CN103264414A - 大气等离子体加工碳化硅密封环类零件的装置 - Google Patents

大气等离子体加工碳化硅密封环类零件的装置 Download PDF

Info

Publication number
CN103264414A
CN103264414A CN2013101770748A CN201310177074A CN103264414A CN 103264414 A CN103264414 A CN 103264414A CN 2013101770748 A CN2013101770748 A CN 2013101770748A CN 201310177074 A CN201310177074 A CN 201310177074A CN 103264414 A CN103264414 A CN 103264414A
Authority
CN
China
Prior art keywords
silicon carbide
gas
thin slice
spark stand
atmosphere plasma
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CN2013101770748A
Other languages
English (en)
Other versions
CN103264414B (zh
Inventor
王波
金江
姚英学
金会良
乔政
李娜
辛强
李铎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Harbin Institute of Technology
Original Assignee
Harbin Institute of Technology
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Harbin Institute of Technology filed Critical Harbin Institute of Technology
Priority to CN201310177074.8A priority Critical patent/CN103264414B/zh
Publication of CN103264414A publication Critical patent/CN103264414A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN103264414B publication Critical patent/CN103264414B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Plasma Technology (AREA)
  • Drying Of Semiconductors (AREA)

Abstract

大气等离子体加工碳化硅密封环类零件的装置,它属于等离子体加工碳化硅密封环类零件的技术领域。它是为了解决碳化硅密封环类零件的难加工问题。它的圆盘形电极架的上端面上设置有多个薄片形电极模块的安装孔,当薄片形电极模块安装在圆盘形电极架上的安装孔时,薄片形电极模块与圆盘形电极架的直径所在直线共线,根据待加工面型的要求选择薄片形电极模块的个数;每片薄片形电极模块的下端面都靠近待加工碳化硅密封环类零件的待加工表面。本发明能对那些表面要求比较高的、加工难度比较大的、需要多个工序才能完成加工的密封环类零件表面进行先均匀的大去除、然后局部修琢的小去除、最后刻蚀微结构的高精度、高效率的加工。<u/>

