CN103203964A - 一种台阶电铸模板的制作工艺 - Google Patents
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Abstract
一种台阶电铸模板的制作工艺。工艺流程如下:电铸第一电铸层:芯模处理→前处理(除油、酸洗、喷砂1)→贴膜1→曝光1→单面显影1→电铸1→褪膜→剥离;电铸印刷面凸起台阶(upstep):印刷面前处理(酸洗、喷砂2)→贴膜2→曝光2→单面显影2→电铸2→褪膜。由此工艺可得到印刷面具有凸起台阶(upstep),且凸起台阶(upstep)区域具有开口图形的电铸模板。该模板具有以下优势:模板沉积厚度均匀性COV在10%以内;板面质量好,表面一级光亮,无针孔、麻点;凸起台阶(upstep)区域与第一电铸层的结合力大,不易脱落;凸起台阶(upstep)图形开口区域与第一电铸层的开口区域的位置精度高。
Description
技术领域
本发明涉及一种台阶电铸模板的制作工艺,属于材料制造和加工领域,具体涉及PCB制造领域中一种印刷面具有凸起台阶(up step)、且凸起台阶(up step)区域具有开口图形的印刷用掩模板的制作工艺。
背景技术
随着电子产品追求小型化,以前使用的穿孔插件元件已无法缩小;电子产品功能更完整,所采用的集成电路(IC)已无法穿孔元件,特别是大规模、高集成IC,不得不采用表面贴片元件,因此模板印刷工艺在电子制造业得到了迅速的发展,SMT印刷就是典型。模板的采购不仅是SMT装配工艺的第一步,也是最重要的一步。模板的主要功能是帮助锡膏的沉积,目的是将准确数量的材料转移到光板上准确的位置。锡膏阻塞在模板上越少,沉积在电路板上就越多。因此对模板的开口质量要求越光滑越好。但是,对于一些特殊的PCB板,如PCB板上有一些特殊部位需要锡膏的量比其他部位要多或是少,因此必须得对对应模板的部位进行加厚或减薄处理,一般来说,up区域需要制作图形,down区域不需要制作图形。
印刷模板是用来印刷锡膏的模具,目前一般采用钢网。而传统工艺通过激光切割技术制作的钢模开口尺寸质量不能达到要求,板面质量也不够好。电铸成型,一种递增而不是递减的工艺,制作出一个金属模板,具有独特的密封特性,减少对锡桥和模板底面清洁的需要。该工艺提供近乎完美的定位,没有几何形状的限制,具有内在梯形的光滑孔壁和低表面张力,改进锡膏释放。通过在一个要形成开孔的基板(或芯模)上显影光刻胶,然后逐个原子、逐层地在光刻胶周围电铸出模板。对于局部加厚的技术来说,其重点在于up step图形区域的开口于基板图形区域的开口位置精度要高,用于up step图形区域分担电流的辅助分流板,同时结合力要大,否则寿命将大大降低。
因此,如何更好、更快地制作出印刷面具有up台阶的电铸金属模板备受人们关注。
发明内容
本发明旨在解决以上技术问题,发明一种台阶电铸模板的制作工艺。利用此制作工艺制作而成的金属模板, 印刷面具有凸起台阶(up step),且up step区域的图形开口与基板开口具有较高的对位精度。制得的整体电铸模板的开口孔壁光滑,无毛刺、渗镀等不良现象,表面质量好,无针孔、麻点等不良缺陷;板面的厚度均匀性COV要在10%以内;板面一级光亮;up step区域的铸层与第一电铸层的结合力大,不易脱落。
一种台阶模板的制作方法。其工艺流程如下:
(1)电铸第一电铸层:芯模处理→前处理(除油、酸洗、喷砂1)→贴膜1→曝光1→单面显影1→电铸1→剥离;
(2)电铸印刷面凸起台阶(up step):前处理(酸洗、喷砂2)→贴膜2→曝光2→单面显影2→电铸2→褪膜。
具体的说,各步骤的具体工艺流程为:
(1)电铸第一电铸层:
a. 芯模处理: 选择1.8mm不锈钢作为芯模,并将基板裁剪成所需要的尺寸;
b.前处理:芯模除油、酸洗后,将裁剪好的钢片进行两面喷砂处理,提高表面粗糙度,从而提高贴膜时干膜与钢片的结合力;
c. 贴膜1: 选择附着力高的干膜,防止电铸过程中发生掉膜现象,在芯模表面进行贴膜;
d.曝光1:对所贴干膜进行曝光,曝光区域为开口图形区域,曝光干膜作为电铸过程中的保护层,阻止材料沉积;
e. 单面显影1: 将未曝光干膜显影清除;
f.电铸1:电铸材料沉积在无干膜区域,克隆出与曝光图形一致的开口图形;
g. 剥离: 第一次电铸完后,褪膜,褪完膜后将电铸层从芯模上剥离下来。
(2)电铸印刷面凸起台阶(up step):
a. 前处理: 将第一电铸层表面酸洗、喷砂, 通过调压、减速来加强印刷面的粗糙度以加强其与干膜的贴紧程度;
b. 贴膜2:由于所要电铸的up step区域面积较小,所以在贴膜时重复压膜,保证干膜紧贴第一电铸层,即确保up step区域不易脱离;
c.曝光2:通过CCD边孔对位,准确对位up step区域位置及up step的开口图形区域,将所要电铸up step以外的区域及up step区域的开口图形曝光;
d. 单面显影2: 显影清除未曝光干膜,将需要沉积电铸材料的区域(即up step区域)暴露出来;
e.电铸2:把分流辅助模板小心对位到第一电铸层上,将第一电铸层、分流板一块固定到飞巴上,浸入电铸槽,进行二次电铸,在未曝光区域(即无干膜区域)沉积电铸材料,形成印刷面的up step;
所述的分流板,即在与芯模尺寸相同的不锈钢板上通过激光切割的方法切出一个与up step区域位置相同,大小为up 图形区域的1.2倍的通孔,起到分担电流、减轻边缘效应的作用。
f. 褪膜: 二次电铸完成后,褪膜清洗;
优选地,前处理工艺参数如下:
除油时间 | 1~2min |
酸洗时间 | 1~2min |
喷砂时间1 | 2~3min |
喷砂时间2 | 5~10min |
压力(pis) | 1~5 |
优选地,曝光显影工艺参数如下:
优选地,电铸工艺参数如下:
这样就制作出如图2所示的台阶模板,而该种印刷模板的印刷过程如图1所示,印刷面的凸起台阶,其主要作用为在PCB板上的焊接铜台上增加印刷的下锡量,用于大元件的焊接。
本专利发明的台阶电铸模板的制作工艺,与以往电铸模板的制作工艺相比,有以下有益效果:
(1)能够制作印刷面具有up step的模板;
(2)无论是第一电铸层图形区域还是up step图形区域的开口质量好,孔壁光滑,无毛刺;
(3)板面质量好,表面一级光亮,无针孔、麻点;
(4)up step图形开口区域与第一电铸层的开口区域的位置精度高;
(5)up step区域与第一电铸层的结合力大,不易脱落;
(6)电铸模板图形区域的厚度均匀性好。
附图说明
本发明的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解。
图1. 印刷面up区域的开口剖视图
1-PCB基板
2-模板
3a-焊接基台
3b-焊接基台
4-平面开口
5-印刷面up区域
6-印刷面up区域的开口
7-印刷面
8-PCB面
图2. 模板印刷面up示意图
1-模板
2-模板平面开口
3-模板印刷面up区域
4-模板印刷面up区域开口
5-模板印刷面
具体实施方式
下面详细描述本发明的实施例,所述实施例的示例在附图中示出,其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的,仅用于解释本发明,而不能理解为对本发明的限制。
本法名的具体的工艺流程以及本发明中工艺流程中的注意问题将在以下叙述中更加详尽。
一种台阶模板的制作方法。其具体工艺流程如下:
(1)电铸第一电铸层:
a. 芯模处理: 选择1.8mm不锈钢作为芯模,并将基板裁剪成所需要的尺寸;
b.前处理:芯模除油、酸洗后,将裁剪好的钢片进行两面喷砂处理,提高表面粗糙度,从而提高贴膜时干膜与钢片的结合力;
c. 贴膜1: 选择附着力高的干膜,防止电铸过程中发生掉膜现象,在芯模表面进行贴膜;
d.曝光1:对所贴干膜进行曝光,曝光区域为开口图形区域,曝光干膜作为电铸过程中的保护层,阻止材料沉积;
e. 单面显影1: 将未曝光干膜显影清除;
f.电铸1:电铸材料沉积在无干膜区域,克隆出与曝光图形一致的开口图形;
