CN103258710A - 大气等离子体成形电极加工碳化硅密封环类零件的方法 - Google Patents

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辛强
姚英学
金会良
丁飞
李娜
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Abstract

大气等离子体成形电极加工碳化硅密封环类零件的方法,它属于等离子体加工碳化硅密封环类零件的技术领域。它是为了解决碳化硅密封环类零件的难加工问题。它的步骤一:将等离子体成形电极的上端面绝缘连接在工作轴上;步骤二:将待加工碳化硅密封环类零件装卡在地电极上;步骤三:使等离子体成形电极靠近待加工碳化硅密封环类零件的待加工表面;步骤四:预热射频电源和混合等离子体气源;步骤五:通入混合气体,启动射频电源;步骤六:用上述产生的大气等离子体对零件表面进行加工;步骤七、取出待加工碳化硅密封环类零件。本发明能对密封环类零件表面进行加工,加工效率高,精度高。<u/>

Description

大气等离子体成形电极加工碳化硅密封环类零件的方法
技术领域
本发明属于等离子体加工碳化硅密封环类零件的技术领域。
背景技术
随着现代科学技术的迅速发展,在核工业、石油工业、化工工业、化纤、化肥、原子能、航空航天和机械制造等工业领域中,对机械密封提出了更高的要求。
碳化硅(SiC)的耐化学腐蚀性好、强度高、硬度高,耐磨性能好、摩擦系数小,抗氧化性强、极高的温度下有良好的尺寸稳定性、热膨胀系数低、热稳定性好。另外,碳化硅材料具有适中的密度、较高的比刚度、较好的导热系数、耐热冲击性、抗热震、各向同性的机械性能、高弹性模量和使用寿命长等特点。可用于放射性、腐蚀性、剧毒、易燃、易爆、高温、高纯、超净等诸多复杂工况条件。因而是制造密封环的理想材料。
但同时碳化硅材料硬度高,脆性大,表面的加工难度大。用传统的加工方法加工,加工过程相当耗时并且效率相当低,面型修整困难,费用高;另外加工质量不可控,加工质量一致性差;并且精度低,工具磨损非常快,磨损严重。这使得碳化硅密封环类零件的加工非常不易。
为了使密封环能起到较好的密封效果,密封环表面需要加工出微结构。在这种情况下,装配密封环时,密封环表面上存在的微结构可以弥补装配过程中产生的变形,从而起到更好的密封作用。但是这会增加加工过程算法的复杂程度和控制过程的复杂程度,增加对加工过程稳定性的要求,使得加工难度更大。
发明内容
本发明的目的是提供一种大气等离子体成形电极加工碳化硅密封环类零件的方法,为了解决碳化硅密封环类零件的难加工问题。
所述的目的是通过以下方案实现的:所述的一种大气等离子体成形电极加工碳化硅密封环类零件的方法,它的步骤方法是:
步骤一:将等离子体成形电极的上端面绝缘连接在龙门加工机床的竖直运动工作轴上,使等离子体成形电极与射频电源的输出端连接作为大气等离子体放电的阳极;
步骤二:将待加工碳化硅密封环类零件装卡在地电极上,地电极固定在龙门加工机床的工作平台上;将地电极接地作为大气等离子体放电的阴极;将龙门加工机床设置在密闭工作舱中,使密闭工作舱内的等离子体成形电极的导气孔通过气管与混合等离子体气源导气连通;
