CN103182282A - 一种反应釜 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种反应釜,所述的反应釜是由釜底及沿釜底周缘向上延伸的釜壁组成,反应釜的上端开口,在反应釜的上端开口处设有釜盖。本发明在反应釜上方开口处设有釜盖,从而在加工时可以将盖子盖在反应釜上方,防止油墨溢出。再进一步的,在釜盖上分别预留有投料口、砂磨头入口及搅拌头入口,在投料口、砂磨头入口及搅拌头入口处分别设有盖子,可以根据实际加工时的环境选择将相应的盖子打开或盖好。
Description
技术领域
本发明涉及油墨生产装备,特别涉及一种反应釜。
背景技术
在油墨生产中一般包括搅拌预分散、砂磨、调质(调色)、过滤包装4个工段。如何将这些工段整合在一套设备中,是未来油墨生产发展的一个方向。而决定这些工序是否能联机或者整合在一起的关键是砂磨工段。
目前国内主要有带有供给通道的再循环,先进一些的也有多道次式循环,但这些砂磨方式都无法跟其他工段结合起来。带有供给通道的再循环、多道次式循环这2种生产工艺的缺点是都利用砂磨机直接对配料部分的油墨进行砂磨,且需要在不同拉缸种进行切换。直接对配料部分油墨进行砂磨效果会相对较好,但是也带来一些其他问题,如砂磨时间延长,且遇到一些颜料粒径较大或者颗粒状的颜料时,容易对砂磨机进料口的泵体及筛圈造成堵塞,同时砂磨过程中需要在不停同的拉缸中切换,影响油墨的收得率,增加拉缸清洗次数等人工操作。
我们也注意到了一些专利涉及循环砂磨,如公开号为CN202410800U(砂磨循环系统)、公开号为CN202224215U(一种实验室循环式砂磨机)等。然而前者只涉及了循环砂磨工段,而后者实际上也只涉及了砂磨工段,且处于实验室使用状态。
特研发一种能有效缩短油墨的砂磨时间,提高油墨砂磨时的润湿时间,降低砂磨过程中的损耗的加工系统,该加工系统包含有一个反应釜,先将油墨配料部分倒入反应釜,再用搅拌头打碎,用篮式砂磨机预分散,再将反应釜通过油泵连接到大流量循环砂磨机进行精磨。
但是无论是搅拌头高速旋转还是篮式砂磨机的砂磨头旋转搅拌、砂磨油墨,都有使油墨溢出反应釜的可能,因此需要设计一个既能满足搅拌、砂磨又能防止油墨溢出的反应釜势在必行。
发明内容
本发明克服了上述现有技术中存在的不足,提供了一种既能满足搅拌、砂磨又能防止油墨溢出的反应釜,从而使加工环境更卫生、干净。
本发明的技术方案是这样实现的:
一种反应釜,所述的反应釜是由釜底及沿釜底周缘向上延伸的釜壁组成,反应釜的上端开口,在反应釜的上端开口处设有釜盖。
作为优选,在釜盖上分别预留有投料口、砂磨头入口及搅拌头入口,在投料口、砂磨头入口及搅拌头入口处分别设有盖子。可以根据实际加工时的环境选择将相应的盖子打开或盖好。
作为优选,所述的反应釜为双层结构,在反应釜的内层与外层之间设有一空心夹层,在反应釜的下端设有冷却水入口,反应釜的上端设有冷却水出口,冷却水入口、冷却水出口均与空心夹层相连通。这样反应釜可以连接冷却水循环管道,对反应釜进行降温,防止油墨温度过高。
采用了上述技术方案的本发明的原理及有益效果是:
本发明是是在反应釜上方开口处设有釜盖,从而在加工时可以将盖子盖在反应釜上方,防止油墨溢出。再进一步的,在釜盖上分别预留有投料口、砂磨头入口及搅拌头入口,在投料口、砂磨头入口及搅拌头入口处分别设有盖子,可以根据实际加工时的环境选择将相应的盖子打开或盖好。
附图说明
图1为实施例中本发明的结构示意图;
图2为实施例中釜盖的结构示意图。
具体实施方式
本发明的具体实施方式如下:
实施例:一种反应釜,如图1所示,所述的反应釜1是由釜底7及沿釜底7周缘向上延伸的釜壁8组成,反应釜1的上端开口,在反应釜1的上端开口处设有釜盖9。
如图1、2所示,在釜盖9上分别预留有投料口10、砂磨头入口11及搅拌头入口12,在投料口10、砂磨头入口11及搅拌头入口12处分别设有盖子13。
如图1所示,所述的反应釜1为双层结构,在反应釜1的内层2与外层3之间设有一空心夹层4,在反应釜1的下端设有冷却水入口5,反应釜1的上端设有冷却水出口6,冷却水入口5、冷却水出口6均与空心夹层4相连通。
Claims (3)
1.一种反应釜,其特征是:所述的反应釜是由釜底及沿釜底周缘向上延伸的釜壁组成,反应釜的上端开口,在反应釜的上端开口处设有釜盖。
2.根据权利要求1所述的一种反应釜,其特征是:在釜盖上分别预留有投料口、砂磨头入口及搅拌头入口,在投料口、砂磨头入口及搅拌头入口处分别设有盖子。
3.根据权利要求1所述的一种反应釜,其特征是:所述的反应釜为双层结构,在反应釜的内层与外层之间设有一空心夹层,在反应釜的下端设有冷却水入口,反应釜的上端设有冷却水出口,冷却水入口、冷却水出口均与空心夹层相连通。
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2013
- 2013-03-01 CN CN201310065026XA patent/CN103182282A/zh not_active Withdrawn
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SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C04 | Withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
WW01 | Invention patent application withdrawn after publication |
Application publication date: 20130703 |