CN103135161B - 光学元件、光学粘合剂和包括其的显示设备 - Google Patents

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Abstract

本公开提供了光学元件、光学粘合剂和包括其的显示设备。所述光学元件包括透明导电膜；形成在所述透明导电膜上的光学粘合剂层；和堆叠在所述光学粘合剂层上的偏振板，其中，包含所述光学粘合剂层的样品的表面电阻差Rs2－Rs1为小于约0.2Ω，通过制造在其上具有所述光学粘合剂层的所述偏振板，并在所述光学粘合剂层的反向上侧堆叠两个透明导电膜制备所述样品，其中，Rs1为所述样品的初始表面电阻，并且Rs2为将样品置于70℃和95%RH下48小时的表面电阻。

Description

光学元件、光学粘合剂和包括其的显示设备
技术领域
本发明涉及光学元件和包括其的显示设备。
背景技术
包括具有偏振板和堆叠其上的延迟膜的液晶显示器的显示设备在外部环境下易于变形。尤其是，当暴露于光时，显示设备可发生光泄露。已知由于在高温和高湿条件下被拉伸的偏振膜的收缩导致的光学各向异性，出现光泄露。
作为防止光泄露的方法，控制光学粘合剂的模量以调节压力。然而，该方法在防止光泄露方面有限制。尤其是，常规技术不允许故障测试中的一致的测定结果，因为其可根据视角而变化，由于难以区分受到光泄露的区域和没有光泄露的区域，因而在应用光学粘合剂时造成加工困难。此外，常规显示设备的光泄露粗略地与显示设备的尺寸成比例。
近来，已经开发将偏振板耦合到包括ITO膜等的透明导电膜的技术以提供改善的显示设备。然而，用于耦合偏振板和ITO膜的光学粘合剂造成了ITO膜的腐蚀，从而劣化显示设备的可用性。
发明内容
本发明的一个方面提供了光学元件，其包括透明导电膜；形成在所述透明导电膜上的光学粘合剂层；和堆叠在所述光学粘合剂层上的偏振板，其中，包含所述光学粘合剂层的样品的表面电阻差Rs2－Rs1小于约0.2Ω，通过制造在其上具有所述光学粘合剂层的所述偏振板，并在所述光学粘合剂层的反向上侧堆叠两个透明导电膜制备所述样品，其中，Rs1为所述样品的初始表面电阻，并且Rs2为将所述样品置于70℃和95%RH下48小时的表面电阻。
附图说明
图1为根据本发明的一个实施方式的光学元件侧视图；
图2为根据本发明的用于腐蚀评估的样品的侧视图；和
图3为根据本发明的用于光泄露评估的样品的侧视图。
1：透明导电膜，2：光学粘合剂层，3：偏振板
100：偏振板，200：光学粘合剂的固化产物，300：ITO膜
X：ITO膜的长度，Y：样品的长度，Z：用于表面电阻测量的长度
具体实施方式
在本发明的一个方面中，光学元件可包括光学粘合剂层。
光学粘合剂层可制造包含具有小于约0.2Ω的表面电阻差Rs2－Rs1的光学粘合剂层的样品。具体地，当通过制造在其上具有光学粘合剂层并在光学粘合剂层的反向上侧堆叠两个透明导电膜的偏振板制备包含光学粘合剂层的样品时，该样品可具有小于约0.2Ω的表面电阻差Rs2－Rs1，其中，Rs1为该样品的初始表面电阻，并且Rs2为置于70℃和95%RH 48小时的该样品的表面电阻。
为了将光学粘合剂层应用到触屏面板(TSP)上，将该光学粘合剂层与包括ITO膜等的透明导电膜接触。该光学粘合剂层用于防止该透明导电膜的腐蚀。
当通过腐蚀评估方法测得的表面电阻差Rs2－Rs1小于约0.2Ω时，附着于透明导电膜上的光学粘合剂层可防止透明导电膜的腐蚀。优选地，表面电阻差Rs2－Rs1可为约0.06Ω至约0.15Ω。
可使用本领域中已知的任何评估腐蚀特性的方法。例如，将光学粘合剂堆叠在偏振板上。然后，将该光学粘合剂置于35℃下固化3至5天，从而制备了具有堆叠其上的固化的光学粘合剂的偏振板。接着，将两个包括ITO膜等的透明导电膜堆叠在固化的光学粘合剂的反向上侧，从而提供样品。
