CN103135284A - 配向膜的形成方法 - Google Patents

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CN103135284A CN2011103763082A CN201110376308A CN103135284A CN 103135284 A CN103135284 A CN 103135284A CN 2011103763082 A CN2011103763082 A CN 2011103763082A CN 201110376308 A CN201110376308 A CN 201110376308A CN 103135284 A CN103135284 A CN 103135284A
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Abstract

一种配向膜的形成方法,包括以下步骤:首先,提供光感材料,光感材料定义第一像素区及第二像素区,第一像素区与第二像素区各定义第一子像素区及第二子像素区。然后,于第一次曝光中,以第一曝光方向光线及第二曝光方向光线照射光感材料,以于第一像素区的第一子像素区及第二像素区的第二子像素区分别形成不同配向位向的第一配向部及第二配向部。然后,于第二次曝光中,以第一曝光方向光线及第二曝光方向光线照射光感材料,以于第一像素区的第二子像素区及第二像素区的第一子像素区形成不同配向位向的第三配向部及第四配向部。

Description

配向膜的形成方法
技术领域
本发明是有关于一种配向膜的形成方法,且特别是有关于一种利用曝光的形成配向膜的形成方法。
背景技术
传统上,形成配向膜的步骤包含涂布(Dispensing)、烘烤(Baking)、配向(Aligning)及洗净(Cleaning)。首先,在两基板上分别涂布聚酰亚胺(Polyimide,PI)作为配向膜的材料。然后,借由烧成炉以进行烘烤,使配向膜热硬化。然后,在已热硬化的配向膜上,利用配向设备(例如滚轮)依据一预定方向加以摩擦(rubbing)以形成凹痕。最后,借由洗净设备将两基板洗净。如此,配向膜上就具有一定方向的凹痕及角度,可使液晶分子依循排列。当二基板皆形成配向膜后,便可进行后续的面板制程,将二基板对位贴合,并填充液晶。
由于已知技术是采用接触方式来形成配向膜,即摩擦配向膜以形成凹痕,所以在过程中会残留粉屑,以致需要洗净设备来洗净,因而增加制程步骤及成本。另外,在摩擦时亦可能会产生其他无法预期的凹痕或刮伤而降低良率,而磨擦所引起的静电间题也容易造成对基板上电路的破坏。此外,配向设备亦会提高生产成本。
发明内容
本发明提出一种配向膜的制造方法,可简化制程并降低生产成本的配向膜的制造方法。
根据本发明的一实施例,提出一种配向膜的形成方法,包括以下步骤。提供一光感材料,光感材料定义一第一像素区及一第二像素区,第一像素区与第二像素区各定义一第一子像素区及一第二子像素区;于一第一次曝光中,以一第一曝光方向光线及一第二曝光方向光线照射光感材料,以于第一像素区的第一子像素区及第二像素区的第二子像素区分别形成不同配向位向的一第一配向部及一第二配向部;于一第二次曝光中,以第一曝光方向光线及第二曝光方向光线照射光感材料,以于第一像素区的第二子像素区及第二像素区的第一子像素区形成不同配向位向的一第三配向部及一第四配向部。
根据本发明的另一实施例,提出一种配向膜的形成方法,包括以下步骤。提供一光感材料,光感材料定义N×M个像素区,N×M个像素区各定义N×M个子像素区;于N×M曝光次数的每一次中,以M个不同曝光方向光线照射光感材料,以于各N×M个像素区的其中一个子像素区形成不同配向位向的多个配向部,其中,N是各M个曝光方向光线的偏振位向的个数。
附图说明
为让本发明的上述目的、特征和优点能更明显易懂,以下结合附图对本发明的具体实施方式作详细说明,其中:
图1、2及3A至4B绘示依照本发明一实施例的配向膜的形成过程图。
图5、6及7A至10B绘示依照本发明另一实施例的配向膜的形成过程图。
主要元件符号说明:
120:光感材料
130:基板
D1:移动方向
L1:第一曝光方向光线
L2:第二曝光方向光线
MA1:第一掩模
MA2:第二掩模
MA3:第三掩模
MA4:第四掩模