步骤三:等离子体成形电极下端面的成形工作表面具有与待加工碳化硅密封环类零件期望的微结构面型互补的微结构,对零件直接进行成形加工;等离子体成形电极部分要求在径向覆盖住待加工碳化硅密封环类零件,等离子体成形电极的下端所有转折部分倒圆角过渡,避免尖端放电,保证等离子体的放电均匀;使等离子体成形电极靠近待加工碳化硅密封环类零件的待加工表面,并使它们之间保持一定的放电间隙,放电距离范围为1mm-5mm;
步骤四:预热射频电源,预热时间为5-10分钟;然后打开混合等离子体气源,混合等离子体气源包含反应气体、大气等离子体激发气体和辅助气体,使大气等离子体激发气体的流量为1升/分钟~40升/分钟,反应气体与大气等离子体激发气体的流量比为1:10~1:1000;辅助气体与反应气体的流量比为1:10~1:1;
步骤五:当等离子体成形电极与待加工碳化硅密封环类零件的待加工表面之间的区域内充满大气等离子体激发气体、反应气体与辅助气体的混合气体后,启动射频电源,逐步增加射频电源的功率,使功率达到100W-400W,同时控制射频电源的反射功率为零,在射频电源工作的过程中持续稳定的通入混合气体,使等离子体成形电极与待加工碳化硅密封环类零件4的待加工表面之间的放电区域产生稳定的等离子体放电;
步骤六:根据去除量的要求,控制等离子体成形电极的运动轨迹和在零件表面的驻留时间,用上述产生的大气等离子体对零件表面进行加工;
步骤七、待加工完成后,关闭射频电源的电源,关闭混合等离子体气源,取出待加工碳化硅密封环类零件,对加工去除深度进行测量,以判断是否达到加工要求。
本发明与现有技术相比具有下列优点:
1.本发明专利利用大气等离子体加工方法对由难加工材料碳化硅制成的密封环类零件表面进行加工,加工效率高,精度高;
2.等离子体电极结构简单,电极为常见金属制成,制造简单,在成形电极的工作表面加工期望面型,避免了直接在难加工材料碳化硅上加工微结构;大气等离子体加工过程对电极的损伤很小,因此加工过程稳定可控,加工质量一致性好,费用低; 
3.本方法针对微结构表面,利用等离子体成形电极的加工表面进行加工,确定加工时间,不需要成形电极或者工件进行复杂的运动,不需要复杂的算法和运动数控,加工过程简单;
4. 成形电极中加工有冷却通道,实现了加工过程中的电极冷却,降低了加工过程中的电极温度,从而可以进行长时间的加工,使得反应离子的活性相对较高,因此去除率得到提高;
5.等离子体的产生是在开放的大气条件下实现的,避免了采用真空反应容器,大大降低了使用成本。
附图说明
图1是本发明的整体结构示意图;
图2是图1中等离子体成形电极1与待加工碳化硅密封环类零件4相对位置结构示意图;
图3是图1中等离子体成形电极1的仰视结构示意图。
具体实施方式
具体实施方式一:结合图1、图2、图3所示,它的步骤方法是:
步骤一:将等离子体成形电极1的上端面绝缘连接在龙门加工机床2的竖直运动工作轴2-1上,使等离子体成形电极1与射频电源3的输出端连接作为大气等离子体放电的阳极;
步骤二:将待加工碳化硅密封环类零件4装卡在地电极2-3上,地电极固定在龙门加工机床2的工作平台2-2上;将地电极2-3接地作为大气等离子体放电的阴极;将龙门加工机床2设置在密闭工作舱5中,使密闭工作舱5内的等离子体成形电极1的导气孔通过气管5-1与混合等离子体气源6导气连通;
