CN105259711A - 显示面板及其制作方法 - Google Patents

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邵冬梅
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Abstract

本发明提供了一种显示面板,具有一用于显示画面的显示面,该显示面包括显示区及位置显示区周围的非显示区,该显示面板还包括:一第一基板、一第二基板及多个间隔物。第二基板与该第一基板相对设置。多个间隔物设置于该第一基板或该第二基板表面,且位于该二基板之间。该多个间隔物包括与该显示区对应的多个第一间隔物及与该非显示区对应的多个第二间隔物,该第二间隔物厚度小于该第一间隔物的厚度。第二间隔物的厚度相对较小,因而清洗难度降低,避免第二间隔物残留而覆盖其下的导电材料,影响重工品质。

Description

显示面板及其制作方法
技术领域
本发明涉及一种显示面板及其制作方法。
背景技术
显示面板已广泛应用到人们的日常生活中,其中采用主动阵列矩阵电路进行驱动的面板,如液晶显示面板因其功耗低、制造成本低等特点,近年来更是得到了广泛的应用。该类显示面板通常包括对向基板(如彩色滤光基板)及与该对向基板相对设置的阵列基板。其中,对向基板与阵列基板面对的表面设置有电极层,该电极层向外延伸至边缘(即非显示区)以用于进行信号的传输,阵列基板与对向基板面对的表面除设置有电极外,还设置有薄膜晶体管(thinfilmtransistor,TFT)及信号线。为了保证对向基板与阵列基板间隔一致,目前常用的方法是在对向基板与阵列基板间之间设置间隔物(GapSpacer)。其中,该间隔物由光阻(PhotoResist)层利用一图案化的光罩进行曝光工艺而制成。在制作该间隔物的过程中,光罩下表面与光阻层所在基板的上表面之间的距离需借助间距测量窗口(GapWindow)来进行监控。该间距测量窗口的边缘对应贴置于显示面板的边缘,与该间距测量窗口贴合的区域的光阻层将被留下而覆盖该区域的导电材料(例如电极端子或信号线)。
在基本设计中,与该间距测量窗口对应的间隔物的面积会相较于显示面板的显示区内的间隔物面积大。当显示面板需要重工,例如需清洗掉对向基板及阵列基板表面的导电材料以重新制作时,对应对向基板或阵列基板边缘设置的间隔物由于其面积较大难以清洗干净,将导致被残余的间隔物遮盖的导电材料无法清除干净,影响重工后产品的品质。
发明内容
有鉴于此,有必要提供一种有助于提升重工品质的显示面板。
一种显示面板,具有一用于显示画面的显示面,该显示面板包括显示区及位置显示区周围的非显示区,该显示面板还包括一第一基板;一第二基板,与该第一基板相对设置;及多个间隔物,设置于该第一基板或该第二基板表面上,且位于该第一基板与该第二基板之间,该多个间隔物包括与该显示区对应的多个第一间隔物及与该非显示区对应的多个第二间隔物,该第二间隔物厚度小于该第一间隔物的厚度。
还有必要提供一种上述显示面板的制作方法。
一种上述显示面板的制作方法,该显示面板包括用于显示画面的显示区及围绕该显示区的非显示区,包括步骤:提供一第一基板及一第二基板,并于该第一基板或该第二基板上形成一光阻层;曝光显影该光阻层以形成多个间隔物,该多个间隔物包括与该显示区对应的多个第一间隔物及与该非显示区对应的多个第二间隔物,该第二间隔物厚度小于该第一间隔物的厚度;及贴合该第一基板与该第二基板,该多个间隔物位于该第一基板与该第二基板之间。
相较于现有技术,本发明的非显示区的间隔物较显示区的间隔物厚度小,在该显示面板需要重工而清洗掉该些间隔物时,位于边缘的该第二间隔物较易清洗干净,使得被该些间隔物覆盖的基板上的导电材料能够被清除干净,而有利于提高重工良率。