MA11、MA21、MA31、MA41:第一曝光单元
MA11a:第一子曝光单元
MA11b:第二子曝光单元
MA12、MA22、MA32、MA42:第二曝光单元
MA11’、MA12’、MA21’、MA22’、MA31’、MA32’、MA41’、MA42’:长条虚线
SPA1:第一像素区
SPA11、SPA21、SPA31、SPA41:第一子像素区
SPA12、SPA22、SPA32、SPA42:第二子像素区
SPA13、SPA23、SPA33、SPA43:第三子像素区
SPA14、SPA24、SPA34、SPA44:第四子像素区
SPA2:第二像素区
SPA3:第三像素区
SPA4:第四像素区
具体实施方式
本发明一实施例中,提供一光感材料,光感材料定义N×M个像素区,N×M个像素区各定义N×M个子像素区。然后,于N×M曝光次数的每一次中,以M个不同曝光方向光线照射光感材料,以于各N×M个像素区的其中一个子像素区形成不同配向位向的N×M个配向部,其中,N是各M个曝光方向光线的偏振位向的数目。如此一来,在N×M曝光次数后,N×M个像素区中每一者的N×M个子像素区分别形成N×M个不同配向位向的配向部,以下进一步举例说明。
请参照图1至4B,其绘示依照本发明一实施例的配向膜的形成过程图。以M等于2,且N等于1为例说明。
如图1所示提供光感材料120,光感材料120定义多个像素区。以下是以其中二个(N×M)像素区为例说明,分别是第一像素区SPA1及第二像素区SPA2。其中,第一像素区SPA1与第二像素区SPA2各定义二子像素区(N×M),例如,第一像素区SPA1定义一第一子像素区SPA11及一第二子像素区SPA12,而第二像素区SPA2定义第一子像素区SPA21及一第二子像素区SPA22。
第一像素区SPA1的至少一者及/或第二像素区SPA2至少一者可对应至一液晶显示面板(未绘示)的单个像素区。本实施例中,第一像素区SPA1及第二像素区SPA2分别对应至液晶显示面板的二个像素区;又例如,单个第一像素区SPA1与单个第二像素区SPA2可共同对应至液晶显示面板的单个像素区;再例如,多个第一像素区SPA1与多个第二像素区SPA2。
如图2所示,其绘示依照本发明一实施例中形成配向膜的掩模的上视图。
提供二个(N×M)掩模,即一第一掩模MA1及一第二掩模MA2,其中,第一掩模MA1与第二掩模MA2可相邻配置。
第一掩模MA1与第二掩模MA2各具有二个(即M个)曝光单元组。例如,第一掩模MA1具有第一曝光单元MA11及第二曝光单元MA12,而第二掩模MA2具有第一曝光单元MA21及第二曝光单元MA22。
各掩模可具有至少一第一曝光单元及至少一第二曝光单元。当曝光单元的数量为多个时,数个曝光单元构成成一列曝光单元组。以第一曝光单元MA11为例说明,数个第一曝光单元MA11组成第一列曝光单元组,如图2中长条虚线MA11’所围成的区域。其它曝光单元具有相似特征,容此不再赘述。
如图2的放大图所示,第一曝光单元MA11及第二曝光单元MA12指的是掩模上的透光区(以粗线绘示)。
为避免附图过于复杂,图2并未绘示出所有的第一曝光单元MA11(粗线处),而是以长条虚线MA11’表示六个子曝光区(本实施例不以六个为限)中所有第一曝光单元MA11的分布区域。相似地,图2并未绘示出所有的第二曝光单元MA12(粗线处),而是以长条虚线MA12’表示六个子曝光区中所有第二曝光单元MA12的分布区域。
如图2所示,第一掩模MA1的第一曝光单元MA11及第二曝光单元MA12是沿一移动方向D1(移动方向D1绘示于图3A)(如图2的左右方向)间隔一距离。另一实施例中,第一掩模MA1的第一曝光单元MA11及第二曝光单元MA12可沿与移动方向D1垂直的方向(如图2的上下方向)间隔一距离。
本实施例中,第一掩模MA1的第一曝光单元MA11的区域对应至第一像素区SPA1的第一子像素区SPA11,而第二曝光单元MA12的区域对应至第二像素区SPA2的第二子像素区SPA22,使得光线可透过第一曝光单元MA11照射到第一像素区SPA1的第一子像素区SPA11,且透过第二曝光单元MA12照射到第二像素区SPA2的第二子像素区SPA22。
如图2所示,第二掩模MA2的第一曝光单元MA21及第二曝光单元MA22是沿移动方向D1间隔一距离。另一实施例中,第二掩模MA2的第一曝光单元MA21及第二曝光单元MA22是沿与移动方向D1垂直的方向(如图2的上下方向)间隔一距离。