图2为样品的一个实施方式的截面图。参照图2，固化的光学粘合剂200，即光学粘合剂层被堆叠在偏振板100上，且两个包括ITO膜等的透明导电膜300堆叠在固化的光学粘合剂200的反向上侧。堆叠在偏振板上的光学粘合剂层具有7cm的总长度Y。每个堆叠在该光学粘合剂层反向上侧的两个ITO膜的具有1cm的长度X，并且用于测量表面电阻的长度Z为6cm。
电阻测试仪连接至堆叠在光学粘合剂层反向上侧的各个ITO膜上，以测量初始表面电阻Rs1。接着，将该样品置于70℃和95%RH下48小时，然后用相同的方法测量表面电阻Rs2。基于表面电阻差Rs2－Rs1评估该光学粘合剂层的腐蚀特性。
在另一个实施方式中，该样品可具有小于约0.2Ω的表面电阻差Rs3－Rs1，其中Rs3为放置在60℃和95%RH下500小时的包括光学粘合剂层的样品的表面电阻。
在这个实施方式中，首先，以上述方法制备样品，接着测量样品的初始表面电阻Rs1。然后，将该样品置于60℃和95%RH下500小时，然后测量该样品的表面电阻Rs3。基于表面电阻差Rs3－Rs1，评估光学粘合剂层的腐蚀特性。该光学粘合剂层可产生小于约0.2Ω的表面电阻差Rs3－Rs1。优选地，表面电阻差Rs3－Rs1可为约0.06Ω至约0.15Ω。
在进一步的实施方式中，在具有约10μm至约50μm厚度的膜上测量，光学粘合剂层可具有约1.48至约1.50折射率。
折射率可影响光学粘合剂的光学特性，例如可见度、光泄露等。常规的光学粘合剂层通常具有约1.46的折射率。具有这样折射率的光学粘合剂层可减小出现光泄露的区域的大小。然而，包含常规光学粘合剂层的显示设备不能保证故障测试中的一致的测定结果，因为其可根据视角而变化，由于难以区分受到光泄露的区域和没有光泄露的区域，因而在应用光学粘合剂时造成加工困难。此外，显示设备的光泄露大致地与显示设备的尺寸成比例（尺寸效应）。
根据本发明，光学粘合剂层可具有约1.48至约1.50的折射率。因此，根据本发明的该光学粘合剂层可在防止光泄露的同时能够识别光泄露，从而促进工艺设计并改善光均匀性。优选地，光学粘合剂层可具有约1.48至约1.49的折射率。
可通过本领域中已知的任何方法测量折射率。例如，可通过用Abbe折射计测量膜的折射率的典型方法测量折射率。在该方法中，通过在离型膜（例如聚对苯二甲酸乙二醇酯膜）上涂布光学粘合剂，然后在90℃干燥4分钟，制备光学粘合剂膜。然后，通过从产物上去除该离型膜，获得光学粘合剂膜。该光学粘合剂膜可具有约10μm至约50μm厚度，不限于此。
在一些实施方式中，光学粘合剂层可具有于25℃和1Hz条件下在25μm的厚度测量的约1.0E+04至约2.0E+04达因/cm2的损耗模量G"。在这个范围内，光学粘合剂层可防止光学粘合剂的遗漏（omission）。优选地，光学粘合剂层可具有约1.4E+04至约2.0E+04达因/cm2的损耗模量。
在一些实施方式中，光学粘合剂层可具有于25℃和1Hz条件下在25μm的厚度下测量的约1至6的储能模量G'与损耗模量G"的比率(G'/G")。在这个范围内，该光学粘合剂层可具有改善的光泄露特性，并允许清楚识别光泄露。优选地，光学粘合剂层可具有约3至5.5的比率(G'/G")。
根据本发明，可使用包括上述光学粘合剂层的光学元件。
在一个实施方式中，光学元件可包括透明导电膜；堆叠在该透明导电膜上的光学粘合剂层；和堆叠在该光学粘合剂层上的偏振板。
在另一个实施方式中，光学元件可包括透明导电膜和通过光学粘合剂层堆叠的偏振板。例如，光学元件可具有这样的结构，其中光学粘合剂层和偏振板顺序堆叠在透明导电膜上。图1为根据本发明的一个实施方式的光学元件侧视图。参照图1，光学将粘合剂层2和偏振板3顺序堆叠在透明导电膜1上。
在这个光学元件中，如上所述，该光学粘合剂层可具有基于上述用于评估该腐蚀特性方法的表面电阻要求和折射率G"或G'/G"。
透明导电膜可为包含选自由氧化锡、氧化铟、氧化铟锡、氧化铟锌、氧化铟锆、氧化锆、氟氧化锡、氧化锌、氧化镉锡、氧化硫、氧化氟、碳黑、碳纳米管、铂、金、银、钯、导电聚合物和它们的混合物组成的组中的至少一种的膜或栅极膜(GEF)，不限于此。
透明导电膜可具有约50μm至约200μm的厚度，不限于此.
