CN103345323A - 触摸显示屏及其滤光片组件以及该滤光片组件制备方法 - Google Patents

Abstract

一种滤光片组件，包括基片、遮光层、滤光层、第一导电层、基质层及第二导电层。基片包括相对设置的第一表面及第二表面，遮光层设于第一表面，第一导电层设于遮光层上，而基质层位于第二表面，第二导电层嵌设于基质层内，从而使得第二导电层与第一导电层形成感应电容结构。因此，滤光片组件可同时实现触控操作和滤光功能。作为显示屏中不可缺少的两个组件的组合，滤光片组件用于触摸显示屏中时，可直接使显示屏具有触控功能，无需再在显示屏上组装一触摸屏，从而有利于降低电子产品的厚度。此外，利用滤光片组件制备触摸显示屏时，可减少一次贴合工艺，从而还可节约材料并提高生产效率。此外，本发明还提供一种触摸显示屏以及滤光片组件制备方法。

Description

触摸显示屏及其滤光片组件以及该滤光片组件制备方法

技术领域

本发明涉及触摸屏技术，特别是涉及一种触摸显示屏及其滤光片组件以及该滤光片组件制备方法。

背景技术

触摸屏是可接收触摸等输入信号的感应式装置。触摸屏赋予了信息交互崭新的面貌，是极富吸引力的全新信息交互设备。触摸屏技术的发展引起了国内外信息传媒界的普遍关注，已成为光电行业异军突起的朝阳高新技术产业。

目前，具有触摸显示功能的电子产品均包括显示屏及位于显示屏上的触摸屏。然而，触摸屏作为与显示屏独立的组件，在用于一些实现人机交互的电子产品时，均需要根据显示屏的尺寸进行定购，之后再进行组装，以形成触摸显示屏，触摸显示屏可同时具有可触控操作为显示功能。现有的触摸屏与显示屏的组装主要有两种方式，即框贴及全贴合。框贴是将触摸屏与显示屏的边缘贴合，全贴合是将触摸屏的下表面与显示屏的上表面整面贴合。

显示屏主要包括偏光片、滤光片模块、液晶模块以及薄膜晶体管(TFT，ThinFilm Transistor)，由偏光片、滤光片模块、液晶模块以及薄膜晶体管组合成显示屏时，已经具有较大的厚度，而继续往显示屏上贴合触摸屏时，将进一步增大其厚度，从而有悖于电子产品轻薄化的发展趋势。

发明内容

基于此，有必要提供一种有利于降低电子产品厚度的触摸显示屏及其滤光片组件以及该滤光片组件制备方法。

一种滤光片组件，包括：

基片，包括第一表面及与所述第一表面相对设置的第二表面；

遮光层，附着于所述第一表面，所述遮光层为栅格线相互交叉形成的栅格状结构，所述遮光层包括多个栅格单元；

滤光层，附着于所述第一表面，所述滤光层包括多个间隔设置的滤光单元，多个所述滤光单元分别位于所述多个栅格单元内；

第一导电层，位于所述遮光层背向所述第一表面的一侧，所述第一导电层为导电丝线相互交叉形成的导电网格，所述第一导电层包括多个第一网格单元，形成所述第一导电层的导电丝线在所述遮光层上的投影位于所述栅格线内；

基质层，附着于所述第二表面；及

第二导电层，嵌设于所述基质层，所述第二导电层为导电丝线相互交叉形成的导电网格，所述第二导电层包括多个第二网格单元。

在其中一个实施例中，所述遮光层背向所述第一表面的一侧开设有第一网格凹槽，所述第一导电层由填充于所述第一网格凹槽中的导电材料形成，所述基质层背向所述基片的一侧开设有第二网格凹槽，所述第二导电层由填充于所述第二网格凹槽中的导电材料固化形成。

在其中一个实施例中，所述第一网格凹槽的深度大于或等于所述第一导电层的厚度且小于所述遮光层的厚度，所述第二网格凹槽的深度大于或等于所述第二导电层的厚度。

在其中一个实施例中，所述滤光层的厚度大于所述遮光层的厚度。

在其中一个实施例中，所述第一导电层由附着于所述遮光层背向所述第一表面的一侧的导电材料形成，所述基质层背向所述基片的一侧开设有第二网格凹槽，所述第二导电层由填充于所述第二网格凹槽中的导电材料形成。