附图说明
图1为本发明一实施方式显示面板的截面剖视图。
图2为图1所示显示面板中多个间隔物的平面分布示意图。
图3为显示面板的一较佳实施方式的制作方法的流程图。
图4至6描述了图3中各步骤流程的剖视图。
图7为图3中步骤2一变更实施方式的剖视图。
图8为显示面板的另一较佳实施方式的制作方法的流程图。
图9至11描述了图8中各步骤流程的剖视图。
主要元件符号说明
液晶显示面板 10
显示面 11
显示区 111
非显示区 112
第一基板/彩色滤光基板 100
玻璃基板 101
彩色滤光层 102
第一电极层/共通电极 104
第二基板/阵列基板 200
薄膜晶体管阵列 202
第二电极层/像素电极 204
液晶层 300
光阻层 40
间隔物 400
第一间隔物 401
第二间隔物 402
光罩 500,600
第一透光区 501,601
间距测量窗口 502,602
半透膜层 5021
间隔栏 6021
厚度 H1,H2
如下具体实施方式将结合上述附图进一步说明本发明。
具体实施方式
请同时参照图1及图2,图1为本发明一实施方式显示面板的截面剖视图。图2为图1所示显示面板中多个间隔物的平面分布示意图。本实施例以液晶显示面板为例进行说明,可以理解,本发明也可应用于其他显示面板,并不以此为例。该液晶显示面板10具有一用于显示画面的显示面11,该显示面11包括显示区111及位于显示区111周围的非显示区112。进一步地,该液晶显示面板10包括第一基板100、第二基板200、液晶层300及多个间隔物400。该液晶层300及该多个间隔物400均设置于该第一基板100与该第二基板200之间。
此外,该液晶显示面板10例如还包括用以连接该第一基板100及该第二基板200之胶框(图未示)及围绕在液晶层300周围的液晶挡墙(图未示)。该胶框设置于该第一基板100与该第二基板200之间的外侧,围绕该液晶挡墙。在将该第一、二基板100、200的贴合过程中,液晶通常是滴注在对应显示区111的中心部分,并由该显示区111的中心向四周逐步扩散,该液晶挡墙可用于防止液晶在向显示区111域四周扩散的过程中,与未完全固化的框胶接触而污染液晶,从而造成液晶显示面板10的画面显示品质不良。
该第一基板100例如可为一对向基板或一彩色滤光基板,本实施方式中,该第一基板100为彩色滤光基板100。该第二基板200例如可为一阵列基板200。该第一基板100包括一玻璃基板101及形成于该玻璃基板101一表面的一彩色滤光层102以及一第一电极层104。该第一电极层104整面覆盖该玻璃基板101表面且将该彩色滤光层102包覆在内。该彩色滤光层102例如可包括黑矩阵及多个彩色滤光图案。该第一电极层104例如可为一共通电极,其可由透明导电材料,如氧化铟锡(ITO)或氧化铟锌(IZO)等制备而成。
该第二基板200上例如具有交错设置的栅极层配线(图未示)与源极层配线(图未示)、薄膜晶体管(thinfilmtransistor,TFT)阵列202及一第二电极层204。在较佳实施例中,栅极层配线例如包括扫描配线,而源极层配线例如包括数据配线,每一所述薄膜晶体管设置于一该栅极层配线与一该源极层配线交叉处,由相邻二栅极层配线及相邻二源极层配线共同界定的最小区域定义一像素区域(未标示)。该第二电极层204包括多个像素电极(未标示),每一像素区域内设置有一像素电极。该第一电极层104与该第二电极层204之间形成驱动电场,以驱动该液晶层300内的液晶分子旋转。