Description

大气等离子体加工碳化硅密封环类零件的装置
技术领域
本发明属于等离子体加工碳化硅密封环类零件的技术领域。
背景技术
随着现代科学技术的迅速发展,在核工业、石油工业、化工工业、化纤、化肥、原子能、航空航天和机械制造等工业领域中,对机械密封提出了更高的要求。
碳化硅(SiC)的耐化学腐蚀性好、强度高、硬度高,耐磨性能好、摩擦系数小,抗氧化性强、极高的温度下有良好的尺寸稳定性、热膨胀系数低、热稳定性好。另外,碳化硅材料具有适中的密度、较高的比刚度、较好的导热系数、耐热冲击性、抗热震、各向同性的机械性能、高弹性模量和使用寿命长等特点。可用于放射性、腐蚀性、剧毒、易燃、易爆、高温、高纯、超净等诸多复杂工况条件。因而是制造密封环的理想材料。
但同时碳化硅材料硬度高,脆性大,表面的加工难度大。用传统的加工方法加工,加工过程相当耗时并且效率相当低,面型修整困难,费用高;另外加工质量不可控,加工质量一致性差,精度低;同时加工碳化硅会给加工工具造成非常快速和严重的磨损。这使得碳化硅密封环类零件的加工非常不易。
为了使密封环能起到较好的密封效果,密封环表面需要加工出微结构。在这种情况下,装配密封环时,密封环表面上存在的微结构可以弥补装配过程中产生的变形,从而起到更好的密封作用。但是这会增加加工过程算法和控制过程的复杂程度,增加对加工过程稳定性的要求,使得加工难度更大,对加工装置的要求更高。
发明内容
本发明的目的是提供一种大气等离子体加工碳化硅密封环类零件的装置,为了解决碳化硅密封环类零件的难加工问题。
所述的目的是通过以下方案实现的:所述的一种大气等离子体加工碳化硅密封环类零件的装置,它由圆盘形电极架、薄片形电极模块、地电极、龙门加工机床、射频电源、密闭工作舱、混合等离子体气源组成,混合等离子体气源包含反应气体、大气等离子体激发气体和辅助气体;
圆盘形电极架的上端面绝缘连接在龙门加工机床的竖直运动工作转轴上,圆盘形电极架的上端面上设置有多个薄片形电极模块的安装孔,当薄片形电极模块安装在圆盘形电极架上的安装孔时,薄片形电极模块与圆盘形电极架的直径所在直线共线,根据待加工碳化硅密封环类零件微结构面型的要求选择薄片形电极模块的个数;使每个薄片形电极模块都通过圆盘形电极架与射频电源的输出端连接作为大气等离子体放电的阳极;圆盘形电极架上的多个出气孔都通过圆盘形电极架中心的导气孔、气管与混合等离子体气源导气连通,混合等离子体气源包含反应气体、大气等离子体激发气体和辅助气体,圆盘形电极架上的每个出气孔的出口端分别设置在每个薄片形电极模块附近;将待加工碳化硅密封环类零件装卡在地电极上,地电极固定在龙门加工机床的工作平台上;将地电极接地作为大气等离子体放电的阴极;将龙门加工机床设置在密闭工作舱中;圆盘形电极架的回转轴心线与待加工碳化硅密封环类零件的轴心线重合,使每片薄片形电极模块的下端面都靠近待加工碳化硅密封环类零件的待加工表面,并使它们之间都保持一定的放电间隙,放电间隙范围均为1mm-5mm。
本发明能对那些表面要求比较高的、加工难度比较大的、需要多个工序才能完成加工的密封环类零件表面进行先均匀的大去除、然后局部修琢的小去除、最后刻蚀微结构的高精度、高效率的加工。
本发明与现有技术相比还具有下列优点:
1.等离子体电极结构简单,电极为常见金属制成,制造简单,大气等离子体加工过程对电极的损伤很小,因此加工过程稳定可控,加工质量一致性好,费用低; 
2. 本方法针对微结构表面,利用等离子体电极的加工表面,计算驻留时间,只需要一个方向的回转运动就可以实现微结构的加工,算法和数控过程简单;
3.等离子体的产生是在开放的大气条件下实现的,避免了采用真空反应容器,大大降低了使用成本。
附图说明
图1是本发明的整体结构示意图;
图2是图1中圆盘形电极架1、薄片形电极模块1-1与待加工碳化硅密封环类零件4相对位置结构示意图;
图3是图2的俯视结构示意图。
具体实施方式
具体实施方式一:结合图1、图2、图3所示,本实施方式由圆盘形电极架1、薄片形电极模块1-1、地电极2-3、龙门加工机床2、射频电源3、密闭工作舱5、混合等离子体气源6组成,混合等离子体气源6包含反应气体、大气等离子体激发气体和辅助气体;
圆盘形电极架1的上端面绝缘连接在龙门加工机床2的竖直运动工作转轴2-1上,圆盘形电极架1的上端面上设置有多个薄片形电极模块1-1的安装孔1-4,当薄片形电极模块1-1安装在圆盘形电极架1上的安装孔1-4时,薄片形电极模块1-1与圆盘形电极架1的直径所在直线共线,根据待加工碳化硅密封环类零件4微结构面型的要求选择薄片形电极模块1-1的个数;使每个薄片形电极模块1-1都通过圆盘形电极架1与射频电源3的输出端连接作为大气等离子体放电的阳极;圆盘形电极架1上的多个出气孔1-2都通过圆盘形电极架1中心的导气孔1-3、气管6-1与混合等离子体气源6导气连通,混合等离子体气源6包含反应气体、大气等离子体激发气体和辅助气体,圆盘形电极架1上的每个出气孔1-2的出口端分别设置在每个薄片形电极模块1-1附近;将待加工碳化硅密封环类零件4装卡在地电极2-3上,地电极2-3固定在龙门加工机床2的工作平台2-2上;将地电极2-3接地作为大气等离子体放电的阴极;将龙门加工机床2设置在密闭工作舱5中;圆盘形电极架1的回转轴心线与待加工碳化硅密封环类零件4的轴心线重合,使每片薄片形电极模块1-1的下端面都靠近待加工碳化硅密封环类零件4的待加工表面,并使它们之间都保持一定的放电间隙,放电距离范围都为1mm-5mm。
所述薄片形电极模块1-1的材质为铝。所述薄片形电极模块1-1的下加工表面可设计成平面型、内斜梯形或外斜梯形。
所述龙门加工机床2为龙门铣床或龙门刨床。
所述射频电源3的频率为13.56MHz或27.12MHz,最大功率为2KW。
所述混合等离子体气源6为三元气体混合系统,供气流量为1-100L/min。
所述混合等离子体气源6中的大气等离子体激发气体为氦气或氩气;反应气体为六氟化硫、四氟化碳或三氟化氮;辅助气体为氧气、氢气或氮气。
工作原理:由射频电源3输出端连接薄片形电极模块1-1作为大气等离子体放电的阳极,零件地电极接地作为大气等离子体放电的地电极,由混合等离子体气源6提供的能被激发产生等离子体的大气等离子体激发气体充满薄片形电极模块1-1和零件之间的间隙,由射频电源3提供输出电能,使功率达到100W-400W,同时控制射频电源3的反射功率为零,在薄片形电极模块1-1和待加工碳化硅密封环类零件4的放电间隙产生等离子体,同时反应气体被激发,产生具有反应活性的原子与待加工碳化硅密封环类零件4的表面发生化学反应,生成挥发性的反应产物并被旋转的薄片形电极带离零件表面,由此实现对碳化硅密封环类零件的无损伤快速加工。
四氟化碳在等离子体的作用下,发生电离,产生激发态的活性F原子,激发态的活性F原子与碳化硅材料的密封环类零件发生化学反应,生成挥发性产物,可以很顺利地从零件表面挥发,从而实现材料的原子级去除,最终生成超光滑表面,并且不会在零件表面产生新的损伤层;
Figure 2013101770748100002DEST_PATH_IMAGE002
Figure 2013101770748100002DEST_PATH_IMAGE004
所述薄片形电极模块1-1的设计原则:等离子体电极的长度范围根据待加工碳化硅密封环类零件4的内外半径差为2 mm到100 mm可选。等离子体电极宽度范围由待加工微结构的波长决定,由于电极宽度约为单位去除函数的半高宽的二分之一,且为了保证加工的精确性,要求单位去除函数的半高宽小于待加工波长的五分之一,因此电极的宽度范围要求小于待加工碳化硅密封环类零件4的内圈待加工波长的十分之一,建议范围为0.5mm到2mm。