第一曝光单元MA21及第二曝光单元MA22指的是掩模上的透光区(以粗线绘示)。为避免附图过于复杂,图2并未绘示出所有的第一曝光单元MA21(粗线处),而是以长条虚线MA21’表示六个子曝光区(本实施例不以六个为限)中所有第一曝光单元MA21的分布区域。相似地,图2并未绘示出所有的第二曝光单元MA22(粗线处),而是以长条虚线MA22’表示六个子曝光区中所有第二曝光单元MA22的分布区域。
此外,第二掩模MA2的第一曝光单元MA21的区域对应至第二像素区SPA2的第一子像素区SPA21,而第二曝光单元MA22的区域对应至第一像素区SPA1的第二子像素区SPA12,使得光线可透过第一曝光单元MA21照射到第二像素区SPA2的第一子像素区SPA21,而透过第二曝光单元MA22照射到第一像素区SPA1的第二子像素区SPA12。
然后,光感材料120可设于基板130上后,再由一移动平台(未绘示)带动基板130依序经过第一掩模MA1及第二掩模MA2,以下是进一步说明。
如图3A所示,于第一次曝光中,光感材料120依序经过第一掩模MA1的第一曝光单元MA11及第二曝光单元MA12的过程中,以第一曝光方向光线L1及第二曝光方向光线L2(M个曝光方向)分别透过第一曝光单元MA11及第二曝光单元MA12照射光感材料120,以于第一像素区SPA1与第二像素区SPA2的每一者的其中一个子像素区形成不同配向位向的配向部。进一步地说,由于第一曝光单元MA11的区域对应至第一像素区SPA1的第一子像素区SPA11,故光感材料120经过第一掩模MA1的第一曝光单元MA11的过程中,如图3B所示,第一像素区SPA1的第一子像素区SPA11形成一第一配向部(其配向方向如图3B的箭头所示)。为方便说明,图3B仅绘示出一组第一像素区SPA1与第二像素区SPA2。此外,由于第二曝光单元MA12的区域对应至第二像素区SPA2的第二子像素区SPA22,故光感材料120经过第一掩模MA1的第二曝光单元MA12的过程中,如图3B所示,第二像素区SPA2的第二子像素区SPA22形成一第二配向部(其配向方向如图3B的箭头所示)。第一配向部及第二配向部的配向位向是相异,本实施例中,第一配向部的配向位向与第二配向部的配向位向是以相差180度为例说明。
如图3A所示,由于第一掩模MA1的第一曝光单元MA11及第二曝光单元MA12是沿移动方向D1间隔一距离,故第一曝光方向光线L1不致照射到第二曝光单元MA12,相似地,第二曝光方向光线L2不致照射到第一曝光单元MA11。
如图4A所示,于第二次曝光中,光感材料120依序经过第二掩模MA2的第一曝光单元MA21及第二曝光单元MA22的过程中,以第一曝光方向光线L1及第二曝光方向光线L2分别透过第一曝光单元MA21及第二曝光单元MA22照射光感材料120,以于第一像素区SPA1与第二像素区SPA2的每一者的其中一个子像素区形成不同配向位向的配向部。进一步地说,由于第一曝光单元MA21的区域对应至第二像素区SPA2的第一子像素区SPA21,故当光感材料120经过第一曝光单元MA21的过程中,如图4B所示,第二像素区SPA2的第一子像素区SPA21形成一第三配向部(其配向方向如图4B的箭头所示)。由于第二曝光单元MA22的区域对应至第一像素区SPA1的第二子像素区SPA12,故当光感材料120经过第二曝光单元MA22的过程中,如图4B所示,第一像素区SPA1的第二子像素区SPA12形成一第四配向部(其配向方向如图4B的箭头所示)。第三配向部的配向位向及第四配向部的配向位向相异,本实施例中,第三配向部是以形成相差180度的配向部为例说明。
如图4A所示,由于第二掩模MA2的第一曝光单元MA21及第二曝光单元MA22是沿移动方向D1间隔一距离,故第一曝光方向光线L1不致照射到第二曝光单元MA22,相似地,第二曝光方向光线L2不致照射到第一曝光单元MA21。
综合上述,于N等于1且M等于2的实施例中,在每次曝光中,第一像素区SPA1的一子像素区(未形成配向部的子像素区)及第二像素区SPA2的一子像素区(未形成配向部的子像素区)分别形成不同配向位向的配向部。如此,经过二次(N×M)曝光后,每个像素区的所有的子像素区皆形成不同配向位向的配向部。这样一来,光感材料120的各像素区可使应用其的显示面板成为一多维显示域的显示面板。