偏振板可具有典型的构造。例如，偏振板可包括由偏振介质形成的偏振基膜和在该偏振基膜的两侧形成的保护膜。
可通过拉伸能够偏振入射光的聚乙烯醇树脂膜，并用碘化合物或二色偏振材料染色所得物而形成偏振基膜。具体地，可通过拉伸聚乙烯醇树脂膜，例如聚乙烯醇、聚乙烯甲缩醛、聚乙烯乙缩醛和乙烯共聚物水解膜，并用碘或二色偏振材料染色该拉伸的膜而制备偏振基膜。
保护膜用于保护该偏振基膜，并可为通过堆叠包括三乙酰纤维素膜、聚碳酸酯膜和聚醚砜膜的一种或多种纤维素膜而制备的多层膜。
可通过将偏振板的保护膜粘合到光学粘合剂层上，将偏振板堆叠在透明导电膜上。
透明导电膜可堆叠在玻璃基板或聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)基板上。
光学粘合剂层可由光学粘合剂形成。可通过涂布光学粘合剂或通过涂布并固化光学粘合剂而形成光学粘合剂层。可使用本领域中已知的任何固化方法。
光学粘合剂可具有大于约55%的凝胶百分数。优选地，光学粘合剂可具有约70%至约88%的凝胶百分数。
可通过本领域中任何已知的方法测量凝胶百分数。例如，将1.5g的光学粘合剂溶于20ml的甲苯，置于23℃下48小时，并在100℃下干燥24小时，然后测量所得物的质量(A)。可通过下面的等式1使用光学粘合剂的初始质量(B)和质量(A)获得光学粘合剂的凝胶百分数：
凝胶百分数=(A/B)×100
在一些实施方式中，该光学粘合剂组合物可包括(甲基)丙烯酸共聚物和固化剂。
(甲基)丙烯酸共聚物可具有约1.48至约1.50的折射率。在这个范围内，光学粘合剂可具有改善的光泄露特性。可通过用Abbe折射计测量膜的折射率的典型的方法测量折射率。
(甲基)丙烯酸共聚物可具有小于约0.5mgKOH/g的酸值。在这个范围内，当应用于透明导电膜时，光学粘合剂在改善腐蚀特性的同时，可提供期望的表面硬度。(甲基)丙烯酸共聚物优选可具有约0.15mgKOH/g至约0.49mgKOH/g，更优选约0.15mgKOH/g至0.48mgKOH/g的酸值。可根据JIS K0070（1992版本）测量酸值，不限于此。
(甲基)丙烯酸共聚物可具有约800,000g/mol至约2,000,000g/mol的重均分子量。在这个范围内，(甲基)丙烯酸共聚物可易于共聚。优选地，(甲基)丙烯酸共聚物可具有约800,000g/mol至约1,400,000g/mol的重均分子量。
(甲基)丙烯酸共聚物可为包含具有约1.47或更高折射率的乙烯基单体的单体混合物的共聚物。在这个范围内，乙烯基单体可提高(甲基)丙烯酸共聚物的折射率，从而能够有效抑制光泄露。优选地，乙烯基单体可具有约1.47至约1.5的折射率。
具有约1.47或更高折射率的乙烯基单体在(甲基)丙烯酸共聚物中的含量可为约0.01至30wt%。在这个范围内，光学粘合剂可呈现良好的初始剥离强度和耐久性，并当应用于中尺寸或小尺寸显示器时可不引起光泄露。优选地，乙烯基单体在(甲基)丙烯酸共聚物中的含量可为约1至30wt%，更优选10至30wt%。
具有约1.47或更高折射率的乙烯基单体可选自由含芳香环的乙烯基单体、含脂环的乙烯基单体、含吡咯烷酮基的乙烯基单体、含呋喃基的单体和它们的混合物组成的组中。优选地，该乙烯基单体可为含芳香环的乙烯基单体。
含芳香环的乙烯基单体可具有正的双折射。
在一些实施方式中，含芳香环的乙烯基单体可为化学式1表示的乙烯基单体：
（其中，R1为氢或C1至C5烷基，m为约0至10的整数，并且X选自由苯基、甲基苯基、甲基乙基苯基、甲氧基苯基、丙基苯基、环己基苯基、氯代苯基、溴代苯基、苯基苯基和苄基苯基组成的组中）。
在其它实施方式中，含芳香环的乙烯基单体可为化学式2表示的乙烯基单体：
（其中，R2为氢或C1至C5烷基，m为约0至10的整数，Y为氧或硫，并且Ar选自由苯基、甲基苯基、甲基乙基苯基、甲氧基苯基、丙基苯基、环己基苯基、氯代苯基、溴代苯基、苯基苯基和苄基苯基组成的组中）。
具体地，具有化学式1或2的乙烯基单体可包括选自由(甲基)丙烯酸苯氧酯、2-乙基苯氧基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸苯酯、2-乙基硫代苯基(甲基)丙烯酸酯、2-苯乙基(甲基)丙烯酸酯、3-苯丙基(甲基)丙烯酸酯、4-苯丁基(甲基)丙烯酸酯、2-(2-甲基苯基)乙基(甲基)丙烯酸酯、2-(3-甲基苯基)乙基(甲基)丙烯酸酯、2-(4-甲基苯基)乙基(甲基)丙烯酸酯、2-(4-丙基苯基)乙基(甲基)丙烯酸酯、2-(4-(1-甲基乙基)苯基)乙基(甲基)丙烯酸酯、2-(4-甲氧基苯基)乙基(甲基)丙烯酸酯、2-(4-环己基苯基)乙基(甲基)丙烯酸酯、2-(2-氯代苯基)乙基(甲基)丙烯酸酯、2-(3-氯代苯基)乙基(甲基)丙烯酸酯、2-(4-氯代苯基)乙基(甲基)丙烯酸酯、2-(4-溴代苯基)乙基(甲基)丙烯酸酯、2-(3-苯基苯基)乙基(甲基)丙烯酸酯和2-(4-苄基苯基)乙基(甲基)丙烯酸酯组成的组中的至少一种，不限于此。