步骤三:等离子体成形电极1下端面的成形工作表面具有与待加工碳化硅密封环类零件4期望的微结构面型互补的微结构,对零件直接进行成形加工;等离子体成形电极1部分要求在径向覆盖住待加工碳化硅密封环类零件4,等离子体成形电极1的下端所有转折部分倒圆角过渡,避免尖端放电,保证等离子体的放电均匀;使等离子体成形电极1靠近待加工碳化硅密封环类零件4的待加工表面,并使它们之间保持一定的放电间隙,放电距离范围为1mm-5mm;
步骤四:预热射频电源3,预热时间为5-10分钟;然后打开混合等离子体气源6,混合等离子体气源6包含反应气体、大气等离子体激发气体和辅助气体,使大气等离子体激发气体的流量为1升/分钟~40升/分钟,反应气体与大气等离子体激发气体的流量比为1:10~1:1000;辅助气体与反应气体的流量比为1:10~1:1;
步骤五:当等离子体成形电极1与待加工碳化硅密封环类零件4的待加工表面之间的区域内充满大气等离子体激发气体、反应气体与辅助气体的混合气体后,启动射频电源3,逐步增加射频电源3的功率,使功率达到100W-400W,同时控制射频电源3的反射功率为零,在射频电源3工作的过程中持续稳定的通入混合气体,使等离子体成形电极1与待加工碳化硅密封环类零件4的待加工表面之间的放电区域产生稳定的等离子体放电;
步骤六:根据去除量的要求,控制等离子体成形电极1的运动轨迹和在零件表面的驻留时间,用上述产生的大气等离子体对零件表面进行加工;
步骤七:待加工完成后,关闭射频电源3的电源,关闭混合等离子体气源6,取出待加工碳化硅密封环类零件4,对加工去除深度进行测量,以判断是否达到加工要求。
所述等离子体成形电极1的材质为铝。
所述龙门加工机床2为龙门铣床或龙门刨床。
所述射频电源3的频率为13.56MHz或27.12MHz,最大功率为2KW。
所述混合等离子体气源6为三元气体混合系统,供气流量为1-100L/min。
所述混合等离子体气源6中的大气等离子体激发气体可以为氦气、氩气等惰性气体;反应气体可以为六氟化硫、四氟化碳、三氟化氮等;辅助气体可以为氧气、氢气、氮气等。
工作原理:由射频电源3输出端连接等离子体成形电极1作为大气等离子体放电的阳极,零件地电极接地作为大气等离子体放电的地电极,由混合等离子体气源6提供的能被激发产生等离子体的气体充满等离子体成形电极和零件之间的间隙,由射频电源3提供输出电能,在等离子体成形电极1和待加工碳化硅密封环类零件4的放电间隙产生等离子体,同时反应气体被激发,产生具有反应活性的原子与待加工碳化硅密封环类零件4的表面发生化学反应,生成挥发性的反应产物并被旋转的等离子体电极带离零件表面,由此实现对碳化硅密封环类零件的无损伤快速加工。
四氟化碳在等离子体的作用下,发生电离,产生激发态的活性F原子,激发态的活性F原子与碳化硅材料的密封环类零件发生化学反应,生成挥发性产物,可以很顺利地从零件表面挥发,从而实现材料的原子级去除,最终生成超光滑表面,并且不会在零件表面产生新的损伤层;
Figure 2013101770771100002DEST_PATH_IMAGE002
Figure 2013101770771100002DEST_PATH_IMAGE004
成形电极中加工有冷却通道,实现了加工过程中的电极冷却,降低了加工过程中的电极温度,从而可以进行长时间的加工,使得反应离子的活性相对较高,因此去除率得到提高。