该多个间隔物400间隔设置于该第一基板100上。该多个间隔物400包括与该显示区111对应的多个第一间隔物401及与该非显示区112对应的多个第二间隔物402。该多个第一间隔物401用于支撑该第一基板与第二基板,该多个第二间隔物402例如可设置于该液晶挡墙与该胶框之间。该第二间隔物402厚度H2小于该第一间隔物401的厚度H1。该第二间隔物402的厚度H2例如可以是该第一间隔物401的厚度H1三分之二或其他较佳的厚度。本实施方式中,该第一间隔物401的厚度H1为3μm,该第二间隔物402的厚度H2为2.5μm。
本实施方式中,该多个第二间隔物402包括四个,分别设置于该第一基板100的两侧,每一所述第二间隔物402与该第一基板100接触的面积大于每一该第一间隔物401与该第一基板100接触的面积。本实施方式中,每一该第一间隔物401与该第一基板100接触的面积为4×10-4mm2(例如20μm×20μm),每一该第二间隔物402与该第一基板100接触的面积为24mm2(例如6mm×4mm)。更进一步地,该多个第二间隔物402的位置对应在形成该液晶显示面板10的第一间隔物401所需的光罩的间距测量窗口所在的位置设置。需要说明的是,为了便于读者观察,图1及图2中第一间隔物401及第二间隔物402间的大小比例并未严格按照实际尺寸,而是单独将该第一间隔物401的大小放大呈现于图中以便观察。其中,该光罩500可选用一灰阶掩膜。该第一基板100与该第二基板200组合后,该多个间隔物400可起到保证该第一基板100与该第二基板200间隔一致的功效。该第二间隔物402的厚度H2相对该第一间隔物401的厚度H1较薄,该液晶显示面板10在受压时,该第二间隔物402起进一步支撑的作用,以防止过程变形。面积较大的该第二间隔物402的厚度较薄,因而在该液晶显示面板10需要重工时,该第二间隔物402较易清洗干净,从而使该第二间隔物402覆盖下的导电材料(例如第一电极层104)能够被清洗干净。
在一变更实施方式中,该多个第二间隔物402也可以是形成于该第二基板200上,如图11所示,其形状结构与形成于该第一基板100上时基本相同,因此,此处不再赘述。
请一并参阅图3,图3为显示面板10的一较佳实施方式的制作方法的流程图。图4至6描述了图3中各步骤流程的剖视图。为了便于说明,以下将沿用上述各元件标号。
步骤S101,请首先参阅图4,提供一第一基板100并在该第一基板100上形成一光阻层40。其中,该光阻层40为负型光阻材料,该第一基板100例如可为一对向基板或一彩色滤光基板。
步骤S102,请参阅图5,利用光罩500对该光阻层40进行黄光显影工艺以形成多个间隔物400。该多个间隔物400包括对应显示区111内形成的多个第一间隔物401与对应非显示区112内形成的多个第二间隔物402,请参照图2所示。
具体地,利用所述光罩500对该光阻层40进行曝光、显影以及蚀刻得到如图5所示多个间隔物400。该光罩500具有多个间距测量窗口502,其中,通过形成于该光罩500上的多个间距测量窗口502来确定该光罩500与该第一基板100之间的距离,该多个间距测量窗口502设置在该非显示区112内。进一步地,该光罩500还形成有与该显示区111对应的多个第一透光区501。本实施方式中,该多个间距测量窗口502具有四个,对称形成于该光罩500的两侧。光罩500对应每一该间距测量窗口502具有透光率,且该透光率分别小于该多个第一透光区501的透光率。该间距测量窗口502处的透光率较佳是介于30%~50%之间。本实施方式中,光罩500在该间距测量窗口502对应处的透光率为40%,该第一透光区501的透光率为100%。每一该间距测量窗口502的开口面积例如为24mm2,每一第一透光区501的开口面积例如为4×10-4mm2
该光罩500可选用一灰阶掩膜。具体地,每一所述第一透光区501例如可为一贯穿所述光罩500的通孔。每一所述间距测量窗口502亦为一沿所述光罩500厚度方向的贯穿的通孔,然,每一所述间距测量窗口502内设置有半透膜层5021,以调节该间距测量窗口502的透光率。
