CN103324371A - 一种ogs电容式触摸屏的制作方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种OGS电容触摸屏的制作方法,包括以下步骤:在ITO薄膜层上涂布光刻胶;对光刻胶曝光;对光刻胶显影并硬化;蚀刻ITO薄膜层;去除光刻胶;切割裂片;ACF贴附;FOG热压;电测。通过本发明的方法可以在制作ITO图形时,在AA区域不会出现两个电极之间相互短路的现象,提高生产效率,降低人工成本,打通制程上的瓶颈问题。
Description
技术领域
本发明涉及电子元器件领域,特别涉及一种OGS电容式触摸屏的制作方法。
背景技术
电容触摸屏可实现多点和准确的触摸感应,而且结构简单,是当前显示触控技术发展的主流方向。电容触摸屏的触摸感应部件一般为多个行电极、列电极相互交错形成的感应矩阵,行电极和列电极设置在一片基板的同一面上。而新一代的OGS产品是电容式触摸屏的新的发展方向,从技术层面来看,OGS技术较之目前主流的G/G触控技术结构简单,轻、薄、透光性好;由于省掉一片玻璃基板以及贴合工序,利于降低生产成本、提高产品良率。但在实际的研发生产过程中,由于还没找到一种很好的测量短路的方法,在一旦sensor制作形成短路后,一直需要到和FPC热压完电测时,才能知道有短路点的存在,而在寻找短路点的过程中,需人工在显微镜下慢慢寻找,找到后再通过激光修补机进行修复,在这过程中使用人工较多,且效率低,是生产过程的瓶颈部分。针对上述问题进行检索,尚未发现有效的解决方案。
发明内容
本发明的目的就是针对现有的sensor感应线路设计在生产过程中存在的缺陷,提供一种OGS电容式触摸屏的制作方法。
为了实现上述目的,本发明采用了如下技术方案:
本发明的技术方案是:
一种OGS电容式触摸屏的制作方法,其特征在于,具体包括以下步骤:
(1)、在基板上真空溅射ITO薄膜层,真空度:0.01~0.5Pa,温度:220~350℃,ITO薄膜层的厚度5nm~25nm;
(2)、涂布光刻胶,将真空溅射的ITO薄膜层覆盖,光刻胶的厚度1000~2000nm,均匀性10%以内,预烘温度:60~100℃;
紫外光波长:365nm,光通量:100mj,距离基板的尺寸100微米;
(3)、在光刻胶上光刻ITO电极图形,ITO电极图案的光罩是菲林或走线铬版,对光刻胶进行曝光,即在光刻胶上光刻电极图形,曝光条件为:紫外光波长:365nm,光通量:60~150mj,光罩距离基板的尺寸20微米~200微米;
(4)、对光刻胶显影并硬化,形成电极图形,采用有机碱,浓度1~4%,或者NaOH,浓度0.1~0.8%,温度:20~40℃,时间20秒~300秒,硬化温度:80~120℃,时间20~50分钟;
(5)、蚀刻ITO薄膜层,形成ITO薄膜层电极图形,蚀刻使用材料:HCL15%+HNO3 6%,温度:40~60℃,时间:300~500秒;
(6)、去除光刻胶,形成ITO电极,使用材料:有机溶液(以二甘醇丁醚(85%)和已醇胺按(15%)),时间5分钟内,最后用纯水漂洗;
(7)、将整张大块基板进行切割裂片,并做CNC得到设计需要的成品sensor;
(8)、对切割裂片好的sensor进行ACF贴附,用ACF贴附机在sensor上均匀的黏上ACF,压力:0.10~0.13MPa,温度:80~120℃,时间:2~3秒;
(9)、将已贴附ACF的sensor运用热压机与FPC进行热压操作,压力:0.16~0.23MPa,温度:200~250℃,时间:10~15秒;
(10)、将热压好的成品运用电测软件和电测装置电测,判断是否为良品,并将良品进行装饰包装。
所述的一种OGS电容式触摸屏的制作方法,其特征在于,所述的电测装置包括有电脑、电测板,电测软件安装于电脑中,电脑通过连接线与电测板连接,电测板通过转接口与sensor上的FPC连接。
本发明的优点在于:
通过本发明的方法可以在制作出ITO层图形时,在AA区域不会出现两个电极之间相互短路的现象,提高生产效率,降低人工成本,打通流程上的瓶颈问题。