在其中一个实施例中，所述滤光层的厚度大于所述遮光层与所述第一导电层的厚度之和。

在其中一个实施例中，形成所述第一导电层的导电丝线的宽度小于所述栅格线的宽度。

在其中一个实施例中，形成所述第二导电层的导电丝线在所述遮光层的投影位于所述栅格线内。

在其中一个实施例中，形成所述第二导电层的导电丝线的中心线与所述栅格线的中心线对齐。

在其中一个实施例中，至少包括一条形成所述第二导电层的导电丝线，其在所述遮光层的投影位于所述栅格单元内。

在其中一个实施例中，形成所述第二导电层的导电丝线的宽度介于0.2至5微米之间，所述第二网格单元的网格节点之间的距离介于50至500微米之间。

在其中一个实施例中，每一所述第一网格单元的范围内至少容纳一个所述滤光单元。

在其中一个实施例中，所述第一导电层形成多条相互绝缘的第一导电单元，所述第二导电层形成多条相互绝缘的第二导电单元。

一种触摸显示屏，包括层叠设置的薄膜晶体管电极、液晶模组、如上述优选实施例中任一项所述滤光片组件及上偏光片。

在其中一个实施例中，所述第二导电层朝向所述上偏光片。

一种滤光片组件制备方法，包括以下步骤：

提供一基片，所述基片包括第一表面及与所述第一表面相对设置的第二表面；

在所述第一表面形成由栅格线相互交叉形成的遮光层及位于所述遮光层的第一导电层，所述遮光层为栅格状结构，包括多个栅格单元；

向所述多个栅格单元内分别涂覆光阻材料，以形成多个间隔设置的滤光单元，所述多个滤光单元形成滤光层；

在所述第二表面涂覆压印胶并采用压印模具进行压印，使所述压印胶固化，以形成开设有第二网格凹槽的基质层，所述第二网格凹槽位于所述基质层背向所述基片的一侧；

向所述第二网格凹槽内填充导电材料并使其固化，以形成第二导电层。

在其中一个实施例中，所述在所述第一表面形成由栅格线相互交叉形成的遮光层及位于所述遮光层上的第一导电层，所述遮光层为栅格状结构，包括多个栅格单元的步骤具体为：

在所述第一表面涂覆黑色光刻胶并预固化，以形成黑色光刻胶层；

对所述黑色光刻胶层背向所述第一表面的一侧压印以形成第一网格凹槽，向所述第一网格凹槽填充导电材料并使其固化，以形成第一导电层；

采用曝光-显影技术将所述黑色光刻胶层蚀刻成栅格状结构，以得到所述遮光层。

在其中一个实施例中，所述在所述第一表面形成由栅格线相互交叉形成的遮光层及位于所述遮光层上的第一导电层，所述遮光层为栅格状结构，包括多个栅格单元的步骤具体为：

在所述第一表面涂覆黑色光刻胶并预固化，以形成黑色光刻胶层；

在所述黑色光刻胶层背向所述第一表面的一侧镀导电膜或涂覆导电墨水，以形成导电膜层；

在所述导电膜层上涂覆光刻胶并预固化，以形成光刻胶层，利用曝光-显影将所述光刻胶层蚀刻成栅格状；

对暴露于所述光刻胶层的导电膜层进行蚀刻，获得所述第一导电层；

利用显影液对暴露于所述导电膜层的黑色光刻胶层进行蚀刻，得到所述遮光层；

将所述光刻胶层附着于所述第一导电层的部分除去。

在其中一个实施例中，所述在所述第一表面形成由栅格线相互交叉形成的遮光层及位于所述遮光层上的第一导电层，所述遮光层为栅格状结构，包括多个栅格单元的步骤具体为：

在所述第一表面涂覆黑色光刻胶并预固化，以形成黑色光刻胶层，采用曝光-显影技术将所述黑色光刻胶层蚀刻成栅格状结构，以得到所述遮光层；

在所述遮光层背向所述第一表面的一侧镀导电膜或涂覆导电墨水，以形成导电膜层；

在所述导电膜层上涂覆光刻胶，并预固化以形成光刻胶层，采用曝光-显影技术将所述光刻胶层蚀刻成网格状；

对暴露于所述光刻胶层的导电膜层进行蚀刻，以获得所述第一导电层，并除去所述光刻胶层附着于所述第一导电层上的部分。

上述滤光片组件及使用该滤光片组件的触摸显示屏中，滤光片组件可同时实现触控操作和滤光功能。作为显示屏中不可缺少的两个组件的组合，滤光片组件用于触摸显示屏中时，可直接使显示屏具有触控功能，无需再在显示屏上组装一触摸屏，从而有利于降低电子产品的厚度。此外，利用上述滤光片组件制备触摸显示屏时，可减少一次贴合工艺，从而还可节约材料并提高生产效率。

附图说明

图1为本发明较佳实施例中触摸显示屏的结构示意图；

图2为图1所示触摸显示屏中滤光片组件的层状结构示意图；

图3为图2所示滤光片组件的立体图；

图4至图7为图3所示滤光片组件的局部放大图；

图8为另一个实施例中滤光片组件的层状结构示意图；

图9为又一个实施例中滤光片组件的层状结构示意图；

图10为一个实施例中滤光片组件制备方法的流程示意图；

图11为实施例一中形成遮光层及第一导电层的流程示意图；

图12为实施例二中形成遮光层及第一导电层的流程示意图；

图13为实施例三中形成遮光层及第一导电层的流程示意图；

图14为一个实施例中第一导电层的结构示意图；

图15为另一个实施例中第一导电层的结构示意图。

具体实施方式

为了便于理解本发明，下面将参照相关附图对本发明进行更全面的描述。附图中给出了本发明的较佳实施例。但是，本发明可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本发明的公开内容的理解更加透彻全面。

需要说明的是，当元件被称为“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本发明。本文所使用的术语“及／或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。

请参阅图1，本发明较佳实施例中的触摸显示屏10包括依次层叠的下偏光片101、薄膜晶体管电极102、液晶模组103、公共电极104、滤光片组件100及上偏光片105。

触摸显示屏可以为直下式、或侧入式光源的液晶显示屏。薄膜晶体管（TFT）电极102包括玻璃基层1021和设置在玻璃基层1021上的显示电极1023。液晶模组103包括液晶体层1032和夹持于液晶体层1032两侧的配向膜1034。

请一并参阅图2及图3，在本实施例中，滤光片组件100包括基片110、遮光层120、滤光层130、第一导电层140、基质层150及第二导电层160。其中：

基片110包括第一表面（图未标）及与第一表面相对设置的第二表面（图未标）。基片110起承载和保护作用，且基片110可透光。具体的，基片110的材质可为硅铝酸盐玻璃或钙钠玻璃。

遮光层120附着于第一表面。遮光层120可由带黑色染料的光刻胶、油墨及遮光树脂等非透明材料在第一表面固化形成。遮光层120为栅格线121相互交叉形成的栅格状结构，遮光层120包括多个栅格单元（图未标）。

请一并参阅图4，滤光层130附着于第一表面。滤光层130包括多个间隔设置的滤光单元131。多个滤光单元131分别位于多个栅格单元内，从而通过栅格线121将多个滤光单元131单个隔开。滤光单元131可分别由涂覆于第一表面的RGB（红绿蓝三原色）彩色光阻形成，具有滤光功能。从背光源发出的光线经过滤光单元131滤光，可分别得到对应颜色的光线。控制背光源的光线在不同颜色滤光单元131中的通过量，可混合得到各种颜色混合光，进而实现多色彩的显示。在本实施例中，栅格单元为正方形，从而将滤光单元131的形状也限定为正方形，进而使得多个滤光单元131的显色更均匀。可以理解，栅格单元也可为三角形、圆形或其他不规则形状。

第一导电层140位于遮光层120背向第一表面的一侧。第一导电层140为导电丝线相互交叉形成的导电网格，第一导电层140包括第一网格单元（图未标）。形成第一导电层140的导电丝线在遮光层120上的投影位于栅格线121内。具体在本实施例中，第一导电层140形成多条相互绝缘的第一导电单元141。

在本实施例中，形成第一导电层140的导电丝线的宽度小于栅格线121的宽度。为达到视觉透明效果，形成第一导电层140的导电丝线须被栅格线121遮挡。因此，为防止导电丝线露出栅格线121的遮挡范围，形成第一导电层140的导电丝线的宽度小于栅格线121的宽度。需要指出的是，在其他实施例中，形成第一导电层140的导电丝线的宽度还可等于栅格线121的宽度。

在本实施例中，每一第一网格单元的范围内至少容纳一个滤光单元131。具体的，第一网格单元可与滤光单元131一对一或一对多。如图4所示，一个第一网格单元的范围内仅包括一个滤光单元131；如图5所示，一个第一网格单元的范围内包含同一轴向上的多个滤光单元131；如图6所示，一个第一网格单元的范围内包含多个相互垂直的轴向上的多个滤光单元131。因此，每条栅格线上最多只需设置一条导电丝线，从而使导电网格的密度降低，便于加工。

在本实施例中，形成第一导电层140的导电丝线可为直线、曲线或折线。进一步的，当形成第一导电层140的导电丝线为直线时，导电丝线的中心线与栅格线121的中心线对齐，从而可尽可能的使导电丝线的宽度较大，以增加第一导电层140的可靠性。如图7所示，形成第一导电层140的导电丝线还可以为曲线或折线。

在本实施例中，遮光层120背向第一表面的一侧开设有第一网格凹槽123。第一导电层140由填充于第一网格凹槽123中的导电材料固化形成。其中，导电材料固化得到导电丝线，导电丝线相互交叉形成导电网格。因此，在形成第一导电层140时，可通过压印模具一次成型，得到预设的图案，而不用通过图形化蚀刻，从而简化流程并节约成本。具体的，导电材料可为金属（如纳米银）、碳纳米管、石墨烯、有机导电高分子以及ITO。

其中，第一网格凹槽123宽度可等于或小于栅格线121的宽度，故形成第一导电层140的导电丝线的宽度可等于或小于栅格线121的宽度。本实施例中第一网格凹槽123宽度小于栅格线121的宽度。

在本实施例中，第一网格凹槽123的深度大于或等于第一导电层140的厚度且小于遮光层120的厚度。因此，可使第一导电层140完全包覆于遮光层120内，从而可对第一导电层140形成有效的保护，防止在后续贴合过程中刮伤第一导电层140，进而影响产品的品质。

进一步的，在本实施例中，滤光层130的厚度大于遮光层120的厚度。因此，可防止从滤光单元131侧面出射的光线被遮光层120或第一导电层140遮挡，从而增加出光率。

请参阅图8，在另一个实施例中，第一导电层140由附着于遮光层120背向第一表面的一侧的导电材料形成。具体的，可通过在遮光层120的表面镀导电膜或涂覆导电材料，以形成导电膜层，再对导电膜层进行蚀刻，得到图形化的第一导电层140。其中，用于镀膜的材质可为金、银、铜等具有较小电阻率的金属或ITO等，而用于涂覆的导电材料可为导电墨水等。

进一步的，滤光层130的厚度大于遮光层120与第一导电层140的厚度之和。因此，滤光层130突出于遮光层120及第一导电层140的表面，从而可从防止从滤光单元131侧面出射的光线被遮光层120及第一导电层140遮挡，从而增加出光率。

请再次参阅图1至图4，基质层150附着于第二表面。具体的，基质层150由涂覆于第二表面的压印胶固化形成。压印胶为透明状，不影响整体的透过率。在本实施例中，压印胶的材质为无溶剂紫外固化亚克力树脂，其厚度为2～10微米。需要指出的是，在其他实施例中，压印胶材质还可以为可见光固化树脂、热固化树脂等。

第二导电层160嵌设于基质层150。具体在本实施例中，第二导电层160背向公共电极104设置。其中，第二导电层160与第一导电层140分别位于基片110的一侧，两者相对设置且之间间隔基片110及基质层150。因此，第二导电层160与第一导电层140之间形成感应电容结构，从而使得滤光片组件110可同时实现触控及滤光功能。第二导电层160为导电丝线相互交叉形成的导电网格，第二导电层160包括多个第二网格单元（图未标）。具体在本实施例中，第二导电层160形成多条相互绝缘的第二导电单元（图未标）。

其中，第二导电层160的导电网格可为正多边形，也可为随机网格。当第二导电层160的导电网格为随机网格时，能有效的避免干涉，从而避免在触摸显示屏10上形成莫尔条纹，提升显示效果。

在本实施例中，基质层150背向基片110的一侧开设有第二网格凹槽151，第二导电层160由填充于第二网格凹槽151中的导电材料固化形成。具体的，导电材料可为金属（如纳米银）、碳纳米管、石墨烯、有机导电高分子以及ITO。因此，在形成第二导电层160时，可通过压印模具一次成型，得到预设的图案，而不用通过图形化蚀刻，从而简化流程并节约成本。

进一步的，第二网格凹槽151的深度大于或等于第二导电层160的厚度。因此，第二导电层160可完全包覆于第二网格凹槽151中，从而可对第二导电层160形成有效的保护，防止在后续贴合过程中刮伤第二导电层160，进而影响产品的品质。

在本实施例中，形成第二导电层160的导电丝线在遮光层120的投影位于栅格线121内。进一步的，形成第二导电层160的导电丝线的中心线与栅格线121的中心线对齐。因此，遮光层120可有效的遮挡第二导电层160的导电丝线，从而避免用户在使用时能看到导电丝线而影响体验。此外，由于导电丝线被遮挡，从而对于导电丝线的宽度要求不高，即不大于栅格线121的宽度即可。因此，可使制作方便（无需做很细），且较宽的导电丝线不易断裂，进而可提升第二导电层160的可靠性。

