CN103363939A - 一种密封型三维单臂测量仪 - Google Patents

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CN103363939A CN 201310287281 CN201310287281A CN103363939A CN 103363939 A CN103363939 A CN 103363939A CN 201310287281 CN201310287281 CN 201310287281 CN 201310287281 A CN201310287281 A CN 201310287281A CN 103363939 A CN103363939 A CN 103363939A
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CN 201310287281
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周姝
李德维
徐俊
罗成
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API ZC Chengdu Precision Instrument Co Ltd
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Abstract

本发明公开了一种密封型三维单臂测量仪,包括滑轨以及与滑轨垂直连接的立柱,立柱上设置有与立柱垂直连接的水平臂,且水平臂的轴线与滑轨的轴线垂直,水平臂能够在立柱上垂直移动,水平臂能够沿着自身轴线做水平移动,立柱能够沿着滑轨移动,水平臂的其中一个端面设置有测量头,所述立柱的外壁和水平臂的外壁上均套合有防尘壳,防尘壳完全覆盖立柱或水平臂。该测量仪结构简单,利用在立柱和水平臂的外壁包裹一层能够伸缩的风琴片,隔离了外部粉尘,使得测量结果能够准确,能快速、有效地完成复杂零件、部件、模具件的空间尺寸、曲面的三维划线和检测。

Description

一种密封型三维单臂测量仪
技术领域
本发明涉及一种测量仪,尤其是涉及一种密封型三维单臂测量仪,属于机械领域。
背景技术
测量仪器是为了取得目标物某些属性值而进行衡量所需要的第三方标准,故测量仪器一般都具有刻度,容积等单位。一般分为接触试和光学试测量两种,概念其基本内容包括精度、误差、测量标准器材、长度测量、角度测量、形状测量、传统光学仪器、在精密测量上的应用等。在现代机械加工过程中,测量划线工作是保证产品质量,提高生产效率的重要手段,随着现代工业的发展,数控加工中心的日益增多,计算机辅助设计的普及,三坐标测量划线仪的作用不仅在于它比传统的计量器具增加了一两个坐标,扩大了测量对象,而且在于它是加工机床、计算机辅助设计以及反求设计等不可缺少的手段。由于测量仪是一种非常精密的设备,而使用的环境中含有各种杂质和灰尘,容易对测量仪内部元件造成污染,影响测量仪的测量准确性。
发明内容
本发明的目的在于克服现有测量仪在工作时容易被杂质干扰测量精度的问题,设计了一种密封型三维单臂测量仪,该测量仪结构简单,利用在立柱和水平臂的外壁包裹一层能够伸缩的风琴片,隔离了外部粉尘,使得测量结果能够准确,能快速、有效地完成复杂零件、部件、模具件的空间尺寸、曲面的三维划线和检测。
本发明的目的通过下述技术方案实现:一种密封型三维单臂测量仪,包括滑轨以及与滑轨垂直连接的立柱,立柱上设置有与立柱垂直连接的水平臂,且水平臂的轴线与滑轨的轴线垂直,水平臂能够在立柱上垂直移动,水平臂能够沿着自身轴线做水平移动,立柱能够沿着滑轨移动,水平臂的其中一个端面设置有测量头,所述立柱的外壁和水平臂的外壁上均套合有防尘壳,防尘壳完全覆盖立柱或水平臂。
进一步地,所述立柱外壁上均套合有外壳一,外壳一能够沿着立柱移动,水平臂的外壁上套合有外壳二,水平臂能够在外壳二内部移动,且外壳一和外壳二相互接触。
进一步地,所述立柱远离滑轨的一端设置有定位座,定位座的直径大于立柱的直径。
进一步地,所述水平臂的两端均设置有挡板,挡板的端面尺寸大于水平臂的端面尺寸,且挡板的轴线与水平臂的轴线重合,测量头穿过对应的挡板。
进一步地,所述立柱和滑轨之间设置有底座,底座的中心线和立柱的中心线设置在同一条直线上。
进一步地,所述防尘壳为柔性材料制成的风琴片,设置在立柱外壁的风琴片分别与底座和定位座以及外壳一连接,设置在水平臂外壁的风琴片分别与有外壳二和挡板连接。
进一步地,所述底座的底部设置支撑台,支撑台的底部设置有若干个滑槽,滑槽均与支撑台固定,滑轨设置在对应的滑槽内部,且滑槽分别与滑轨的顶面和侧壁接触。
进一步地,所述滑轨的数量为三条,相邻滑轨之间的距离相等。
综上所述,本发明的有益效果是:该测量仪结构简单,利用在立柱和水平臂的外壁包裹一层能够伸缩的风琴片,隔离了外部粉尘,使得测量结果能够准确,能快速、有效地完成复杂零件、部件、模具件的空间尺寸、曲面的三维划线和检测。
附图说明
图1是本发明的结构示意图。
附图中标记及相应的零部件名称:1—挡板;2—水平臂;3—防尘壳;4—定位座;5—外壳二;6—外壳一;7—立柱;8—底座;9—支撑台;10—滑槽;11—滑轨。
具体实施方式
下面结合实施例及附图,对本发明作进一步的详细说明,但本发明的实施方式不仅限于此。
实施例:
如图1所示,一种密封型三维单臂测量仪,包括滑轨11以及与滑轨11垂直连接的立柱7,立柱7上设置有与立柱7垂直连接的水平臂2,且水平臂2的轴线与滑轨11的轴线垂直,水平臂2能够在立柱7上垂直移动,水平臂2能够沿着自身轴线做水平移动,立柱7能够沿着滑轨11移动,水平臂2的其中一个端面设置有测量头,所述立柱7的外壁和水平臂2的外壁上均套合有防尘壳3,防尘壳3完全覆盖立柱7或水平臂2。通过将立柱7或水平臂2的移动,产生三维的移动,能够测量出准确的数值,而防尘壳3将立柱7和水平臂2构成一个封闭的环境,进行移动时不会由于外界的粉尘或者杂质影响移动的位置,使得测量准确。
所述立柱7外壁上均套合有外壳一6,外壳一6能够沿着立柱7移动,水平臂2的外壁上套合有外壳二5,水平臂2能够在外壳二5内部移动,且外壳一6和外壳二5相互接触。外壳是作为固定和为各自的立柱7或者水平臂2提供通道,使得其能够顺利地产生移动。
所述立柱7远离滑轨的一端设置有定位座4,定位座4的直径大于立柱7的直径;所述水平臂2的两端均设置有挡板1,挡板1的端面尺寸大于水平臂2的端面尺寸,且挡板1的轴线与水平臂2的轴线重合,测量头穿过对应的挡板1。定位座4或者挡板1都是挡住立柱7或者水平臂2,防止移动时超过其最大行程,使得发生意外。
所述立柱7和滑轨11之间设置有底座8,底座8的中心线和立柱7的中心线设置在同一条直线上;所述底座8的底部设置支撑台9,支撑台9的底部设置有若干个滑槽10,滑槽10均与支撑台9固定,滑轨11设置在对应的滑槽10内部,且滑槽10分别与滑轨11的顶面和侧壁接触。滑槽10是利用在滑轨11的顶面和侧壁的接触,通过摩擦和定位,使得立柱7的移动始终是沿着滑轨11的轴线做反复运动,测量线始终的在一条直线上。
所述防尘壳3为柔性材料制成的风琴片,设置在立柱7外壁的风琴片分别与底座8和定位座4以及外壳一6连接,设置在水平臂2外壁的风琴片分别与有外壳二5和挡板1连接。风琴片如同风琴上的保护膜,在受到压缩时能折叠收缩,受到拉伸是展开为一根筒状结构,在本发明中,利用风琴片的伸缩,将立柱7或水平臂2的外壁包裹住,防止灰尘或者杂质进入到其中,影响移动的精度,造成测量的误差的情况发生。
所述滑轨11的数量为三条,相邻滑轨11之间的距离相等。利用设置的多条滑轨11,使得测量仪在移动时能够稳定,多条滑轨11能够相互定位,稳定性更高。
本测量仪的供电电源DC 24V(±15%)/50Hz;要求使用交流稳压电源;供电电源应有良好可靠的接地线,接地电阻<4Ω,测量温度20℃±5℃,能保证精度要求。
采取上述方式,就能较好地实现本发明。