Claims (3)

1.大气等离子体加工碳化硅密封环类零件的装置,其特征在于它由圆盘形电极架(1)、薄片形电极模块(1-1)、地电极(2-3)、龙门加工机床(2)、射频电源(3)、密闭工作舱(5)、混合等离子体气源(6)组成;
圆盘形电极架(1)的上端面绝缘连接在龙门加工机床(2)的竖直运动工作转轴(2-1)上,圆盘形电极架(1)的上端面上设置有多个薄片形电极模块(1-1)的安装孔(1-4),当薄片形电极模块(1-1)安装在圆盘形电极架(1)上的安装孔(1-4)时,薄片形电极模块(1-1)与圆盘形电极架(1)的直径所在直线共线,根据待加工碳化硅密封环类零件(4)微结构面型的要求选择薄片形电极模块(1-1)的个数;使每个薄片形电极模块(1-1)都通过圆盘形电极架(1)与射频电源(3)的输出端连接作为大气等离子体放电的阳极;圆盘形电极架(1)上的多个出气孔(1-2)都通过圆盘形电极架(1)中心的导气孔(1-3)、气管(6-1)与混合等离子体气源(6)导气连通,混合等离子体气源(6)包含反应气体、大气等离子体激发气体和辅助气体,圆盘形电极架(1)上的每个出气孔(1-2)的出口端分别设置在每个薄片形电极模块(1-1)附近;将待加工碳化硅密封环类零件(4)装卡在地电极(2-3)上,地电极(2-3)固定在龙门加工机床(2)的工作平台(2-2)上;将地电极(2-3)接地作为大气等离子体放电的阴极;将龙门加工机床(2)设置在密闭工作舱(5)中;圆盘形电极架(1)的回转轴心线与待加工碳化硅密封环类零件(4)的轴心线重合,使每片薄片形电极模块(1-1)的下端面都靠近待加工碳化硅密封环类零件(4)的待加工表面,并使它们之间都保持一定的放电间隙,放电间隙范围均为1mm-5mm。
2.根据权利要求1所述的大气等离子体加工碳化硅密封环类零件的装置,其特征在于所述薄片形电极模块(1-1)的材质为铝。
3.根据权利要求1所述的大气等离子体加工碳化硅密封环类零件的装置,其特征在于所述混合等离子体气源(6)中的大气等离子体激发气体为氦气或氩气;反应气体为六氟化硫、四氟化碳或三氟化氮;辅助气体为氧气、氢气或氮气。
CN201310177074.8A 2013-05-14 2013-05-14 大气等离子体加工含微结构的碳化硅密封环类零件的装置 Active CN103264414B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201310177074.8A CN103264414B (zh) 2013-05-14 2013-05-14 大气等离子体加工含微结构的碳化硅密封环类零件的装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201310177074.8A CN103264414B (zh) 2013-05-14 2013-05-14 大气等离子体加工含微结构的碳化硅密封环类零件的装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN103264414A true CN103264414A (zh) 2013-08-28
CN103264414B CN103264414B (zh) 2015-04-01