虽然上述实施例的光感材料120是以依序经过第一掩模MA1及第二掩模MA2为例说明,然于另一实施例中,光感材料120亦可依序经过第二掩模MA2及第一掩模MA1。
在带动光感材料120经过第一掩模MA1及第二掩模MA2的过程中,可保持对光感材料120的平移,即,本实施例可在不转动光感材料120的情况下完成基板130的配向作业。
请参照图5至10B,其绘示依照本发明另一实施例的配向膜的形成过程图。以M等于2,且N等于2为例说明。
如图5所示,提供光感材料120,其中光感材料120定义数个复像素区。以下是以其中四个(N×M)像素区为例说明,四个像素区分别是第一像素区SPA1、第二像素区SPA2、第三像素区SPA3及第四像素区SPA4。其中,第一像素区SPA1、第二像素区SPA2、第三像素区SPA3及第四像素区SPA4各定义四个(N×M)子像素区,例如,第一像素区SPA1定义一第一子像素区SPA11、一第二子像素区SPA12、第三子像素区SPA13及第四子像素区SPA14、第二像素区SPA2定义一第一子像素区SPA21、一第二子像素区SPA22、第三子像素区SPA23及第四子像素区SPA24、第三像素区SPA3定义一第一子像素区SPA31、一第二子像素区SPA32、第三子像素区SPA33及第四子像素区SPA34且第四像素区SPA4定义一第一子像素区SPA41、一第二子像素区SPA42、第三子像素区SPA43及第四子像素区SPA44。
第一像素区SPA1的至少一者、第二像素区SPA2的至少一者、第三像素区SPA3的至少一者及/或第四像素区SPA4的至少一者可对应至一液晶显示面板(未绘示)的单个像素区。本实施例中,第一像素区SPA1、第二像素区SPA2、第三像素区SPA3与第四像素区SPA4分别对应至液晶显示面板的四个像素区;又例如,单个第一像素区SPA1、单个第二像素区SPA2、单个第三像素区SPA3与单个第四像素区SPA4可共同对应至液晶显示面板的单个像素区;再例如,多个第一像素区SPA1、多个第二像素区SPA2、多个第三像素区SPA3与多个第四像素区SPA4可共同对应至液晶显示面板的单个像素区。
如图6所示,其绘示依照本发明另一实施例中形成配向膜的掩模的上视图。提供四个(N×M)掩模,四个掩模分别是第一掩模MA1、第二掩模MA2、第三掩模MA3及第四掩模MA4。其中,第一掩模MA1、第二掩模MA2、第三掩模MA3及第四掩模MA4可相邻配置。
第一掩模MA1、第二掩模MA2、第三掩模MA3及第四掩模MA4各具有二个(M个)曝光单元组。例如,第一掩模MA1具有第一曝光单元MA11及第二曝光单元MA12、第二掩模MA2具有第一曝光单元MA21及第二曝光单元MA21、第三掩模MA3具有第一曝光单元MA31及第二曝光单元MA32,而第四掩模MA4具有第一曝光单元MA41及第二曝光单元MA42。
上述曝光单元组指的是掩模上的透光区。为避免附图过于复杂,图6并未绘示出所有第一曝光单元MA11,而是以长条虚线MA11’表示六个子曝光区(本实施例不以六个为限)中所有第一曝光单元MA11的分布区域。相似地,图6中长条虚线MA12’、MA21’、MA22’、MA31’、MA32’、MA41’及MA42’是相似的表示,容此不再赘述。
如图6所示,第一掩模MA1的第一曝光单元MA11及第二曝光单元MA12是沿移动方向D1(移动方向D1绘示于图7A)(如图6的左右方向)间隔一距离。另一实施例中,第一掩模MA1的第一曝光单元MA11及第二曝光单元MA12可沿与移动方向D1垂直的方向(如图6的上下方向)间隔一距离。
本实施例中,第一掩模MA1的第一曝光单元MA11具有第一子曝光单元MA11a及第二子曝光单元MA11b,第一子曝光单元MA11a的区域对应至第一像素区SPA1的第一子像素区SPA11,而第二子曝光单元MA11b的区域对应至第三像素区SPA3的第三子像素区SPA33。第二曝光单元MA12具有第一子曝光单元MA12a及第二子曝光单元MA12b,第一子曝光单元MA12a的区域对应至第二像素区SPA2的第二子像素区SPA22,而第二子曝光单元MA12b对应至第四像素区SPA4的第四子像素区SPA44。如此,光线可透过第一曝光单元MA11照射到第一像素区SPA1的第一子像素区SPA11及第三像素区SPA3的第三子像素区SPA33,且透过第二曝光单元MA12照射到第二像素区SPA2的第二子像素区SPA22及第四像素区SPA4的第四子像素区SPA44。