Claims (3)

1.大气等离子体成形电极加工碳化硅密封环类零件的方法,其特征在于包括如下步骤:
步骤一:将等离子体成形电极(1)的上端面绝缘连接在龙门加工机床(2)的竖直运动工作轴(2-1)上,使等离子体成形电极(1)与射频电源(3)的输出端连接作为大气等离子体放电的阳极;
步骤二:将待加工碳化硅密封环类零件(4)装卡在地电极(2-3)上,地电极固定在龙门加工机床(2)的工作平台(2-2)上;将地电极(2-3)接地作为大气等离子体放电的阴极;将龙门加工机床(2)设置在密闭工作舱(5)中,使密闭工作舱(5)内的等离子体成形电极(1)的导气孔通过气管(5-1)与混合等离子体气源(6)导气连通;
步骤三:等离子体成形电极(1)下端面的成形工作表面具有与待加工碳化硅密封环类零件(4)期望的微结构面型互补的微结构,对零件直接进行成形加工;等离子体成形电极(1)部分要求在径向覆盖住待加工碳化硅密封环类零件(4),等离子体成形电极(1)的下端所有转折部分倒圆角过渡,避免尖端放电,保证等离子体的放电均匀;使等离子体成形电极(1)靠近待加工碳化硅密封环类零件(4)的待加工表面,并使它们之间保持一定的放电间隙,放电间隙范围为1mm-5mm;
步骤四:预热射频电源(3),预热时间为5-10分钟;然后打开混合等离子体气源(6),混合等离子体气源(6)包含反应气体、大气等离子体激发气体和辅助气体,使大气等离子体激发气体的流量为1升/分钟~40升/分钟,反应气体与大气等离子体激发气体的流量比为1:10~1:1000;辅助气体与反应气体的流量比为1:10~1:1;
步骤五:当等离子体成形电极(1)与待加工碳化硅密封环类零件(4)的待加工表面之间的区域内充满大气等离子体激发气体、反应气体与辅助气体的混合气体后,启动射频电源(3),逐步增加射频电源(3)的功率,使功率达到100W-400W,同时控制射频电源(3)的反射功率为零,在射频电源(3)工作的过程中持续稳定的通入混合气体,使等离子体成形电极(1)与待加工碳化硅密封环类零件(4)的待加工表面之间的放电区域产生稳定的等离子体放电;
步骤六:根据去除量的要求,控制等离子体成形电极(1)的运动轨迹和在零件表面的驻留时间,用上述产生的大气等离子体对零件表面进行加工;
步骤七:待加工完成后,关闭射频电源(3)的电源,关闭混合等离子体气源(6),取出待加工碳化硅密封环类零件(4),对加工去除深度进行测量,以判断是否达到加工要求。
2.根据权利要求1所述的大气等离子体成形电极加工碳化硅密封环类零件的方法,其特征在于所述等离子体成形电极(1)的材质为铝。
3.根据权利要求1所述的大气等离子体成形电极加工碳化硅密封环类零件的方法,其特征在于所述混合等离子体气源(6)中的大气等离子体激发气体为氦气或氩气;反应气体为六氟化硫、四氟化碳或三氟化氮;辅助气体为氧气、氢气或氮气。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106735796A (zh) * 2016-12-07 2017-05-31 兰州空间技术物理研究所 一种离子推力器栅极零件去毛刺方法
CN107393845A (zh) * 2016-05-17 2017-11-24 北大方正集团有限公司 一种碳化硅晶体晶圆表面析出碳的去除系统及方法

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05261621A (ja) * 1992-03-18 1993-10-12 Ngk Insulators Ltd 模様付き金型の製造方法
JP2002043298A (ja) * 2000-07-28 2002-02-08 Mitsubishi Heavy Ind Ltd 半導体装置の製造方法及び半導体装置
CN1559734A (zh) * 2004-03-10 2005-01-05 温州洁瓴不锈钢制品有限公司 模具型腔表面图案的加工方法
CN1876320A (zh) * 2006-07-17 2006-12-13 哈尔滨工业大学 常压等离子体抛光装置
CN101032802A (zh) * 2007-04-11 2007-09-12 哈尔滨工业大学 常压等离子体抛光方法
CN101659568A (zh) * 2009-09-23 2010-03-03 哈尔滨工业大学 WC、SiC光学模压模具的大气等离子体化学加工方法

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05261621A (ja) * 1992-03-18 1993-10-12 Ngk Insulators Ltd 模様付き金型の製造方法
JP2002043298A (ja) * 2000-07-28 2002-02-08 Mitsubishi Heavy Ind Ltd 半導体装置の製造方法及び半導体装置
CN1559734A (zh) * 2004-03-10 2005-01-05 温州洁瓴不锈钢制品有限公司 模具型腔表面图案的加工方法
CN1876320A (zh) * 2006-07-17 2006-12-13 哈尔滨工业大学 常压等离子体抛光装置
CN101032802A (zh) * 2007-04-11 2007-09-12 哈尔滨工业大学 常压等离子体抛光方法
CN101659568A (zh) * 2009-09-23 2010-03-03 哈尔滨工业大学 WC、SiC光学模压模具的大气等离子体化学加工方法

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
李娜,王波等: "微结构光学零件的大气等离子数控加工", 《光学精密工程》 *

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107393845A (zh) * 2016-05-17 2017-11-24 北大方正集团有限公司 一种碳化硅晶体晶圆表面析出碳的去除系统及方法
CN106735796A (zh) * 2016-12-07 2017-05-31 兰州空间技术物理研究所 一种离子推力器栅极零件去毛刺方法

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