Family

ID=49008100

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201310177074.8A Active CN103264414B (zh) 2013-05-14 2013-05-14 大气等离子体加工含微结构的碳化硅密封环类零件的装置

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN103264414B (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106961779A (zh) * 2017-05-11 2017-07-18 无锡荣坚五金工具有限公司 一种带有定转电极组的等离子体引发聚合装置

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1507336A (en) * 1974-10-28 1978-04-12 Inst Elektroswarki Patona Plasma torches
CN2090761U (zh) * 1990-01-09 1991-12-18 李少林 手持式泡沫塑料板热切割器
CN1876320A (zh) * 2006-07-17 2006-12-13 哈尔滨工业大学 常压等离子体抛光装置
CN101659568A (zh) * 2009-09-23 2010-03-03 哈尔滨工业大学 WC、SiC光学模压模具的大气等离子体化学加工方法
CN102730945A (zh) * 2012-07-18 2012-10-17 哈尔滨工业大学 大面积接触式等离子体放电加工熔石英加工装置
CN102744652A (zh) * 2012-07-19 2012-10-24 哈尔滨工业大学 大面积平面光学零件加工装置及加工方法

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB1507336A (en) * 1974-10-28 1978-04-12 Inst Elektroswarki Patona Plasma torches
CN2090761U (zh) * 1990-01-09 1991-12-18 李少林 手持式泡沫塑料板热切割器
CN1876320A (zh) * 2006-07-17 2006-12-13 哈尔滨工业大学 常压等离子体抛光装置
CN101659568A (zh) * 2009-09-23 2010-03-03 哈尔滨工业大学 WC、SiC光学模压模具的大气等离子体化学加工方法
CN102730945A (zh) * 2012-07-18 2012-10-17 哈尔滨工业大学 大面积接触式等离子体放电加工熔石英加工装置
CN102744652A (zh) * 2012-07-19 2012-10-24 哈尔滨工业大学 大面积平面光学零件加工装置及加工方法

Non-Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
张巨帆等: "大气等离子体抛光技术在超光滑硅表面加工中的应用", 《光学精密工程》 *
王家富等: "用于SiC超光滑表面加工的大气等离子体抛光系统设计", 《航空精密制造技术》 *

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106961779A (zh) * 2017-05-11 2017-07-18 无锡荣坚五金工具有限公司 一种带有定转电极组的等离子体引发聚合装置
CN106961779B (zh) * 2017-05-11 2024-02-02 江苏菲沃泰纳米科技股份有限公司 一种带有定转电极组的等离子体引发聚合装置

Also Published As

Publication number Publication date
CN103264414B (zh) 2015-04-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN1983504B (zh) 离子源及使用所述离子源的模具抛光装置
CN103273180B (zh) 自由曲面光学零件的大气等离子体数控加工方法
CN201517131U (zh) 一种制备类金刚石薄膜的装置
CN103237404A (zh) 同轴放电模式的大气等离子体发生装置
CN204407314U (zh) 太阳能电池片生产中的石墨舟转运车
CN103264414B (zh) 大气等离子体加工含微结构的碳化硅密封环类零件的装置
EP2744308B1 (en) Processing apparatus and processing method
CN103231297A (zh) 大口径光学零件的大气等离子体加工方法
CN101596641B (zh) 大气低温等离子体化学修整金刚石刀具表面缺陷的方法
CN103227093A (zh) 适用于大口径非球面光学零件的大气等离子体加工装置
CN103258710A (zh) 大气等离子体成形电极加工碳化硅密封环类零件的方法
KR102019612B1 (ko) 연료전지분리판의 유로형성시스템
CN103231418B (zh) 模块化电极大气等离子体加工含微结构碳化硅密封环方法
CN103258709B (zh) 多个电极大气等离子体加工碳化硅密封环类零件的方法
CN204075820U (zh) 一种用于固定散热片的真空发生系统
CN103236393A (zh) 单电极大气等离子体加工碳化硅密封环类零件的方法
CN212322948U (zh) 射频离子源离子束束径约束器及对应的束径控制装置
CN201762436U (zh) 移动式弧光放电离子镀膜设备
CN103258708A (zh) 大气等离子体成形电极加工微结构密封环类零件的装置
CN209811889U (zh) 一种射频离子源
CN103212774B (zh) 自由曲面光学零件的大气等离子体数控加工的装置
JP2017112237A (ja) 減圧処理装置
CN105316626A (zh) 半导体加工用蒸发台的镀膜原料导向装置
CN103212755B (zh) 水电极大气等离子体加工回转零件方法
CN103236391A (zh) 成型电极大气等离子体加工回转零件装置

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant