CN103176225A - 一种高强度减反膜系结构 - Google Patents
一种高强度减反膜系结构 Download PDFInfo
- Publication number
- CN103176225A CN103176225A CN2011104349605A CN201110434960A CN103176225A CN 103176225 A CN103176225 A CN 103176225A CN 2011104349605 A CN2011104349605 A CN 2011104349605A CN 201110434960 A CN201110434960 A CN 201110434960A CN 103176225 A CN103176225 A CN 103176225A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- refractive index
- index film
- film
- low refractive
- low
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Abstract
本发明提供了一种高强度减反射膜系结构，包括基材S-FPL51和镀在基材上的AR膜。其中AR膜是一种减反膜，从内到外包括九层膜结构：第一低折射率膜（L1）、中折射率膜（M）、第二低折射率膜（L2）、第一高折射率膜（H1）、第三低折射率膜（L3）、第二高折射率膜（H2）、第四低折射率膜（L4）、第三高折射率膜（H3）、第五低折射率膜（L5）。本发明所述高强度减反射膜系结构耐高温，能长久使用，对极端环境要求下的光学仪器性能稳定提供了一中生存可能，为光学镜片设计和制造提供便利。
Description
发明领域
本发明涉及一种特殊软材料的膜系结构，尤其涉及一种高强度减反膜系结构。
背景技术
在单反光学成像的应用及其它投影显示器件的使用中，在考虑到成本和成像清晰度等因素的情况下，生产者都会大量采用到各种特殊材料做成各种大小，弧度的球面镜片。通常情况下上述材料混合物中含有不同的稀土金属配方，并且镜头中的材料需要耐高温、高湿、耐氧化等特性。这种材料具备良好的光学性能-具体表现为高色散、低折射率等特点。
S-FPL51就是一种光学设计中普遍被采用的材料(其具有较低的折射率nd=1.49700，和较高的色散vd=81.6)，此材料磨耗度（磨耗度通常用来说明材料软硬特性）特别大—达到449。由于S-FPL51在没有镀膜时在可见光范围内的反射较小（透过率在λo=340nm处为80%左右）。
S-BSM81就是一种光学设计中普遍被采用的材料(其具有较低的折射率nd=1.64000，和较高的色散vd=60.09)，此材料磨耗度（磨耗度通常用来说明材料软硬特性）为84。由于S-BSM81在没有镀膜时在可见光范围内的反射较小（透过率在λo=370nm处为80%左右）。
LAK10就是一种光学设计中普遍被采用的材料(其具有较低的折射率nd=1.72003，和较高的色散vd=54.92)，此材料磨耗度（磨耗度通常用来说明材料软硬特性）为110。由于LAK10在没有镀膜时在可见光范围内的反射较小（透过率在λo=370nm处为80%左右）。
在这种情况下，生产者为了增加光量的透过率,通常都要在镜片上镀上多层AR膜,现有的AR膜处理过程通常是在基材的两侧使用真空蒸发技术沉积一层或多层膜,以增加光量的透过率。上述技术的存在的不足在于：
（1）、AR膜不耐高温、高湿，也不耐磨擦，通常的高温镀膜无法满足使用过程中苛刻的要求；
（2）、AR膜在一般的真空镀的情况下，成膜不够牢固，不能经久使用，特别是在一些极端恶劣的环境条件下无法使用。
以上两点缺陷给光学镜片设计和制造过程带来困难。
发明内容
本发明的目的就是为了解决上述技术问题，提供了一种高强度减反膜系结构，包括基材和镀在基材上的AR膜；其中AR膜是一种减反膜，从内到外包括九层膜结构：第一低折射率膜、中折射率膜、第二低折射率膜、第一高折射率膜、第三低折射率膜、第二高折射率膜、第四低折射率膜、第三高折射率膜、第五低折射率膜。
较佳地，所述第一低折射率膜 的膜料是MgF2 ，所述中折射率膜的膜料是AL2O3。
较佳地，所述第一高折射率膜（H1）的膜料是SV7（H4）。
较佳地，所述的第一低折射率膜和中折射率膜的膜料分别是MgF2和 AL2O3。
较佳地，所述的基材是S-FPL51(FCD1) ，由SIO2、GaCO3、Na2CO3以及稀土元素高温熔炼恒温退火而成。
较佳地，第一低折射率膜、中折射率膜、第二低折射率膜、第一高折射率膜、第三低折射率膜、第二高折射率膜、第四低折射率膜、第三高折射率膜、第五低折射率膜所用的镀膜材料分别为MgF2、AL2O3-L、MgF2、H4、MgF2、H4、MgF2、H4、MgF2；对应的膜层厚度分别为36.34nm、35.5nm、57.15nm、26.58nm、31.73nm、80.66nm、12.46nm、40.27nm、103.68nm。
借由上述技术方案，本发明的优点及有益效果在于：
（1）本发明的实施例所述高强度减反膜系结构可以在高温（实际温度300℃）、高真空2.8X10-3状态下通过电子枪把膜料溅射到基材上，且做出来的膜非常牢固，能够满足苛刻的条件、能长久使用。
（2）高强度减反膜系结构由于两种高折射率膜料和低折射率膜料的结构配比，AR膜效果达到，在波长400nm--780nm范围内，R<0.5%；Rave<0.4%.
AR膜在高温高湿环境测试当中可通过一下测试并且膜层不脱落，测试后的AR膜光学性能符合标准规定要求：
（1）、-40℃（2H）、+80 ℃（2H）25次循环；
（2）、-30℃（32H）~+65 ℃80%RH(32H)1次循环；
（3）、3M（P-24）或同等No.610胶带剥离试验；
（4）、+60 ℃90%RH，1000H高温高湿试验；
（5）、+80 ℃无加湿168H试验；
（6）、表面磨棒耐磨试验200gf往复50次摩擦。
附图说明
附图示出了本发明的实施例，并与说明书一起，用来解释本发明的原理。通过以下结合附图所作的详细描述，可以更清楚地理解本发明的目的、优点及特征，其中：
图1为本发明的实施例所述高强度减反膜系结构的膜层结构图。
图2为本发明的实施例所述高强度减反膜系结构的反射率曲线图。
具体实施方式
以下结合附图进一步说明本发明的实施例。
实施例一
请参见图1所示，本发明所述的一种高强度减反膜系结构，其包括基材S-FPL51和镀在基材上的AR膜。其中AR膜是一种减反膜，从内到外包括九层膜结构：第一低折射率膜（L1）、中折射率膜（M）、第二低折射率膜（L2）、第一高折射率膜（H1）、第三低折射率膜（L3）、第二高折射率膜（H2）、第四低折射率膜（L4）、第三高折射率膜（H3）、第五低折射率膜（L5）。
其中第一低折射率膜（L1）和中折射率膜（M）的膜料是MgF2和AL2O3。第一高折射率膜（H1）的膜料是SV7（H4）。基材是S-FPL51，由SIO2、GaCO3、Na2CO3以及稀土元素添加等无机化合物高温熔炼而成。第一低折射率膜（L1）、中折射率膜（M）、第二低折射率膜（L2）、第一高折射率膜（H1）、第三低折射率膜（L3）、第二高折射率膜（H2）、第四低折射率膜（L4）、第三高折射率膜（H3）和第五低折射率膜（L5）对应各层膜的厚度分别为36.34nm、25.5nm、57.15nm、26.58nm、31.73nm、80.66nm、12.46nm、40.27nm、103.68nm。
实施例二
本发明所述的一种高强度减反膜系结构，其包括基材S-BSM81和镀在基材上的AR膜。其中AR膜是一种减反膜，从内到外包括九层膜结构：第一低折射率膜（L1）、中折射率膜（M）、第二低折射率膜（L2）、第一高折射率膜（H1）、第三低折射率膜（L3）、第二高折射率膜（H2）、第四低折射率膜（L4）、第三高折射率膜（H3）、第五低折射率膜（L5）。
其中第一低折射率膜（L1）和中折射率膜（M）的膜料是MgF2和AL2O3。第一高折射率膜（H1）的膜料是SV7（H4）。基材是S-FSL5，由SIO2、GaCO3、Na2CO3以及稀土元素添加等无机化合物高温熔炼而成。第一低折射率膜（L1）、中折射率膜（M）、第二低折射率膜（L2）、第一高折射率膜（H1）、第三低折射率膜（L3）、第二高折射率膜（H2）、第四低折射率膜（L4）、第三高折射率膜（H3）和第五低折射率膜（L5）对应各层膜的厚度分别为28.93nm、45nm、80.09nm、20.85nm、43.92nm、69.18nm、12nm、49nm、103.5nm。
实施例三
本发明所述的一种高强度减反膜系结构，其包括基材LAK10和镀在基材上的AR膜。其中AR膜是一种减反膜，从内到外包括九层膜结构：第一低折射率膜（L1）、中折射率膜（M）、第二低折射率膜（L2）、第一高折射率膜（H1）、第三低折射率膜（L3）、第二高折射率膜（H2）、第四低折射率膜（L4）、第三高折射率膜（H3）、第五低折射率膜（L5）。
其中第一低折射率膜（L1）和中折射率膜（M）的膜料是MgF2和AL2O3。第一高折射率膜（H1）的膜料是SV7（H4）。基材是LAK10，由SIO2、GaCO3、Na2CO3以及稀土元素添加等无机化合物高温熔炼而成。第一低折射率膜（L1）、中折射率膜（M）、第二低折射率膜（L2）、第一高折射率膜（H1）、第三低折射率膜（L3）、第二高折射率膜（H2）、第四低折射率膜（L4）、第三高折射率膜（H3）和第五低折射率膜（L5）对应各层膜的厚度分别为21.97nm、40.94nm、110.31nm、13.87nm、47.34nm、60.71nm、12.86nm、49.44nm、100.46nm。
如图2所示，AR膜的在波长范围为400nm--780nm之内，R<0.5%；Rave<0.4%.制造加工显示具有相当高的减反效果。
本发明所述高强度减反膜系结构耐高温，能长久使用，给光学镜片设计和制造带来帮助。
Claims (6)
1.一种高强度减反膜系结构，包括基材和镀在基材上的AR膜；其特征在于，所述的AR膜是一种减反膜，从内到外包括九层膜结构：第一低折射率膜、中折射率膜、第二低折射率膜、第一高折射率膜、第三低折射率膜、第二高折射率膜、第四低折射率膜、第三高折射率膜、第五低折射率膜，其中折射率膜的膜料是MgF2，所述中折射率膜的膜料是AL2O3，高折射率膜的膜料是SV7（H4）。
2.一种根据权利要求1中任意一项所述的高强度减反膜系结构，其特征在于，所述减反膜为九层薄膜，其总厚度为400~480nm。
3.一种根据权利要求1中任意一项所述的高强度减反膜系结构，其特征在于，所述的基材是S-FPL51，S-BSM81，LAK10中的一种，由SIO2、GaCO3、Na2CO3以及稀土元素高温熔炼恒温退火而成。
4.一种根据权利要求3所述的减反膜系结构，其特征在于，所述基材为S-FPL51，所述第一低折射率膜、中折射率膜、第二低折射率膜、第一高折射率膜、第三低折射率膜、第二高折射率膜、第四低折射率膜、第三高折射率膜、第五低折射率膜对应的膜层厚度分别为36.34nm、25.5nm、57.15nm、26.58nm、31.73nm、80.66nm、12.46nm、40.27nm、103.68nm。
5.一种根据权利要求3所述的减反膜系结构，其特征在于，所述基材为S-BSM81，所述第一低折射率膜、中折射率膜、第二低折射率膜、第一高折射率膜、第三低折射率膜、第二高折射率膜、第四低折射率膜、第三高折射率膜、第五低折射率膜对应的膜层厚度分别为28.93nm、45nm、80.09nm、20.85nm、43.92nm、69.18nm、12nm、49nm、103.5nm。
6.一种根据权利要求3所述的减反膜系结构，其特征在于，所述基材为LAK10，所述第一低折射率膜、中折射率膜、第二低折射率膜、第一高折射率膜、第三低折射率膜、第二高折射率膜、第四低折射率膜、第三高折射率膜、第五低折射率膜对应的膜层厚度分别为21.97nm、40.94nm、110.31nm、13.87nm、47.34nm、60.71nm、12.86nm、49.44nm、100.46nm。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN2011104349605A CN103176225A (zh) | 2011-12-22 | 2011-12-22 | 一种高强度减反膜系结构 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN2011104349605A CN103176225A (zh) | 2011-12-22 | 2011-12-22 | 一种高强度减反膜系结构 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN103176225A true CN103176225A (zh) | 2013-06-26 |
Family
ID=48636204
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN2011104349605A Pending CN103176225A (zh) | 2011-12-22 | 2011-12-22 | 一种高强度减反膜系结构 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN103176225A (zh) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US11187915B2 (en) | 2018-01-10 | 2021-11-30 | Mitsubishi Electric Corporation | Parallel light generation device |
| CN115128712A (zh) * | 2022-06-17 | 2022-09-30 | 福建福特科光电股份有限公司 | 一种防雾膜及其制备方法 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4370027A (en) * | 1977-01-20 | 1983-01-25 | Nippon Kogaku K.K. | Anti-reflection film with an ion-penetration prevention layer |
| CN1226970A (zh) * | 1997-05-16 | 1999-08-25 | 保谷株式会社 | 具有抗反射膜的塑料光学器件以及用来使抗反射膜的厚度均一的机构 |
| US20020090521A1 (en) * | 2000-09-29 | 2002-07-11 | Tatsuji Nakajima | Silica layers and antireflection film using same |
| CN101271166A (zh) * | 2007-03-22 | 2008-09-24 | 富士能株式会社 | 反射防止膜、光学元件及光学系统 |
-
2011
- 2011-12-22 CN CN2011104349605A patent/CN103176225A/zh active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4370027A (en) * | 1977-01-20 | 1983-01-25 | Nippon Kogaku K.K. | Anti-reflection film with an ion-penetration prevention layer |
| CN1226970A (zh) * | 1997-05-16 | 1999-08-25 | 保谷株式会社 | 具有抗反射膜的塑料光学器件以及用来使抗反射膜的厚度均一的机构 |
| US20020090521A1 (en) * | 2000-09-29 | 2002-07-11 | Tatsuji Nakajima | Silica layers and antireflection film using same |
| CN101271166A (zh) * | 2007-03-22 | 2008-09-24 | 富士能株式会社 | 反射防止膜、光学元件及光学系统 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US11187915B2 (en) | 2018-01-10 | 2021-11-30 | Mitsubishi Electric Corporation | Parallel light generation device |
| CN115128712A (zh) * | 2022-06-17 | 2022-09-30 | 福建福特科光电股份有限公司 | 一种防雾膜及其制备方法 |
| CN115128712B (zh) * | 2022-06-17 | 2023-08-29 | 福建福特科光电股份有限公司 | 一种防雾膜及其制备方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US20130135742A1 (en) | Optical product and spectacle plastic lens | |
| WO2013183457A1 (ja) | 光学素子 | |
| TWI771562B (zh) | 附反射防止膜之玻璃基板及光學構件 | |
| US20230296818A1 (en) | Optical filter and imaging device | |
| CN102798919B (zh) | 受抑波长漂移的截止滤光片 | |
| JP2007171735A (ja) | 広帯域反射防止膜 | |
| JP2019520303A5 (zh) | ||
| Moghal et al. | Development of single layer nanoparticle anti-reflection coating for polymer substrates | |
| KR102269515B1 (ko) | 반사 방지 필름 | |
| CN104007490B (zh) | 一种采用两种镀膜材料的光学增透膜 | |
| JP2010191074A (ja) | 光学素子 | |
| KR100959518B1 (ko) | 반사방지용 코팅 조성물 및 이의 제조방법, 그 반사방지용코팅 조성물로 이루어진 반사방지막 | |
| CN202453522U (zh) | 一种新型减反膜系结构 | |
| CN103176225A (zh) | 一种高强度减反膜系结构 | |
| JP6795031B2 (ja) | 投影レンズ | |
| JP6016155B2 (ja) | 光学製品及び眼鏡プラスチックレンズ | |
| CN113109896B (zh) | 一种减反射防宽红外耐高温树脂镜片及其制备方法 | |
| CN115291313A (zh) | 一种封装式亚波长光栅偏振滤波片及其制造方法 | |
| US20180113238A1 (en) | Optical product, plastic lens, and eye glasses | |
| CN112764135B (zh) | 一种极低残余反射的窄带减反射膜 | |
| JPWO2018216310A1 (ja) | 光学素子及び投影レンズ | |
| JP6164120B2 (ja) | 反射防止膜付き基材および物品 | |
| JP2006215081A (ja) | 光学物品及び製造方法 | |
| US20190177553A1 (en) | Antireflection Film and Its Use on a Substrate | |
| CN201645947U (zh) | 新型膜系结构 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| C10 | Entry into substantive examination | ||
| SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
| C53 | Correction of patent of invention or patent application | ||
| CB03 | Change of inventor or designer information |
Inventor after: Ye Xiangyun Inventor after: Hong Jian Inventor after: Tang Shibo Inventor before: Ye Xiangyun Inventor before: Tang Shibo |
|
| COR | Change of bibliographic data |
Free format text: CORRECT: INVENTOR; FROM: YE XIANGYUN TANG SHIBO TO: YE XIANGYUN HONG JIAN TANG SHIBO |
|
| C05 | Deemed withdrawal (patent law before 1993) | ||
| WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20130626 |