请参阅图9，在另一个实施例中，至少包括一条形成第二导电层160的导电丝线，其在遮光层120的投影位于栅格单元内。由于导电丝线的投影位于栅格单元内，使得栅格线121不能对形成第二导电层160的导电丝线形成有效的遮挡。而在触摸显示屏10中，又须使用户无法观察到导电丝线。为了达到视觉透明，进一步的，形成第二导电层160的导电丝线的宽度介于0.2至5微米之间，第二网格单元的网格节点之间的距离介于50至500微米之间。

滤光片组件100及使用滤光片组件100的触摸显示屏10中，滤光片组件100可同时实现触控操作和滤光功能。作为显示屏中不可缺少的两个组件的组合，滤光片组件100用于触摸显示屏10中时，可直接使显示屏具有触控功能，无需再在显示屏上组装一触摸屏，从而有利于降低电子产品的厚度。此外，利用滤光片组件100制备触摸显示屏时，可减少一次贴合工艺，从而还可节约材料并提高生产效率。

此外，本发明还提供一种滤光片组件制备方法。

请参阅图10、图14及图15，在一个实施例中，滤光片组件制备方法包括步骤S110～S150：

步骤S110，提供一基片，基片包括第一表面及与第一表面相对设置的第二表面。

基片起承载和保护作用，且可透光。基片的材质及作用如上所述，故在此不再赘述。在进行后续步骤之前还可对基片进行预处理，对基片的表面进行清洁，并使第一表面离子化，从而增强第一表面的附着能力。

步骤S120，在第一表面形成由栅格线121相互交叉形成的遮光层及位于遮光层的第一导电层，遮光层为栅格状结构，包括多个栅格单元。

具体的，遮光层可由带黑色染料的光刻胶、油墨及遮光树脂等非透明材料在第一表面固化形成。遮光层由多条栅格线121相互交叉形成，其中包括多个栅格单元。第一表面与栅格单元对应的区域未被非透明材料覆盖，故可透光。

步骤S130，向多个栅格单元内分别涂覆光阻材料，以形成多个间隔设置的滤光单元，多个滤光单元形成滤光层。

向栅格单元，即第一表面未被非透明材料覆盖的区域涂覆光阻材料，使其固化后便可得到多个滤光单元。光阻材料为RGB光阻材料，根据三原色原理，经过不同滤光单元的光线混合后，可得到其他多种颜色的光线。由于滤光单元位于栅格单元内，故栅格线121将多个滤光单元单独隔开。

步骤S140，在第二表面涂覆压印胶并采用压印模具进行压印，使压印胶固化，以形成开设有第二网格凹槽的基质层，第二网格凹槽位于基质层背向基片的一侧。

具体的，先将压印胶涂覆于第二表面并采用压印模具进行压印，待其固化后，便可得到开设有第二网格凹槽的，第二网格凹槽位于基质层背向基片的一侧基质层。压印胶为透明状，不影响整体的透过率。在本实施例中，压印胶的材质为无溶剂紫外固化亚克力树脂，其厚度为2～10微米。需要指出的是，在其他实施例中，压印胶材质还可以为可见光固化树脂、热固化树脂等。

步骤S150，向第二网格凹槽内填充导电材料并使其固化，以形成第二导电层。

具体的，导电材料可为金属（如纳米银）、碳纳米管、石墨烯、有机导电高分子以及ITO。因此，在形成第二导电层时，可通过压印模具一次成型，得到预设的图案，而不用通过图形化蚀刻，从而简化流程。特别当使用ITO作为导电材料时，由于无需蚀刻，故减少了材料浪费，进而节约成本。此外，采用第二网格凹槽形成第二导电层，使导电材料不局限于传统的ITO，从而增加了导电材料的选择面。

请参阅图11，在实施例一中，上述步骤120具体为：

步骤S121，在第一表面涂覆黑色光刻胶并预固化，以形成黑色光刻胶层。

步骤S123，对黑色光刻胶层背向第一表面的一侧压印以形成第一网格凹槽，向第一网格凹槽填充导电材料并使其固化，以形成第一导电层。

具体的，导电材料固化得到导电丝线，导电丝线相互交叉形成导电网格。因此，在形成第一导电层时，可通过压印模具一次成型，得到预设的图案，而不用通过图形化蚀刻，从而简化流程并节约成本。具体的，导电材料可为金属（如纳米银）、碳纳米管、石墨烯、有机导电高分子以及ITO。

步骤S125，采用曝光-显影技术将黑色光刻胶层蚀刻成栅格状结构，以得到遮光层。

光刻胶通过曝光-显影可除去。因此，可通过曝光-显影对黑色光刻胶层进行蚀刻，将栅格单元对应的区域（用于形成滤光单元的部分）除去，形成多条栅格线121相互交叉形成的栅格状，从而得到遮光层。