在一变更实施方式中,如图7所示,每一所述间距测量窗口602内间隔设置有多个用于阻止光线通过的间隔栏6021从而取代上述半透膜层5021来调节该间距测量窗口502所在处的透光率。相邻的二所述间隔栏6021间为贯穿该光罩600的通孔(未标示),光线能从该些通孔穿过。该些间隔栏6021的厚度例如可以与该光罩的厚度相等。此外,上述各实施方式中,对该光阻层40进行曝光显影前还可以包括对该光阻层40进行预烤的步骤。需要说明的是,为了便于读者观察,图5至7中第一透光区501及间距测量窗口502、602间的大小比例并未严格按照实际尺寸,而是单独将该第一透光区501的大小放大呈现于图中以便观察。
步骤S103,请参照图6,将该第一基板100与一第二基板200对应贴合,并注入液晶层300,以得到所述液晶显示面板10。该第二基板200例如可为一阵列基板200。
通过利用具有透光率较低的间距测量窗口502的光罩500形成该第一、二间隔物401、402,使对应非显示区112的该第二间隔物402的厚度H2相对该第一间隔物401的厚度H1较薄,在该液晶显示面板10需要重工而清洗掉该些间隔物400时,该第二间隔物402较易清洗干净。尤其是,当该第二间隔物402覆盖于该第一基板100的面积较大时,设置较薄的该第二间隔物402有利于降低该第二间隔物402的清洗难度,以避免由于该第二间隔物402清洗不干净而影响重工后的液晶显示面板10的显示品质。
请一并参阅图8,图8为显示面板10的另一较佳实施方式的制作方法的流程图。图9至11描述了图8中各步骤流程的剖视图。为方便陈述,本实施方式的各元件采用与上述实施方式相同的标号。
步骤S201,请首先参阅图9,提供一第二基板200并在该第二基板200上形成一光阻层40。该第二基板200例如可为一阵列基板200。
步骤S202,请参照图10,利用光罩500对该光阻层40进行黄光显影工艺以形成多个间隔物400。该多个间隔物400包括对应显示区111内形成的多个第一间隔物401与对应非显示区112内形成的多个第二间隔物402,请参照图2所示。
具体地,利用所述光罩500对该光阻层40进行曝光、显影以及蚀刻得到如图10所示多个间隔物400。该光罩500具有多个间距测量窗口502,其中,通过形成于该光罩500上的多个间距测量窗口502来确定该光罩500与该第一基板100之间的距离,该多个间距测量窗口502设置在该非显示区112内。进一步地,该光罩500还形成有与该显示区111对应的多个第一透光区501。本实施方式中,该多个间距测量窗口502具有四个,对称形成于该光罩500的两侧。该光罩500对应每一该间距测量窗口502具有透光率,且该透光率分别小于该多个第一透光区501的透光率。该间距测量窗口502的透光率较佳是介于30%~50%之间。
本实施方式中,光罩500在该间距测量窗口502对应处的透光率为40%,该第一透光区501的透光率为100%。每一该间距测量窗口502的开口面积例如为24mm2,每一第一透光区501的开口面积例如为4×10-4mm2。需要说明的是,为了便于读者观察,图10及图11中第一透光区501及间距测量窗口502间的大小比例并未严格按照实际尺寸,而是单独将该第一透光区501的大小放大呈现于图中以便观察。其中,该光罩500可选用一灰阶掩膜。具体地,每一所述第一透光区501例如可为一贯穿所述光罩500的通孔。每一所述间距测量窗口502亦为一贯穿所述光罩500的通孔,然,每一所述间距测量窗口502内形成有半透膜层5021,以调节该间距测量窗口502的透光率。