如图6所示,第二掩模MA2的第一曝光单元MA21及第二曝光单元MA22是沿移动方向D1间隔一距离。另一实施例中,第二掩模MA2的第一曝光单元MA21及第二曝光单元MA22是沿与移动方向D1垂直的方向间隔一距离。
本实施例中,第二掩模MA2的第一曝光单元MA21具有第一子曝光单元MA21a及第二子曝光单元MA21b,第一子曝光单元MA21a的区域对应至第一像素区SPA1的第三子像素区SPA13,而第二子曝光单元MA21b的区域对应至第三像素区SPA3的第一子像素区SPA31。第二曝光单元MA22具有第一子曝光单元MA22a及第二子曝光单元MA22b,第一子曝光单元MA22a的区域对应至第二像素区SPA2的第四子像素区SPA24,而第二子曝光单元MA22b对应第四像素区SPA4的第二子像素区SPA42。如此,光线可透过第一曝光单元MA21照射到第一像素区SPA1的第三子像素区SPA13及第三像素区SPA3的第一子像素区SPA31,且透过第二曝光单元MA12照射到第二像素区SPA2的第四子像素区SPA24及第四像素区SPA4的第二子像素区SPA42。
如图6所示,第三掩模MA3的第一曝光单元MA31及第二曝光单元MA32是沿一移动方向D1间隔一距离。另一实施例中,第三掩模MA3的第一曝光单元MA31及第二曝光单元MA32是沿与移动方向D1垂直的方向间隔一距离。
本实施例中,第三掩模MA3的第一曝光单元MA31具有第一子曝光单元MA31a及第二子曝光单元MA31b,第一子曝光单元MA31a的区域对应至第二像素区SPA2的第四子像素区SPA24,而第二子曝光单元MA31b的区域对应至第四像素区SPA4的第三子像素区SPA43。第二曝光单元MA32具有第一子曝光单元MA32a及第二子曝光单元MA32b,第一子曝光单元MA32a的区域对应至第一像素区SPA1的第二子像素区SPA12,而第二子曝光单元MA32b对应第三像素区SPA3的第四子像素区SPA34。如此,光线可透过第一曝光单元MA31照射到第二像素区SPA2的第四子像素区SPA24及第四像素区SPA4的第三子像素区SPA43,且透过第二曝光单元MA32照射到第一像素区SPA1的第二子像素区SPA12及第三像素区SPA3的第四子像素区SPA34。
如图6所示,第四掩模MA4的第一曝光单元MA41及第二曝光单元MA42是沿移动方向D1间隔一距离。另一实施例中,第四掩模MA4的第一曝光单元MA41及第二曝光单元MA42是沿与移动方向D1垂直的方向间隔一距离。
本实施例中,第四掩模MA4的第一曝光单元MA41具有第一子曝光单元MA41a及第二子曝光单元MA41b,第一子曝光单元MA41a的区域对应至第二像素区SPA2的第三子像素区SPA23,而第二子曝光单元MA41b的区域对应至第四像素区SPA4的第一子像素区SPA41。第二曝光单元MA42具有第一子曝光单元MA42a及第二子曝光单元MA42b,第一子曝光单元MA42a的区域对应至第一像素区SPA1的第四子像素区SPA14,而第二子曝光单元MA42b对应第三像素区SPA3的第二子像素区SPA32。如此,光线可透过第一曝光单元MA41照射到第二像素区SPA2的第三子像素区SPA23及第四像素区SPA4的第一子像素区SPA41,且透过第二曝光单元MA32照射到第一像素区SPA1的第四子像素区SPA14及第三像素区SPA3的第二子像素区SPA32。
然后,带动光感材料120沿移动方向D1移动,并依序经过第一掩模MA1、第二掩模MA2、第三掩模MA3及第四掩模MA4,以下进一步说明。