在其它实施方式中，含芳香环的乙烯基单体可为选自苯氧二乙二醇(甲基)丙烯酸酯、环氧乙烷改性壬基苯酚(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸联苯酯、苯乙烯、乙烯基甲苯、α-甲基苯乙烯和羟基乙基化β-萘酚(甲基)丙烯酸酯的一种。
含脂环的乙烯基单体可包括具有C4至C20脂环或杂脂环的(甲基)丙烯酸单体或(甲基)丙烯酸酯。例如，含脂环的乙烯基单体可包括(甲基)丙烯酸环戊酯、(甲基)丙烯酸环己酯或(甲基)丙烯酸异冰片酯,不限于此.
含吡咯烷酮基的乙烯基单体可包括N-乙烯基吡咯烷酮，不限于此。
含呋喃基的单体可包括含(甲基)丙烯酸呋喃酯、四氢化糠基(甲基)丙烯酸酯等的含呋喃基的乙烯基单体、异氰酸呋喃酯、丙酸呋喃酯或戊酸呋喃酯，不限于此。
(甲基)丙烯酸共聚物可为(A)选自含芳香环的乙烯基单体、含脂环的乙烯基单体、含吡咯烷酮基的乙烯基单体、含呋喃基的单体和它们的混合物，(B)含烷基的乙烯基单体，(C)含羟基的乙烯基单体和(D)含羧酸基的乙烯基单体的共聚物。
含烷基的乙烯基单体可包含具有C1至C20直链或支链烷基的(甲基)丙烯酸酯。例如，含烷基的乙烯基单体可包含选自由(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸叔丁酯、(甲基)丙烯酸异丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸庚酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸异辛酯、(甲基)丙烯酸壬酯、(甲基)丙烯酸癸酯和(甲基)丙烯酸月桂酯组成的组中的至少一种，不限于此。含烷基的乙烯基单体在(甲基)丙烯酸共聚物中的含量可为约50至90wt%。在这个范围内，可促进在透明导电膜上的涂布，并且在固化中可获得低固化收缩率。优选地，含烷基的乙烯基单体的含量可为约65至90wt%。
含羟基的乙烯基单体可为含羟基的(甲基)丙烯酸酯。优选地，含羟基的(甲基)丙烯酸酯可为在其端基或结构中包括至少一个羟基的含C2至C20烷基或C4至C20环烷基的(甲基)丙烯酸酯。例如，含羟基的乙烯基单体可包括选自由2-羟乙基(甲基)丙烯酸酯、4-羟丁基(甲基)丙烯酸酯、2-羟丙基(甲基)丙烯酸酯、2-羟丁基(甲基)丙烯酸酯、6-羟己基(甲基)丙烯酸酯、1,4-环己烷二甲醇单(甲基)丙烯酸酯、1-氯-2-羟丙基(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、1,6-乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇单(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基乙烷二(甲基)丙烯酸酯、2-羟基-3-苯氧基丙基(甲基)丙烯酸酯、2-羟基-3-苯氧基(甲基)丙烯酸酯、4-羟基环己基(甲基)丙烯酸酯、环己烷二甲醇单(甲基)丙烯酸酯和烯丙醇组成的组中的至少一种，不限于此。含羟基的(甲基)丙烯酸酯在(甲基)丙烯酸共聚物中的含量可为约0.1至20wt%。在含羟基的(甲基)丙烯酸酯的这个范围内，可促进在ITO膜上的涂布，并可获得低固化收缩率。优选地，含羟基的(甲基)丙烯酸酯在(甲基)丙烯酸共聚物中的含量可为约0.5至10wt%。
含羧酸基的乙烯基单体可为在其端基或结构中包括至少一个羧酸基的C1至C10(甲基)丙烯酸酯，或含乙烯基的羧酸。例如，含羧酸基的乙烯基单体可包括选自由2-羧乙基(甲基)丙烯酸酯、3-羧丙基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸、衣康酸、巴豆酸、马来酸、富马酸、和马来酸酐组成的组中的至少一种，不限于此。含羧酸基的乙烯基单体在(甲基)丙烯酸共聚物中的含量可为0.1至4.9wt%。在这个范围内，可促进在ITO膜上的涂布，并可获得低固化收缩率。优选地，含羧酸基的乙烯基单体的含量可为约0.1至1.0wt%，更优选约0.5至1.0wt%的量。
可通过将聚合引发剂加入到具有约1.47或更高折射率的乙烯基单体、含羟基的乙烯基单体、含烷基的乙烯基单体和含羧酸基的乙烯基单体的混合物中，然后在合适的条件下聚合来制备该(甲基)丙烯酸共聚物。
聚合引发剂可包括选自由2,2-偶氮双(2,4-二甲基戊腈)、偶氮双异丁腈、过氧化苯甲酰、二月桂酰过氧化物、叔丁基-(2-乙基己基)单过氧碳酸酯、叔戊基-(2-乙基己基)单过氧碳酸酯、1,1-二(叔丁基过氧)环己烷、1,1-二(叔戊基过氧)环己烷、叔丁基过氧-3,5,5-三甲基己酸酯、1,1-二(叔丁基过氧)-3,3,5-三甲基环己烷、过硫酸钾、过硫酸钠、过硫酸铵和偶氮类水溶性引发剂组成的组中的至少一种或两种化合物，不限于此.