请参阅图12，在实施例二中，上述步骤120具体为：

步骤S221，在第一表面涂覆黑色光刻胶并预固化，以形成黑色光刻胶层。

步骤S223，在黑色光刻胶层背向第一表面的一侧镀金属膜或涂覆导电墨水，以形成导电膜层。

步骤S225，在导电膜层上涂覆光刻胶并预固化，以形成光刻胶层，利用曝光-显影将光刻胶层蚀刻成栅格状。

具体的，栅格状即遮光层的形状。由于需要进一步对黑色光刻胶层及导电膜层进行蚀刻以分别得到遮光层及第一导电层，故需将网格状的光刻胶层作为掩膜层。

步骤S227，对暴露于光刻胶层的导电膜层进行蚀刻，获得第一导电层。

由于一般采用导电材料蚀刻液对导电膜层进行蚀刻，故不会与光刻胶层产生反应。因此，蚀刻液可按照光刻胶的形状将导电膜层蚀刻成网格状，从而得到第一导电层。

步骤S228，利用显影液对暴露于导电膜层的黑色光刻胶层进行蚀刻，得到遮光层。

同理，在对导电膜层进行蚀刻时，蚀刻液不会与黑色光刻胶层反应。因此，还需采用显影液将黑色光刻胶层蚀刻成栅格状，从而得到遮光层。此时，由于显影液一般呈碱性，不会与导电网格反应。因此，在对黑色光刻胶层蚀刻时，将第一导电层的导电丝线作为掩膜层。

在本实施例中，由于形成遮光层的掩膜层为第一导电层的导电丝线，故形成第一导电层的导电丝线的宽度等于遮光层的栅格线121的宽度。

在本实施例中，还可在形成第一导电层时，对形成第一导电层的导电丝线进行断线处理，以得到多条相互绝缘的第一导电单元141。具体的，在利用曝光-显影将光刻胶层进行蚀刻时，将光刻胶层上与第一导电层断线处20对应区域的光刻胶也除去。因此，当以网格状的光刻胶层作为掩膜层对导电膜层进行蚀刻时，可将第一导电层分割为多个相互绝缘（相互之间间隔预设距离）的第一导电单元141。

由于本实施例中的遮光层是以第一导电层的导电丝线作为掩膜层蚀刻形成的。因此，遮光层与第一导电层上具有相同的断线处20，遮光层也被分割成多条相互间隔的栅格状条带。为了不影响视觉效果，需要使遮光层的断线处20视觉不可见。如图14所示，在本实施例中，第一导电层的断线为在导电丝线上开设的一宽度为0.5至50微米的缺口。因此，遮光层的栅格线121的断点之间的间距较小，处于视觉范围外，从而不会影响视觉效果。

在本实施例中，另外还可在形成第一导电层时，对形成第一导电层的导电丝线进行断线处20理，以得到多条相互绝缘的第一导电单元141。具体的，在利用曝光-显影将光刻胶层进行蚀刻时，将光刻胶层上与第一导电层断线处20对应区域的光刻胶先不除去。因此，当以完整的网格状的光刻胶层作为掩膜层对导电膜层进行蚀刻时，此时得到的第一导电层为完整的网格状，未分割为多个相互绝缘（相互之间间隔预设距离）的第一导电单元141。

由于本实施例中的遮光层是以第一导电层的导电丝线作为掩膜层蚀刻形成的。因此，此时得到的遮光层也为完整的网格状，其形状与上步骤得到的完整网格状的第一导电层一致。最后再对上述覆设在第一导电层上的光刻胶进行曝光、显影，将光刻胶层上与第一导电层断线处20对应区域的光刻胶也除去。最后再对导电膜层进行进一步蚀刻，将导电膜层需要断线处20的导电材料蚀刻除去，即可将第一导电层分割为多个相互绝缘（相互之间间隔预设距离）的第一导电单元141。亦如图14所示，在本实施例中，第一导电层的断线为在导电丝线上开设的一宽度为0.5至50微米的缺口。

步骤S229，将光刻胶层附着于第一导电层的部分除去。

由于光刻胶层仅作为形成第一导电层时的掩膜板。因此，在得到第一导电层及遮光层后，应予以去除。同理，可采用除胶液将残留于第一导电层上的光刻胶进除去。

请参阅图13，在实施例三中，上述步骤120具体为：

步骤S322，在第一表面涂覆黑色光刻胶并预固化，以形成黑色光刻胶层，采用曝光-显影技术将黑色光刻胶层蚀刻成栅格状结构，以得到遮光层。

步骤S324，在遮光层背向第一表面的一侧镀金属膜或涂覆导电墨水，以形成导电膜层。

步骤S326，在导电膜层上涂覆光刻胶，并预固化以形成光刻胶层，采用曝光-显影技术将光刻胶层蚀刻成网格状。

具体的，光刻胶层蚀刻成与第一导电层的导电网格相同的网格状。由于曝光-显影可精确控制，故先将光刻胶层形成网格状，再以网格状的光刻胶层作为掩膜板，进而对导电膜层进行蚀刻以得到第一导电层。