如图7A所示,于第一次曝光中,光感材料120依序经过第一掩模MA1的第一曝光单元MA11及第二曝光单元MA12的过程中,以第一曝光方向光线L1及第二曝光方向光线L2分别透过第一曝光单元MA11(图7B)及第二曝光单元MA12(图7B)照射光感材料120,以于第一像素区SPA1、第二像素区SPA2、第三像素区SPA3及第四像素区SPA4的每一者的其中一个子像素区形成不同配向位向的配向部。本实施例中,可搭配一偏光板(未绘示),使第一曝光方向光线L1透过偏光板与基板相对位置的配置形成不同偏振方向的二光线分别照射至第一曝光单元MA11的第一子曝光单元MA11a及第二子曝光单元MA11b,以于第一像素区SPA1的第一子像素区SPA11及第三像素区SPA3的第三子像素区SPA33分别形成不同配向位向的配向部,如图7B所示。相似地,可搭配偏光板,使第二曝光方向光线L2透过偏光板与基板相对位置的配置形成二不同偏振方向的光线分别照射至第二曝光单元MA12的第一子曝光单元MA21a及第二子曝光单元MA21b,以于第二像素区SPA2的第二子像素区SPA22及第四像素区SPA4的第四子像素区SPA44分别形成不同配向位向的配向部,如图7B所示。本实施例中,形成于第一子像素区SPA11、第三子像素区SPA33、第二子像素区SPA22及第四子像素区SPA44的配向部的配向位向皆不同。
如图8A所示,于第二次曝光中,光感材料120依序经过第二掩模MA2的第一曝光单元MA21及第二曝光单元MA22的过程中,以第一曝光方向光线L1及第二曝光方向光线L2分别透过第一曝光单元MA21(图8B)及第二曝光单元MA22(图8B)照射光感材料120,以于第一像素区SPA1、第二像素区SPA2、第三像素区SPA3及第四像素区SPA4的每一者的其中一个子像素区(未形成配向部的子像素区)形成不同配向位向的配向部。本实施例中,可搭配偏光板,使第一曝光方向光线L1透过偏光板形成不同偏振方向的二光线分别照射至第一曝光单元MA21的第一子曝光单元MA21a及第二子曝光单元MA21b,以于第一像素区SPA1的第三子像素区SPA13及第三像素区SPA3的第一子像素区SPA31分别形成不同配向位向的配向部,如图8B所示。相似地,可搭配偏光板,使第二曝光方向光线L2透过偏光板形成二不同偏振方向的光线分别照射至第二曝光单元MA22的第一子曝光单元MA22a及第二子曝光单元MA22b),以于第二像素区SPA2的第四子像素区SPA24及第四像素区SPA4的第二子像素区SPA42分别形成不同配向位向的配向部,如图8B所示。本实施例中,形成于第三子像素区SPA13、第一子像素区SPA31、第四子像素区SPA24及第二子像素区SPA42的配向部的配向位向皆不同。
如图9A所示,于第三次曝光中,光感材料120依序经过第三掩模MA3的第一曝光单元MA31及第二曝光单元MA32的过程中,以第一曝光方向光线L1及第二曝光方向光线L2分别透过第一曝光单元MA31(图9B)及第二曝光单元MA32(图9B)照射光感材料120,以于第一像素区SPA1、第二像素区SPA2、第三像素区SPA3及第四像素区SPA4的每一者的其中一个子像素区(未形成配向部的子像素区)形成不同配向位向的配向部。本实施例中,可搭配偏光板,使第一曝光方向光线L1透过偏光板形成不同偏振方向的二光线分别照射至第一曝光单元MA31的第一子曝光单元MA31a及第二子曝光单元MA31b,以于第一像素区SPA1的第四子像素区SPA14及第四像素区SPA4的第三子像素区SPA43分别形成不同配向位向的配向部,如图9B所示。相似地,可搭配偏光板,使第二曝光方向光线L2透过偏光板形成二不同偏振方向的光线分别照射至第二曝光单元MA32的第一子曝光单元MA32a及第二子曝光单元MA32b,以于第一像素区SPA1的第二子像素区SPA12及第三像素区SPA3的第四子像素区SPA34分别形成不同配向位向的配向部,如图9B所示。本实施例中,形成于第四子像素区SPA14、第三子像素区SPA43、第二子像素区SPA12及第四子像素区SPA34的配向部的配向位向皆不同。
如图10A所示,于第四次曝光中,光感材料120依序经过第四掩模MA4的第一曝光单元MA41及第二曝光单元MA42的过程中,以第一曝光方向光线L1及第二曝光方向光线L2分别透过第一曝光单元MA41(图10B)及第二曝光单元MA42(图10B)照射光感材料120,以于第一像素区SPA1、第二像素区SPA2、第三像素区SPA3及第四像素区SPA4的每一者的其中一个子像素区(未形成配向部的子像素区)形成不同配向位向的配向部。本实施例中,可搭配偏光板,使第一曝光方向光线L1透过偏光板形成不同偏振方向的二光线分别照射至第一曝光单元MA41的第一子曝光单元MA41a及第二子曝光单元MA41b,以于第二像素区SPA2的第三子像素区SPA23及第四像素区SPA4的第一子像素区SPA41分别形成不同配向位向的配向部,如图10B所示。相似地,可搭配偏光板,使第二曝光方向光线L2透过偏光板形成二不同偏振方向的光线分别照射至第二曝光单元MA42的第一子曝光单元MA42a及第二子曝光单元MA42b,以于第一像素区SPA1的第四子像素区SPA14及第三像素区SPA3的第二子像素区SPA32分别形成不同配向位向的配向部,如图10B所示。本实施例中,形成于第三子像素区SPA23、第一子像素区SPA41、第四子像素区SPA14及第二子像素区SPA32的配向部的配向位向皆不同。