基于100重量份的含烷基的乙烯基单体，引发剂的含量为约0.001至2重量份。
在制备(甲基)丙烯酸共聚物中，可使用能够溶解具有约1.47或更大折射率的乙烯基单体的溶剂、含羟基的乙烯基单体、含烷基的乙烯基单体和含羧基的乙烯基单体。可使用本领域中已知的任何溶剂，例如乙酸乙酯。
可合适地调节聚合的温度和时间。例如聚合可在65至70℃下进行约6至8小时。
固化剂可为热固化剂。例如，固化剂可包括异氰酸酯、环氧树脂、环乙亚胺、三聚氰胺、胺、酰亚胺、碳二亚胺、酰胺固化剂，或它们的混合物，不限于此。
优选地，在光学粘合剂中，固化剂可为异氰酸酯固化剂和环氧树脂固化剂的混合物。例如，该混合物可包含约90至99wt%的异氰酸酯固化剂和约1至10wt%的环氧树脂固化剂。优选地，该混合物可包含约90至95wt%的异氰酸酯固化剂和约5至10wt%的环氧树脂固化剂。
可使用本领域任何已知的异氰酸酯热固化剂。例如，异氰酸酯热固化剂可为二异氰酸甲苯酯、2,4-三氯乙烯二异氰酸酯、2,6-三氯乙烯二异氰酸酯、氢化的三氯乙烯二异氰酸酯、二异氰酸酯异构体、1,3-二甲苯二异氰酸酯、1,4-二甲苯二异氰酸酯、二苯甲烷-4,4-二异氰酸酯、1,3-双异氰酰甲基环己烷、四甲基二甲苯二异氰酸酯、1,5-萘二异氰酸酯、二异氰酸己酯、2,2,4-三甲基二异氰酸己酯、2,4,4-三甲基二异氰酸己酯、羟甲基丙烷改性甲苯二异氰酸酯、三氯乙烯二异氰酸酯和三羟甲基丙烷的加合物、二甲苯二异氰酸酯和三羟甲基丙烷的加合物、三苯甲烷三异氰酸酯、亚甲基双三异氰酸酯、其多醇（三羟甲基丙烷)和它们的混合物。
可使用本领域中任何已知的环氧树脂固化剂。例如，环氧树脂固化剂可为乙二醇二缩水甘油醚、三缩水甘油醚、三羟甲基丙烷三缩水甘油醚、N,N,N',N'-四缩水甘油基乙二胺、甘油二缩水甘油醚或它们的混合物。
在光学粘合剂中，基于100重量份的(甲基)丙烯酸共聚物，固化剂的含量可为约0.01至10重量份。在这个范围内，光学粘合剂可具有良好的粘合性和稳定的加工性。优选地，固化剂的含量可为约0.1至5重量份，更优选约0.1至约1重量份。
光学粘合剂可进一步包含硅烷偶联剂。硅烷偶联剂可改善光学粘合剂粘合中的稳定性和可靠性。
可使用本领域中已知的任何硅烷偶联剂。例如，硅烷偶联剂可包括选自由含可聚合不饱和基团的硅化合物，例如，乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、(甲基)丙烯酰氧基丙基三甲氧硅烷和(甲基)丙烯酰氧基丙基三乙氧硅烷；具有环氧结构的硅化合物，例如3-缩水甘油醚氧基丙基三甲氧基硅烷、3-缩水甘油醚氧基丙基甲基二甲氧基硅烷、3-缩水甘油醚氧基丙基三乙氧基硅烷和2-(3,4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷；含胺基的硅化合物，例如3-氨基丙基三甲氧基硅烷、3-氨基丙基三乙氧基硅烷、N-(2-氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷和N-(2-氨基乙基)-3-氨基丙基甲基二甲氧硅烷；和3-氯丙基三甲氧基硅烷、3-异氰酸酯基丙基三乙氧基硅烷、γ-乙酰乙酸丙酯三甲氧基硅烷组成的组中的至少一种，不限于此。