步骤S328，对暴露于光刻胶层的导电膜层进行蚀刻，以获得第一导电层，并除去光刻胶层附着于第一导电层上的部分。

同上，一般采用导电材料蚀刻液进行蚀刻，由于光刻胶层做掩膜，从而可快速将导电膜层蚀刻成网格状的第一导电层。

在本实施例中，形成第一导电层的导电丝线的宽度取决于光刻胶层的网格宽度。因此，通过控制曝光显影的精度，即可使形成第一导电层的导电丝线等于栅格线121宽度，也可使形成第一导电层的导电丝线小于栅格线121宽度。

在本实施例中，还可将第一导电层分割成多条相互绝缘的第一导电单元141。具体的，对光刻胶层进行蚀刻时，将光刻胶层上与第一导电层断线处20对应区域的光刻胶也除去。因此，当图形化的光刻胶层作为掩膜层对导电膜层进行蚀刻时，可将第一导电层分割为多个相互绝缘（相互之间间隔预设距离）的第一导电单元141。

此外，由于遮光层形成于第一导电层之前，而第一导电层的蚀刻不以遮光层的栅格线121作为掩膜板。因此，遮光层的栅格线121与第一导电层的断线处20对应的区域可保留，从而使遮光层形成完整的栅格状结构。如图15所示，在本实施例中，第一导电层的断线可以是整列或整行导电丝线的缺失，从而使两个相邻的第一导电单元141之间间隔较大，绝缘效果较好。

通过上述滤光片制备方法，可得到一种滤光片组件，该滤光片组件可同时实现触控操作和滤光功能。作为显示屏中不可缺少的两个组件的组合，该滤光片组件用于触摸显示屏中时，可直接使显示屏具有触控功能，无需再在显示屏上组装一触摸屏，从而有利于降低电子产品的厚度。此外，利用滤光片组件制备触摸显示屏时，可减少一次贴合工艺，从而还可节约材料并提高生产效率。

以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对本发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (19)

1.一种滤光片组件，其特征在于，包括：

基片，包括第一表面及与所述第一表面相对设置的第二表面；

遮光层，附着于所述第一表面，所述遮光层为栅格线相互交叉形成的栅格状结构，所述遮光层包括多个栅格单元；

滤光层，附着于所述第一表面，所述滤光层包括多个间隔设置的滤光单元，多个所述滤光单元分别位于所述多个栅格单元内；

第一导电层，位于所述遮光层背向所述第一表面的一侧，所述第一导电层为导电丝线相互交叉形成的导电网格，所述第一导电层包括多个第一网格单元，形成所述第一导电层的导电丝线在所述遮光层上的投影位于所述栅格线内；

基质层，附着于所述第二表面；及

第二导电层，嵌设于所述基质层，所述第二导电层为导电丝线相互交叉形成的导电网格，所述第二导电层包括多个第二网格单元。

2.根据权利要求1所述的滤光片组件，其特征在于，所述遮光层背向所述第一表面的一侧开设有第一网格凹槽，所述第一导电层由填充于所述第一网格凹槽中的导电材料形成，所述基质层背向所述基片的一侧开设有第二网格凹槽，所述第二导电层由填充于所述第二网格凹槽中的导电材料固化形成。

3.根据权利要求2所述的滤光片组件，其特征在于，所述第一网格凹槽的深度大于或等于所述第一导电层的厚度且小于所述遮光层的厚度，所述第二网格凹槽的深度大于或等于所述第二导电层的厚度。

4.根据权利要求3所述的滤光片组件，其特征在于，所述滤光层的厚度大于所述遮光层的厚度。

5.根据权利要求1所述的滤光片组件，其特征在于，所述第一导电层由附着于所述遮光层背向所述第一表面的一侧的导电材料形成，所述基质层背向所述基片的一侧开设有第二网格凹槽，所述第二导电层由填充于所述第二网格凹槽中的导电材料形成。