在一变更实施方式中(未图示),每一所述间距测量窗口502内间隔设置有多个用于阻止光线通过的间隔栏从而取代上述半透膜层来调节该间距测量窗口502的透光率。相邻的二所述间隔栏间为贯穿该光罩500的通孔(未标示),光线能从该些通孔穿过。该些间隔栏的厚度例如可以与该光罩的厚度相等。此外,上述各实施方式中,对该光阻层40进行曝光显影前还可以包括对该光阻层40进行预烤的步骤。
步骤S203,请参照图11,将该第二基板200与一第一基板100对应贴合,并注入液晶层300,以得到所述液晶显示面板10。该第一基板100例如可为一彩色滤光基板100。
通过利用具有透光率较低的间距测量窗口502的光罩500形成该第一、二间隔物401、402,使对应非显示区112的该第二间隔物402的厚度H2相对该第一间隔物401的厚度H1较薄,在该液晶显示面板10需要重工而清洗掉该些间隔物400时,该第二间隔物402较易清洗干净。尤其是,当该第二间隔物402覆盖于该第一基板100的面积较大时,设置较薄的该第二间隔物402有利于降低该第二间隔物402的清洗难度,以避免由于该第二间隔物402清洗不干净而影响重工后的液晶显示面板10的显示品质。
以上实施例仅用以说明本发明的技术方案而非限制,尽管参照较佳实施例对本发明进行了详细说明,本领域的普通技术人员应当理解,可以对本发明的技术方案进行修改或等同替换,而不脱离本发明技术方案的精神和范围。

Claims (10)

1.一种显示面板,具有一用于显示画面的显示面,该显示面板包括显示区及位置显示区周围的非显示区,其特征在于,该显示面板还包括:
一第一基板;
一第二基板,与该第一基板相对设置;及
多个间隔物,设置于该第一基板或该第二基板表面上,且位于该第一基板与该第二基板之间,该多个间隔物包括与该显示区对应的多个第一间隔物及与该非显示区对应的多个第二间隔物,该第二间隔物厚度小于该第一间隔物的厚度。
2.如权利要求1所述的显示面板,其特征在于,该第一间隔物的厚度为3μm,该第二间隔物的厚度为2.5μm。
3.如权利要求1所述的显示面板,其特征在于,每一该第二间隔物的面积大于该第一间隔物的面积。
4.如权利要求1所述的显示面板,其特征在于,该第一基板为彩色滤光基板,该第二基板为阵列基板。
5.一种显示面板的制作方法,该显示面板包括用于显示画面的显示区及围绕该显示区的非显示区,其特征在于,包括步骤:
提供一第一基板及一第二基板,并于该第一基板或该第二基板上形成一光阻层;
曝光显影该光阻层以形成多个间隔物,该多个间隔物包括与该显示区对应的多个第一间隔物及与该非显示区对应的多个第二间隔物,该第二间隔物厚度小于该第一间隔物的厚度;及
贴合该第一基板与该第二基板,该多个间隔物位于该第一基板与该第二基板之间。
6.如权利要求5所述的显示面板的制作方法,其特征在于,通过一光罩形成该多个间隔物,该光罩包括分别与该多个第一间隔物对应的多个第一透光区及分别与该多个第二间隔物对应的多个间距测量窗口,该光罩在该间距测量窗口处的透光率小于该第一透光区的透光率。
7.如权利要求6所述的显示面板的制作方法,其特征在于,该第一透光区的透光率为100%,该间距测量窗口处的透光率介于30%~50%之间。
8.如权利要求6所述的显示面板的制作方法,其特征在于,每一所述第一透光区为一贯穿所述光罩的通孔,每一所述间距测量窗口为通过在一贯穿所述光罩的通孔内设置半透膜而形成。
9.如权利要求6所述的显示面板的制作方法,其特征在于,每一所述第一透光区为一贯穿所述光罩的通孔,每一所述间距测量窗口为通过在一贯穿所述光罩的通孔内设置多个用于阻止光线通过的间隔栏而形成。
10.如权利要求5所述的显示面板的制作方法,其特征在于,该第一基板为彩色滤光基板,该第二基板为阵列基板。
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