基于100重量份的(甲基)丙烯酸共聚物，硅烷偶联剂的含量可为约0.01至0.5重量份。在这个范围内，光学粘合剂在改善(甲基)丙烯酸共聚物的储能模量的同时，可进一步改善粘合中的稳定性和可靠性。
根据再一个方面，显示设备可包括所述光学粘合剂层或所述光学元件。例如，在显示设备中，光学粘合剂层可用于覆盖窗口和ITO基板之间，或偏振片和基板之间的粘合。优选地，显示设备包括具有顺序堆叠在透明导电膜上的光学粘合剂和偏振片的光学元件。
接下来，将参照下面的实施例，更详细地说明本发明的构造和功能。应理解提供这些实施例仅用于说明的目的，而不应以任何方式解释为限制本发明。这里将省略对本领域技术人员显而易见的详细说明。
制备例1：(甲基)丙烯酸共聚物的制备
59重量份的丙烯酸丁酯(BA)、10重量份的丙烯酸甲酯(MA)、0.5重量份的丙烯酸2-羟乙酯(2-HEMA)、30重量份的苯氧甲基丙烯酸酯(PMA)和0.5重量份的丙烯酸(AA)与10重量份的作为溶剂的乙酸乙酯(EA)在1L的4颈烧瓶中放在一起，并保持在65℃。以50%的比例用乙酸乙酯稀释0.03重量份的偶氮双异丁腈作为引发剂加到该混合物中。通过在65℃反应5小时，制备(甲基)丙烯酸共聚物。在反应过程中，以10cc/min供应氮气到烧瓶中。可通过的用Abbe折射计测量膜的折射率的典型方法测量制备的(甲基)丙烯酸共聚物的折射率。根据JIS K0070（1992版本）测量制备的(甲基)丙烯酸共聚物的酸值。制备的(甲基)丙烯酸共聚物的重均分子量、折射率和酸值提供于表1中。
制备例2至5：(甲基)丙烯酸共聚物的制备
除了个别组分的含量（单位：重量份）外，以与制备例1中相同的方式制备(甲基)丙烯酸共聚物。
表1
实施例和对比例中使用的组分的详情如下。
(1)(甲基)丙烯酸共聚物：实施例1至5制备的(甲基)丙烯酸共聚物
(2)固化剂1：三羟甲基丙烷改性甲苯二异氰酸酯（Coronate-L,Nippon Polyurethane）
固化剂2：环氧树脂交联剂(TETRAD-C,Mitsubishigano)
(3)硅烷偶联剂：3-缩水甘油醚氧基丙基三甲氧硅烷(KBM-403,Shin-Etsu Chemical)
实施例1至3和对比例1至2：光学粘合剂的制备
通过混合如表2所列的不包括溶剂的组分（单位：重量份），然后搅拌混合物1小时，制备的每个光学粘合剂。
表2
如下评估各个制备的光学粘合剂的性质，并且结果显示于表3中。
(1)腐蚀特性：制备的粘合剂在偏振板涂布成20至30μm的厚度。然后，涂布的粘合剂层置于35℃固化5天，两个ITO膜堆叠到该固化的粘合剂层的反向上侧，从而提供如图2显示的样品。堆叠在偏振板上的该固化的粘合剂层的样品具有7cm的总长Y，堆叠在该固化粘合剂层的反向上侧的ITO膜的每个具有1cm的长度X，并且用于表面电阻的测量的长度Z为6cm。用连接至各个ITO膜的电阻检测仪（Mutimeter,FLUKE）使用2点探针测量ITO膜的电阻Rs1。然后，该样品置于70℃和95%RH 48小时，然后用相同的方法测量表面电阻Rs2。基于表面电阻差Rs2－Rs1评估腐蚀特性。通过同样的方法，测量样品在60℃和95%RH储存500小时后，样品的表面电阻Rs3。基于表面电阻差Rs3-Rs1评估腐蚀特性。.