g. 剥离: 第一次电铸完后,褪膜,褪完膜后将电铸层从芯模上剥离下来。
(2)电铸印刷面凸起台阶(up step):
a. 前处理: 将第一电铸层表面酸洗、喷砂, 通过调压、减速来加强印刷面的粗糙度以加强其与干膜的贴紧程度;
b. 贴膜2:由于所要电铸的up step区域面积较小,所以在贴膜时重复压膜,保证干膜紧贴第一电铸层,即确保up step区域不易脱离;
c.曝光2:通过CCD边孔对位,准确对位up step区域位置及up step的开口图形区域,将所要电铸up step以外的区域及up step区域的开口图形曝光;
d. 单面显影2: 显影清除未曝光干膜,将需要沉积电铸材料的区域(即up step区域)暴露出来;
e.电铸2:把分流辅助模板小心对位到第一电铸层上,将第一电铸层、分流板一块固定到飞巴上,浸入电铸槽,进行二次电铸,在未曝光区域(即无干膜区域)沉积电铸材料,形成印刷面的up step;
所述的分流板,即在与芯模尺寸相同的不锈钢板上通过激光切割的方法切出一个与up step区域位置相同,大小为up 图形区域的1.2倍的通孔,起到分担电流、减轻边缘效应的作用。
f. 褪膜: 二次电铸完成后,褪膜清洗;
一组优选的各步骤的工艺参数如下:
前处理工艺参数:
除油时间 | 2min |
酸洗时间 | 2min |
喷砂时间1 | 3min |
喷砂时间2 | 10min |
压力(pis) | 5 |
曝光显影工艺参数:
优选地,电铸工艺参数如下:
电铸时,通过前处理增加喷砂时间、电铸前增加活化时间等方式来提高两镀层之间的结合力,防止镀层脱落,通过实验做好的阳极挡板来控制电流密度线,使之在图形区域范围内第一电铸层沉积厚度均匀性COV在10%以内;通过调整电铸添加剂的量来保证镀层质量,如镀层光亮、无针孔、麻点;显影时通过控制显影点来达到镀层开口孔壁质量好,无毛刺、渗镀。
这样就制作出如图2所示的台阶模板,而该种印刷模板的印刷过程如图1所示,印刷面的凸起台阶,其主要作用为在PCB板上的焊接铜台上增加印刷的下锡量,用于大元件的焊接。
尽管已经示出和描述了本发明的实施例,本领域的普通技术人员可以理解:在不脱离本发明的原理和宗旨的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型,本发明的范围由权利要求及其等同物限定。
Claims (10)
1.一种台阶电铸模板的制作工艺,工艺流程如下:
电铸第一电铸层:芯模处理→前处理(除油、酸洗、喷砂1)→贴膜1→曝光1→单面显影1→电铸1→褪膜→剥离;
电铸印刷面凸起台阶(up step):印刷面前处理(酸洗、喷砂2)→贴膜2→曝光2→单面显影2→电铸2→褪膜。
2.根据权利要求1所述的台阶电铸模板的制作工艺,其特征在于,前处理工艺参数如下:
。
5.根据权利要求1所述的台阶电铸模板的制作工艺,其特征在于,基板材料为纯镍、镍铁合金中的任意一种。
6.根据权利要求1所述的台阶电铸模板的制作工艺,其特征在于,制备得到的金属模板的印刷面具有凸起台阶(up step)区域。
7.根据权利要求1所述的台阶电铸模板的制作工艺,其特征在于,制备得到的金属模板具有开口图形,且开口图形分布在凸起台阶(up step)区域和平面区域。
8.根据权利要求1所述的台阶电铸模板的制作工艺,其特征在于,电铸印刷面凸起台阶(up step)区域前都要通过CCD对位边孔,保证电铸凸起台阶(up step)时开口的位置精度在±10μm。
9.根据权利要求1所述的台阶电铸模板的制作工艺,其特征在于,电铸印刷面凸起台阶(up step)区域时,需制作辅助导电板(分流板)来分散干膜位置边缘的电流密度。
10.根据权利要求1所述的台阶电铸模板的制作工艺,其特征在于,电铸印刷面凸起台阶(up step)区域前,要加强活化时间来达到提高镀层之间的结合力。
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