，所述步骤(2)还包括以下步骤：
所述ITO玻璃通过胶水或者OCA光学胶贴合在一起，或直接将单面的ITO消影玻璃与所述保护层粘合在一起。
特别的，所述步骤(3)还包括以下步骤：
所述保护层的制作可先将表面的保护玻璃成型后直接镀上ITO并做消影处理，将电容屏正面的图案直接制作到此ITO上，然后取另外的单面ITO消影玻璃或者膜制作背面的图案，最后将两者贴合在一起即可组成成品电容屏。
一种满足上述方法的大尺寸电容屏，包括两片相互贴合的ITO玻璃，与所述ITO玻璃的正面设有保护层，所述ITO玻璃上分别包括多种几何图案。
特别的，所述ITO玻璃为单面电阻的消影玻璃。
特别的，所述ITO玻璃由玻璃主体及ITO面组成。
本发明的有益效果：本发明提供的大尺寸电容屏制作方法采用单面电阻的消影玻璃，并将玻璃的ITO阻值经过精确计算并保证线阻在IC计算范围以内；本发明还提供的满足该方法的大尺寸电容屏，有效控制通道的阻值达到IC能驱动的效果，通过消影技术将ITO的蚀刻痕消掉，达到外观美观的效果，大尺寸设计满足多领域及不同环境的应用，可有效推广市场。
下面结合附图对本发明进行详细说明。
附图说明
图1是本发明公开的大尺寸电容屏制作方法流程图；
图2是本发明公开的大尺寸电容屏制作方法又一流程图；
图3是本发明公开的大尺寸电容屏组成结构示意图；
图4是本发明公开的大尺寸电容屏又一组成结构示意图。
具体实施方式
实施例：
如图1、图2、图3及图4所示，本实施例中的大尺寸电容屏制作方法包括以下步骤：
一种大尺寸电容屏制作方法，该方法包括以下步骤：
(1)制作图案：设置两片ITO玻璃，并在该ITO玻璃的ITO面上制作几何图案；所述ITO玻璃为单面电阻的消影玻璃或ITO膜，且该ITO玻璃的ITO阻值通过精确计算后，保证线阻在集成电路的计算范围以内，或直接将图案制作在保护层的ITO层上。
(2)制作电容屏sensor：将图案制作完成的ITO玻璃贴合在一起组成完整的信号传感装置；所述ITO玻璃通过胶水或者OCA光学胶贴合在一起，或直接将单面的ITO消影玻璃与所述保护层粘合在一起。
(3)制作保护层：在所述ITO玻璃上表面紧密覆盖一层保护玻璃，组成表面保护层，完成制作。所述保护层的制作可先将表面的保护玻璃成型后直接镀上ITO并做消影处理，将电容屏正面的图案直接制作到此ITO上，然后取另外的单面ITO消影玻璃或者膜制作背面的图案，最后将两者贴合在一起即可组成成品电容屏。
如图3及图4所示，一种满足上述方法的大尺寸电容屏，包括两片相互贴合的ITO玻璃，与所述ITO玻璃的正面设有保护层，所述ITO玻璃上分别包括多种几何图案。
所述ITO玻璃为单面电阻的消影玻璃。所述ITO玻璃由玻璃主体及ITO面组成。
本实施例重要技术原理为：
原理1：
将电容屏的图案分别制作在两片玻璃或者膜的ITO面，此ITO玻璃为消影玻璃单面电阻，玻璃的ITO阻值经过精确计算并保证线阻在IC计算范围以内，再将两片玻璃通过胶水或者OCA光学胶贴合在一起即组成了电容屏sensor，再贴上表面的保护玻璃，即组成了最终电容屏。
原理2：
先将表面的保护玻璃做好后镀ITO并做消影处理，将电容屏的正面的图案制作到此ITO上。再取一片单面的ITO消影玻璃或者膜将背面的图案制作在此玻璃上，最后将两者贴合在一起即可组成成品电容屏。
申请人声明，本发明通过上述实施例来说明本发明的实现方法及装置结构，但本发明并不局限于上述实施方式，即不意味着本发明必须依赖上述方法及结构才能实施。所属技术领域的技术人员应该明了，对本发明的任何改进，对本发明所选用实现方法等效替换及及步骤的添加、具体方式的选择等，均落在本发明的保护范围和公开范围之内。
本发明并不限于上述实施方式，凡采用和本发明相似结构及其方法来实现本发明目的的所有方式，均在本发明的保护范围之内。

Claims (7)

1.一种大尺寸电容屏制作方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：
（1）制作图案：设置两片ITO玻璃，并在该ITO玻璃的ITO面上制作几何图案；
（2）制作电容屏sensor：将图案制作完成的ITO玻璃贴合在一起组成完整的信号传感装置；
（3）制作保护层：在所述ITO玻璃上表面紧密覆盖一层保护玻璃，组成表面保护层，完成制作。
2.根据权利要求1所述的大尺寸电容屏制作方法，其特征在于，所述步骤（1）还包括以下步骤：
所述ITO玻璃为单面电阻的消影玻璃或ITO膜， 且该ITO玻璃的ITO阻值通过精确计算后，保证线阻在集成电路的计算范围以内，或直接将图案制作在保护层的ITO层上。
3.根据权利要求1所述的大尺寸电容屏制作方法，其特征在于，所述步骤（2）还包括以下步骤：
所述ITO玻璃通过胶水或者OCA光学胶贴合在一起，或直接将单面的ITO消影玻璃与所述保护层粘合在一起。
4.根据权利要求1所述的大尺寸电容屏制作方法，其特征在于，所述步骤（3）还包括以下步骤：
所述保护层的制作可先将表面的保护玻璃成型后直接镀上ITO 并做消影处理，将电容屏正面的图案直接制作到此ITO上，然后取另外的单面ITO消影玻璃或者膜制作背面的图案，最后将两者贴合在一起即可组成成品电容屏。
5.一种满足权利要求1所述方法的大尺寸电容屏，其特征在于，包括两片相互贴合的ITO玻璃，与所述ITO玻璃的正面设有保护层，所述ITO玻璃上分别包括多种几何图案。
6.根据权利要求5所述的大尺寸电容屏，其特征在于，所述ITO玻璃为单面电阻的消影玻璃。
7.根据权利要求5所述的大尺寸电容屏，其特征在于，所述ITO玻璃由玻璃主体及ITO面组成。
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