(2)折射率：在聚对苯二甲酸乙二醇酯离型膜上涂布光学粘合剂，然后在90℃干燥4分钟，从而提供包含光学粘合剂膜的样品。从样品去除离型膜后，用Abbe折射计(DR-A1)测量20μm厚度的光学粘合剂膜的折射率。
(3)光泄露：运转LCD装置后，用亮度检测器(RISA,Hiland)在1m的高度，基于用于下面光透射均匀性的测试该样品，测量显示面板的前侧的亮度。具体地，测量显示面板的中心区域的亮度(c)，和显示面板的角(a)、(b)、(d)和(e)的亮度。如图3所示，每个亮度测量点放在面板的每侧的中间。此处，该面板的每一侧邻接用于亮度测量的圆的圆周，其具有0.5cm的半径。图3中，和亮度测量点。根据下面的等式2计算亮度差异ΔL。较低的ΔL值意味着更好的光泄露特性。
<等式2>
△L=[(a﹢b﹢d﹢e)/4]-c
（其中，a、b、d和e为在图3的亮度测量点的亮度，并且c为可靠性测试前在中心的亮度）
(4)粘合剂蠕变（mm）：将具有实施例和对比例的粘合剂的每个偏振板粘附到具有1.5cm×1.5cm的粘附区域的玻璃基板上。并室温储存3天以制备样品。用通用测试仪（UTM）对样品施加2.2kgf的力20分钟期间，通过测量位移距离评估蠕变（μm）。
(5)光透射均匀性：在暗室中用背光单元观察光泄露。涂布的偏振板(100×175mm)附着到玻璃基板的两侧（400×200×15mm），以便该偏振板的光轴彼此交叉。为评估透射均匀性，该样品放置在80℃250小时或在60℃和90%RH 250个小时，然后储存于25℃1小时或更长。评估标准如下。
○：用裸眼难于确定光透射不均匀性
△：轻微的光透射不均匀性
×：光透射不均匀性
(6)耐久性：具有实施例和对比例中制备的粘合剂的每个的偏振片（100×175mm）附着到玻璃基板上后，施加4～5kg/cm2的压力以提供样品。这里，该样品在干净的房间内制备以防止气泡或异物的产生。将制备样品在80℃下保持500小时后根据气泡或剥离的产生评估耐热性。此外，制备的样品在60℃和90%RH下保存500小时，以根据气泡或剥离的产生评估耐湿热型。在25℃储存1小时后，立即用裸眼或在显微镜下观察该样品的。评估标准如下。
○：无起泡或剥离
Δ：轻微起泡或剥离
×：明显起泡或剥离
(7)可再加工性和可切割性：用汤姆森切刀切割涂有实施例和对比例中制备的粘合剂的每个的400×250mm的偏振片。然后观察粘结合层的切割横截面。接着，偏振片附着在该玻璃基板的两侧，施加4～5kg/cm2的压力以制备样品。在70℃下储存6小时并缓慢冷却超过1小时至室温后，进行再加工。观察在玻璃基板上是否存在残留物。评估标准如下。
○：切割横截面上无粘结剂残留物（在再加工过程中无转移）
Δ：切割横截面上存在微量的粘结剂残留物（在再加工过程中微量转移）
×：切割横截面上存在明显的粘结剂残留物（在再加工过程中发生转移）
(8)流变：制备20至25μm的NCF样品，然后在35℃老化96小时。然后，堆叠实施例和对比例中制备的每个25μm厚的光学粘合剂层以制备300μm厚的样品。该样品在8mm直径的圆盘上堆叠，然后测量流变。用Physica MCR501（Anton Parr有限公司）在25℃和1Hz的条件下测量G'和G"。
(9)粘合剂的遗漏：用在实施例和对比例中制备的每种粘合剂涂布的400×250mm的偏振板用汤普森切刀切割。30片偏振板放在粘合剂遗漏测试仪上，并在其一端经冲击120个循环。在显微镜下观察该粘合剂层的切割的横截面以观察以识别根据受损的偏振板的数目的粘合剂的遗漏。
○：5或更小的损坏的偏振板和良好的粘合剂遗漏特性
△：6至9个偏振板和轻微的粘合剂遗漏
×：10或更多个偏振板突出的粘合剂遗漏
表3
如表3所示，可看出根据本发明的光学粘合剂具有低的腐蚀、改善的光泄露特性、低的G"，并未显示粘合剂的遗漏。
虽然本文已公开了一些实施方式，但应理解这些实施方式仅以说明的方式提供，且在不背离本发明精神和范围下可进行各种修改、变化和更改。因此，本发明的范围应仅由所附权利要求和其等价形式限定。

Claims (19)

1.一种光学元件，包含：
透明导电膜；
形成在所述透明导电膜上的光学粘合剂层；和
堆叠在所述光学粘合剂层上的偏振板，
其中，包含所述光学粘合剂层的样品的表面电阻差Rs2－Rs1为小于0.2Ω，通过制造在其上具有所述光学粘合剂层的所述偏振板，并在所述光学粘合剂层的反向上侧堆叠两个所述透明导电膜制备所述样品，其中，Rs1为所述样品的初始表面电阻，并且Rs2为将所述样品置于70℃和95％RH下48小时的表面电阻，
