CN103128619A - 立式连续循环抛光机构 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了立式连续循环抛光机构,它包括工作台和抛光位,卡具安装在工作台的抛光位里,转轴安装在拖板上,气缸装配在转轴上端,转轴下端装配有工装带轮和抛光头,带轮安装在电机的输出轴上。工作台上还设置有清洗位,带轮与工装带轮之间通过皮带联接,电机安装在机床底座上。本发明采用工件移动,抛光头旋转,工件从抛光头下移出的时候可进行清洗,上下料等操作,使抛光,清洗和上下料能够同时进行,并且能够使用机械手自动上下料。另外每个工件单独抛光,即使单个工件破碎,也不会影响到其它工件的加工和质量。
Description
技术领域:
本发明涉及一种立式连续循环抛光机构,特别适用于数控立式玻璃的抛光。
背景技术:
抛光做为玻璃加工最后的一道工序,对提高玻璃表面光亮度具有决定性的作用。现有玻璃抛光普遍使用平面研磨机,上下两个抛光盘夹紧玻璃片进行抛光,每次放入一盘(根据玻璃片的大小可放大数量不等)然后进行抛光,抛光完成后再把玻璃片取出,用此类平面研磨机抛光玻璃有如下缺点:a、由于该设备抛光盘直径比较大,抛光盘的转速低,从而限制了加工效率;b、等待时间长,该设备抛光玻璃时上下两个抛光盘闭合,上下料的时候必须停机;c、劳动强度高,由于该设备限制了自动上下料的实现,上下料必须用手动完成,增强工作强度和操作的危险性;d、废料率高,一盘玻璃中有一件破碎,玻璃屑就会随着抛光盘的运动划伤整盘玻璃;导致整盘玻璃报废;e、可视性差,抛光开始以后进行到什么程度只能靠经验告知,如果未抛到所需要的光亮度则整盘质量都会不高;f、抛光质量不稳定,每一盘玻璃质量大致相同,但由于每一盘所抛光的时间以及液浓度的变化,将会使每盘之间的抛光质量会有所不同。
发明内容:
本发明的任务是提出一种提高抛光轮的转速,抛光和上下料能够同时进行,从而构成了连续抛光和自动上下料的立式连续循环抛光机构。
本发明的任务是这样完成的,立式连续循环抛光机构,它包括工作台和抛光位,其特征在于:卡具安装在工作台的抛光位里,转轴安装在拖板上,气缸装配在转轴上端,转轴下端装配有工装带轮和抛光头,带轮安装在电机的输出轴上。工作台上还设置有清洗位,带轮与工装带轮之间通过皮带联接,电机安装在机床底座上。
本发明具有以下效果:本发明采用工件移动,抛光头旋转,工件从抛光头下移出的时候可进行清洗,上下料等操作,使抛光,清洗和上下料能够同时进行,并且能够使用机械手自动上下料。另外每个工件单独抛光,即使单个工件破碎,也不会影响到其它工件的加工和质量。
附图说明:
图1是本发明的结构示意图;图2是图1的俯视图;。
图面说明:1、工作台, 2、卡具,3、抛光头,4、工装带轮,5、转轴,6、气缸,7、皮带,8、带轮,9、电机,10、拖板,9-11电机,11、抛光位。
具体实施方式:
结合以上附图详细描述实施例, 卡具2安装在工作台1的抛光位里,工作台上还设置有清洗位,工作台上设置有多个安装工件的抛光位11,转轴5安装在拖板10上,气缸6装配在转轴上端,转轴下端装配有工装带轮4和抛光头3,带轮8安装在电机9的输出轴上,带轮8与工装带轮之间通过皮带7联接,拖板通过电机振荡机构与电机9-11连接,拖板10、电机9-11均安装在机床底座上。
如图1所示,本机构有三个运动,a工作台1上卡具里安装的工件由单独电机经减速器作低速旋转;b由电机9通过带轮8经皮带7传动带动带轮4及抛光头3高速旋转;c电机9-11带动拖板10往复振荡。抛光头3的转动来自安装在拖板10上的电机9通过带轮8及带轮4有皮带7传动,抛光头的上下运动是通过气缸6推动安装在拖板10上的转轴5压向抛光头3上,即对工件端面施加一定的压力实现抛光动作。
工作过程:见图2箭头所示是上料位,当工件装在卡具2里旋转至抛光头3下方时,气缸6推动转轴5及抛光头3向下运动压在工件上,对工件进行抛光。当工作及工装旋转出抛光头3的区域后进入清洗位清洗,清洗时用水即可,冲洗完毕后即可将工件取出,同时可以配未抛光过的工件,工作台6上可以连续卡装若个工件及工装,从而实现连续工作。本结构工作台 1的转速抛光头3的高速转速以及托板10的振荡频率均可任意调节,以达到最佳的抛光效果。
Claims (2)
1.立式连续循环抛光机构,它包括工作台和抛光位,其特征在于:卡具安装在工作台的抛光位里,转轴安装在拖板上,气缸装配在转轴上端,转轴下端装配有工装带轮和抛光头,带轮安装在电机的输出轴上。
2.根据权利要求1所述的立式连续循环抛光机构,其特征在于:工作台上还设置有清洗位,带轮与工装带轮之间通过皮带联接,电机安装在机床底座上。
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C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
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SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20130605 |