6.根据权利要求5所述的滤光片组件，其特征在于，所述滤光层的厚度大于所述遮光层与所述第一导电层的厚度之和。

7.根据权利要求1所述的滤光片组件，其特征在于，形成所述第一导电层的导电丝线的宽度小于所述栅格线的宽度。

8.根据权利要求1所述的滤光片组件，其特征在于，形成所述第二导电层的导电丝线在所述遮光层的投影位于所述栅格线内。

9.根据权利要求8所述的滤光片组件，其特征在于，形成所述第二导电层的导电丝线的中心线与所述栅格线的中心线对齐。

10.根据权利要求1所述的滤光片组件，其特征在于，至少包括一条形成所述第二导电层的导电丝线，其在所述遮光层的投影位于所述栅格单元内。

11.根据权利要求10所述的滤光片组件，其特征在于，形成所述第二导电层的导电丝线的宽度介于0.2至5微米之间，所述第二网格单元的网格节点之间的距离介于50至500微米之间。

12.根据权利要求1所述的滤光片组件，其特征在于，每一所述第一网格单元的范围内至少容纳一个所述滤光单元。

13.根据权利要求1所述的滤光片组件，其特征在于，所述第一导电层形成多条相互绝缘的第一导电单元，所述第二导电层形成多条相互绝缘的第二导电单元。

14.一种触摸显示屏，其特征在于，包括层叠设置的薄膜晶体管电极、液晶模组、如上述权利要求1～13任一项所述滤光片组件及上偏光片。

15.根据权利要求14所述的触摸显示屏，其特征在于，所述第二导电层朝向所述上偏光片。

16.一种滤光片组件制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

提供一基片，所述基片包括第一表面及与所述第一表面相对设置的第二表面；

在所述第一表面形成由栅格线相互交叉形成的遮光层及位于所述遮光层的第一导电层，所述遮光层为栅格状结构，包括多个栅格单元；

向所述多个栅格单元内分别涂覆光阻材料，以形成多个间隔设置的滤光单元，所述多个滤光单元形成滤光层；

在所述第二表面涂覆压印胶并采用压印模具进行压印，使所述压印胶固化，以形成开设有第二网格凹槽的基质层，所述第二网格凹槽位于所述基质层背向所述基片的一侧；

向所述第二网格凹槽内填充导电材料并使其固化，以形成第二导电层。

17.根据权利要求16所述的滤光片组件制备方法，其特征在于，所述在所述第一表面形成由栅格线相互交叉形成的遮光层及位于所述遮光层上的第一导电层，所述遮光层为栅格状结构，包括多个栅格单元的步骤具体为：

在所述第一表面涂覆黑色光刻胶并使其预固化，以形成黑色光刻胶层；

对所述黑色光刻胶层背向所述第一表面的一侧压印以形成第一网格凹槽，向所述第一网格凹槽填充导电材料并使其固化，以形成第一导电层；

采用曝光-显影技术将所述黑色光刻胶层蚀刻成栅格状结构，以得到所述遮光层。

18.根据权利要求16所述的滤光片组件制备方法，其特征在于，所述在所述第一表面形成由栅格线相互交叉形成的遮光层及位于所述遮光层上的第一导电层，所述遮光层为栅格状结构，包括多个栅格单元的步骤具体为：

在所述第一表面涂覆黑色光刻胶并预固化，以形成黑色光刻胶层；

在所述黑色光刻胶层背向所述第一表面的一侧镀导电膜或涂覆导电墨水，以形成导电膜层；

在所述导电膜层上涂覆光刻胶并预固化，以形成光刻胶层，利用曝光-显影将所述光刻胶层蚀刻成栅格状；

对暴露于所述光刻胶层的导电膜层进行蚀刻，获得所述第一导电层；

利用显影液对暴露于所述导电膜层的黑色光刻胶层进行蚀刻，得到所述遮光层；

将所述光刻胶层附着于所述第一导电层的部分除去。

19.根据权利要求16所述的滤光片组件制备方法，其特征在于，所述在所述第一表面形成由栅格线相互交叉形成的遮光层及位于所述遮光层上的第一导电层，所述遮光层为栅格状结构，包括多个栅格单元的步骤具体为：

在所述第一表面涂覆黑色光刻胶并预固化，以形成黑色光刻胶层，采用曝光-显影技术将所述黑色光刻胶层蚀刻成栅格状结构，以得到所述遮光层；

在所述遮光层背向所述第一表面的一侧镀导电膜或涂覆导电墨水，以形成导电膜层；

在所述导电膜层上涂覆光刻胶，并预固化以形成光刻胶层，采用曝光-显影技术将所述光刻胶层蚀刻成网格状；

对暴露于所述光刻胶层的导电膜层进行蚀刻，以获得所述第一导电层，并除去所述光刻胶层附着于所述第一导电层上的部分。

Images