其中，所述光学粘合剂层具有于25℃和1Hz条件下在300μm的厚度测得的1.0E+04至2.0E+04达因/cm2的损耗模量G"。
2.根据权利要求1所述的光学元件，其中，所述样品的表面电阻差Rs3－Rs1小于0.2Ω，其中，Rs3为将所述样品置于60℃和95％RH下500小时的表面电阻。
3.根据权利要求1所述的光学元件，其中，所述光学粘合剂层具有在具有10μm至50μm厚度的膜上测得的1.48至1.50的折射率。
4.根据权利要求1所述的光学元件，其中，所述光学粘合剂层具有于25℃和1Hz条件下在300μm的厚度测得的1至6的储能模量G'与损耗模量G"的比率G'/G"。
5.根据权利要求1所述的光学元件，其中，所述光学粘合剂层包含(甲基)丙烯酸共聚物，所述(甲基)丙烯酸共聚物具有小于0.5mgKOH/g的酸值，和800,000g/mol至2,000,000g/mol的重均分子量。
6.根据权利要求5所述的光学元件，其中，所述(甲基)丙烯酸共聚物包含选自由含芳香环的乙烯基单体、含脂环的乙烯基单体、含吡咯烷酮基的乙烯基单体、含呋喃基的单体和它们的混合物组成的组中的单体。
7.根据权利要求6所述的光学元件，其中，所述单体具有1.47或更大的折射率。
8.根据权利要求6所述的光学元件，其中，所述单体在所述(甲基)丙烯酸共聚物中的含量为0.01至30wt％。
9.根据权利要求6所述的光学元件，其中，所述含芳香环的乙烯基单体由化学式1或2表示：
<化学式1>
其中，R1为氢或C1至C5烷基，m为0至10的整数，并且X选自由苯基、甲基苯基、甲基乙基苯基、甲氧基苯基、丙基苯基、环己基苯基、氯代苯基、溴代苯基、苯基苯基和苄基苯基组成的组中，
<化学式2>
其中，R2为氢或C1至C5烷基，m为0至10的整数，Y为氧或硫，并且Ar选自由苯基、甲基苯基、甲基乙基苯基、甲氧基苯基、丙基苯基、环己基苯基、氯代苯基、溴代苯基、苯基苯基和苄基苯基组成的组中。
10.根据权利要求5所述的光学元件，其中，所述(甲基)丙烯酸共聚物为：
(A)选自含芳香环的乙烯基单体、含脂环的乙烯基单体、含吡咯烷酮基的乙烯基单体、含呋喃基的单体和它们的混合物的单体，
(B)含烷基的乙烯基单体，
(C)含羟基的乙烯基单体，和
(D)含羧酸基的乙烯基单体
的共聚物。
11.根据权利要求10所述的光学元件，其中，所述(D)单体在所述(甲基)丙烯酸共聚物中的含量为0.1至4.9wt％。
12.根据权利要求10所述的光学元件，其中，所述(甲基)丙烯酸共聚物为：
0.01至30wt％的所述(A)单体，
50至90wt％的所述(B)单体，
0.1至20wt％的所述(C)单体，和
0.1至4.9wt％的所述(D)单体
的共聚物。
13.根据权利要求5所述的光学元件，其中，所述光学粘合剂层进一步包含选自由异氰酸酯固化剂和环氧树脂固化剂组成的组中的至少一种固化剂。
14.根据权利要求13所述的光学元件，其中，基于100重量份的所述(甲基)丙烯酸共聚物，所述固化剂的含量为0.01至10重量份。
15.根据权利要求5所述的光学元件，其中，所述光学粘合剂层进一步包含硅烷偶联剂，基于100重量份的所述(甲基)丙烯酸共聚物，所述硅烷偶联剂的含量为0.01至0.5重量份。
16.根据权利要求1所述的光学元件，其中所述透明导电膜为包含选自由氧化锡、氧化铟、氧化铟锡、氧化铟锌、氧化铟锆、氧化锆、氟氧化锡、氧化锌、氧化镉锡、氧化硫、氧化氟、碳黑、碳纳米管、铂、金、银、钯、导电聚合物和它们的混合物组成的组中的至少一种的膜或栅极膜。
17.根据权利要求1所述的光学元件，其中，所述透明导电膜堆叠在玻璃基板或聚对苯二甲酸乙二醇酯基板上。
18.一种光学粘合剂，包含(甲基)丙烯酸共聚物，
其中，所述光学粘合剂具有在具有10μm至50μm厚度的膜上测得的1.48至1.50的折射率，并且
其中，包含所述光学粘合剂的样品的表面电阻差Rs2－Rs1为小于0.2Ω，通过制造在其上具有所述光学粘合剂的固化产物的偏振板，并在所述固化产物的反向上侧堆叠两个透明导电膜制备所述样品，其中，Rs1为所述样品的初始表面电阻，并且Rs2为将所述样品置于70℃和95％RH下48小时的表面电阻。
19.一种显示设备，包含权利要求1至17的任一项所述的光学元件或权利要求18所述的光学粘合剂。
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