综合上述,于N等于2且M等于2的实施例中,在每次曝光后,第一像素区SPA1的一子像素区(未形成配向部的子像素区)、第二像素区SPA2的一子像素区(未形成配向部的子像素区)、第三像素区SPA3的一子像素区(未形成配向部的子像素区)及第四像素区SPA4的一子像素区(未形成配向部的子像素区)分别形成不同配向位向的配向部。如此,经过四次(N×M)曝光后,每个像素区的所有的子像素区皆形成不同配向位向的配向部。这样一来,光感材料120的各像素区可使应用其的显示面板成为一多维显示域的显示面板。
虽然上述实施例的光感材料120是以依序经过第一掩模MA1、第二掩模MA2、第三掩模MA3及第四掩模MA4为例说明,然另一实施例中,光感材料120经过第一掩模MA1、第二掩模MA2、第三掩模MA3及第四掩模MA4的顺序可任意排列。
本发明上述实施例的配向膜的形成方法,可于一次的曝光制程中,于各像素区的其中一个子像素区形成配向部,如此可节省制程时间并降低生产成本。此外,光感材料可在不被转动的情况下经过所有掩模而完成光配向作业。
虽然本发明已以较佳实施例揭示如上,然其并非用以限定本发明,任何本领域技术人员,在不脱离本发明的精神和范围内,当可作些许的修改和完善,因此本发明的保护范围当以权利要求书所界定的为准。

Claims (12)

1.一种配向膜的形成方法,包括:
提供一光感材料,该光感材料定义一第一像素区及一第二像素区,该第一像素区与该第二像素区各定义一第一子像素区及一第二子像素区;
于一第一次曝光中,以一第一曝光方向光线及一第二曝光方向光线照射该光感材料,以于该第一像素区的该第一子像素区及该第二像素区的该第二子像素区分别形成不同配向位向的一第一配向部及一第二配向部;
于一第二次曝光中,以该第一曝光方向光线及该第二曝光方向光线照射该光感材料,以于该第一像素区的该第二子像素区及该第二像素区的该第一子像素区形成不同配向位向的一第三配向部及一第四配向部。
2.如权利要求1所述的形成方法,还包括:
提供一第一掩模及一第二掩模,其中该第一掩模与该第二掩模各具有一第一曝光单元及一第二曝光单元;
于该第一次曝光的该步骤中,该第一曝光方向光线及该第二曝光方向光线分别照射该第一掩模的该第一曝光单元及该第二曝光单元;以及
于该第二次曝光的该步骤中,该第一曝光方向光线及该第二曝光方向光线分别照射该第二掩模的该第一曝光单元及该第二曝光单元。
3.如权利要求2所述的形成方法,还包括:
带动该光感材料沿一移动方向移动,并经过该第一掩模及该第二掩模;
其中,该第一掩模的该第一曝光单元及该第二曝光单元是沿该移动方向间隔一距离,且该第二掩模的该第一曝光单元及该第二曝光单元是沿该移动方向间隔一距离。
4.如权利要求3所述的形成方法,其特征在于,该第一掩模的该第一曝光单元及该第二曝光单元是沿与该移动方向垂直的方向间隔一距离,且该第二掩模的该第一曝光单元及该第二曝光单元是沿与该移动方向垂直的方向间隔一距离。
5.如权利要求1所述的形成方法,其特征在于,该第一配向部与该第二配向部的配向位向相差180度。
6.如权利要求1所述的形成方法,其特征在于,该第三配向部与该第四配向部的配向位向相差180度。
7.一种配向膜的形成方法,包括:
提供一光感材料,该光感材料定义N×M个像素区,该N×M个像素区各定义N×M个子像素区;
于N×M曝光次数的每一次中,以M个不同曝光方向光线照射该光感材料,以于各N×M个像素区的其中一个该子像素区形成不同配向位向的多个配向部,其中,N是各M个曝光方向光线的偏振位向的个数。
8.如权利要求7所述的形成方法,还包括:
提供N×M个掩模,其中该N×M个掩模各具有M曝光单元;