Claims (8)

1.一种密封型三维单臂测量仪,其特征在于:包括滑轨(11)以及与滑轨(11)垂直连接的立柱(7),立柱(7)上设置有与立柱(7)垂直连接的水平臂(2),且水平臂(2)的轴线与滑轨(11)的轴线垂直,水平臂(2)能够在立柱(7)上垂直移动,水平臂(2)能够沿着自身轴线做水平移动,立柱(7)能够沿着滑轨(11)移动,水平臂(2)的其中一个端面设置有测量头,所述立柱(7)的外壁和水平臂(2)的外壁上均套合有防尘壳(3),防尘壳(3)完全覆盖立柱(7)或水平臂(2)。
2.根据权利要求1所述的一种密封型三维单臂测量仪,其特征在于:所述立柱(7)外壁上均套合有外壳一(6),外壳一(6)能够沿着立柱(7)移动,水平臂(2)的外壁上套合有外壳二(5),水平臂(2)能够在外壳二(5)内部移动,且外壳一(6)和外壳二(5)相互接触。
3.根据权利要求2所述的一种密封型三维单臂测量仪,其特征在于:所述立柱(7)远离滑轨的一端设置有定位座(4),定位座(4)的直径大于立柱(7)的直径。
4.根据权利要求3所述的一种密封型三维单臂测量仪,其特征在于:所述水平臂(2)的两端均设置有挡板(1),挡板(1)的端面尺寸大于水平臂(2)的端面尺寸,且挡板(1)的轴线与水平臂(2)的轴线重合,测量头穿过对应的挡板(1)。
5.根据权利要求4所述的一种密封型三维单臂测量仪,其特征在于:所述立柱(7)和滑轨(11)之间设置有底座(8),底座(8)的中心线和立柱(7)的中心线设置在同一条直线上。
6.根据权利要求5所述的一种密封型三维单臂测量仪,其特征在于:所述防尘壳(3)为柔性材料制成的风琴片,设置在立柱(7)外壁的风琴片分别与底座(8)和定位座(4)以及外壳一(6)连接,设置在水平臂(2)外壁的风琴片分别与有外壳二(5)和挡板(1)连接。
7.根据权利要求5所述的一种密封型三维单臂测量仪,其特征在于:所述底座(8)的底部设置支撑台(9),支撑台(9)的底部设置有若干个滑槽(10),滑槽(10)均与支撑台(9)固定,滑轨(11)设置在对应的滑槽(10)内部,且滑槽(10)分别与滑轨(11)的顶面和侧壁接触。
8.根据权利要求1至7中任意一项所述的一种密封型三维单臂测量仪,其特征在于:所述滑轨(11)的数量为三条,相邻滑轨(11)之间的距离相等。
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C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
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