附图说明:
图1是本发明对成品电测的示意图。
具体实施方式:
一种OGS电容式触摸屏的制作方法,包括以下步骤:
第一步:在基板上真空溅射ITO薄膜层,真空度:0.1Pa,温度:250℃,ITO薄膜层的厚度5nm~25nm;
第二步:在ITO薄膜层上涂布光刻胶,用辊轮或旋转涂布,光刻胶厚度:1um,均匀性10%以内,预烘温度:80℃;
第三步:在光刻胶上光刻电极图形,紫外光波长:365nm,光通量:100mj,ITO电极图案的光罩是菲林或铬版,距离基板的尺寸100微米;
第四步:对光刻胶进行显影并硬化,形成电极图形,采用有机碱,浓度2%,或者NaOH,浓度0.4%,温度:30℃,时间200秒,硬化温度:100℃,时间40分钟;
第五步:蚀刻ITO薄膜层,形成ITO薄膜层,蚀刻使用材料:HCL15%+HNO3 6%,温度:50℃,时间:400秒;
第六步:去除光刻胶,形成ITO电极,使用材料:有机溶液(以二甘醇丁醚(85%)和已醇胺按(15%)),时间5分钟内,最后用纯水漂洗;
第七步:对整张基板切割裂片,采用硬化刀轮,切割深度40-70um,压力0.1MP;
第八步:对切割裂片好的sensor进行ACF贴附,贴附温度90℃,压力0.11MP,时间2S;
第九步:将贴附好ACF的sensor进行FPC热压操作,热压温度200℃,压力0.20MP,时间15S;
第十步:如图1所示,将热压好的成品运用电测软件和电测装置电测,判断是否为良品,并将良品进行装饰包装。
电测装置包括有电脑1、电测板2,电测软件安装于电脑1中,电脑1通过连接线3与电测板2连接,电测板2通过转接口4与sensor 5上的FPC 6连接。
Claims (2)
1.一种OGS电容式触摸屏的制作方法,其特征在于,具体包括以下步骤:
(1)、在基板上真空溅射ITO薄膜层,真空度:0.01~0.5Pa,温度:220~350℃,ITO薄膜层的厚度5nm~25nm;
(2)、涂布光刻胶,将真空溅射的ITO薄膜层覆盖,光刻胶的厚度1000~2000nm,均匀性10%以内,预烘温度:60~100℃;
紫外光波长:365nm,光通量:100mj,距离基板的尺寸100微米;
(3)、在光刻胶上光刻ITO电极图形,ITO电极图案的光罩是菲林或走线铬版,对光刻胶进行曝光,即在光刻胶上光刻电极图形,曝光条件为:紫外光波长:365nm,光通量:60~150mj,光罩距离基板的尺寸20微米~200微米;
(4)、对光刻胶显影并硬化,形成电极图形,采用有机碱,浓度1~4%,或者NaOH,浓度0.1~0.8%,温度:20~40℃,时间20秒~300秒,硬化温度:80~120℃,时间20~50分钟;
(5)、蚀刻ITO薄膜层,形成ITO薄膜层电极图形,蚀刻使用材料:HCL15%+HNO3 6%,温度:40~60℃,时间:300~500秒;
(6)、去除光刻胶,形成ITO电极,使用材料:有机溶液(以二甘醇丁醚(85%)和已醇胺按(15%)),时间5分钟内,最后用纯水漂洗;
(7)、将整张大块基板进行切割裂片,并做CNC得到设计需要的成品sensor;
(8)、对切割裂片好的sensor进行ACF贴附,用ACF贴附机在sensor上均匀的黏上ACF,压力:0.10~0.13MPa,温度:80~120℃,时间:2~3秒;
(9)、将已贴附ACF的sensor运用热压机与FPC进行热压操作,压力:0.16~0.23MPa,温度:200~250℃,时间:10~15秒;
(10)、将热压好的成品运用电测软件和电测装置电测,判断是否为良品,并将良品进行装饰包装。
2.根据权利要求1所述的一种OGS电容式触摸屏的制作方法,其特征在于,所述的电测装置包括有电脑、电测板,电测软件安装于电脑中,电脑通过连接线与电测板连接,电测板通过转接口与sensor上的FPC连接。
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