于该N×M曝光次数的每一次中以该M个不同曝光方向光线照射该光感材料的该步骤中,该M个曝光方向光线分别照射该M个曝光单元组。
9.如权利要求8所述的形成方法,还包括:
带动该光感材料沿一移动方向移动,以经过该N×M个掩模;
其中,该M个曝光单元组沿该移动方向是间隔一距离。
10.如权利要求9所述的形成方法,其特征在于,该M个曝光单元组沿与该移动方向垂直的方向间隔一距离。
11.如权利要求8所述的形成方法,其特征在于,该N×M个掩模其中一者的各M曝光单元具有N个子曝光单元,该N×M个子曝光单元对应该N×M个像素区。
12.如权利要求9所述的形成方法,其特征在于,第P个曝光方向光线照射第P个曝光单元的该N个子曝光单元,以形成N个不同配向位向的配向部,其中P为1至M之间的正整数。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107561871A (zh) * 2016-07-01 2018-01-09 上海微电子装备(集团)股份有限公司 接近式曝光和光配向一体装置、光配向方法及曝光方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN2881706Y (zh) * 2005-11-17 2007-03-21 群康科技(深圳)有限公司 液晶配向设备
WO2008136155A1 (ja) * 2007-04-20 2008-11-13 Sharp Kabushiki Kaisha 液晶表示装置の製造方法及び液晶表示装置
US20100035190A1 (en) * 2008-08-06 2010-02-11 Samsung Electronics Co., Ltd. Method of forming an alignment layer, and apparatus for forming the alignment layer
WO2010137402A1 (ja) * 2009-05-29 2010-12-02 シャープ株式会社 光配向処理方法、光配向処理用マスク及び配向膜製造方法
TW201118477A (en) * 2009-11-20 2011-06-01 Chi Mei Optoelectronics Corp Manufacturing method of photo-alignment layer

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN2881706Y (zh) * 2005-11-17 2007-03-21 群康科技(深圳)有限公司 液晶配向设备
WO2008136155A1 (ja) * 2007-04-20 2008-11-13 Sharp Kabushiki Kaisha 液晶表示装置の製造方法及び液晶表示装置
US20100035190A1 (en) * 2008-08-06 2010-02-11 Samsung Electronics Co., Ltd. Method of forming an alignment layer, and apparatus for forming the alignment layer
WO2010137402A1 (ja) * 2009-05-29 2010-12-02 シャープ株式会社 光配向処理方法、光配向処理用マスク及び配向膜製造方法
TW201118477A (en) * 2009-11-20 2011-06-01 Chi Mei Optoelectronics Corp Manufacturing method of photo-alignment layer

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107561871A (zh) * 2016-07-01 2018-01-09 上海微电子装备(集团)股份有限公司 接近式曝光和光配向一体装置、光配向方法及曝光方法
CN107561871B (zh) * 2016-07-01 2020-04-10 上海微电子装备(集团)股份有限公司 接近式曝光和光配向一体装置、光配向方法及曝光方法

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