CN103124934B - 充电构件及其生产方法 - Google Patents

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Abstract

公开一种充电构件，其抑制了任何调色剂等的附着并且能够显示稳定的充电性能。所述充电构件具有基体、弹性层和表面层，其中所述表面层具有Si-O-B键并且包含具有下式(1)表示的结构单元和下式(2)表示的结构单元的高分子化合物。式(1)式(2)BO3/2。

Description

充电构件及其生产方法
技术领域
本发明涉及一种在电子照相设备中使用的充电构件及其生产方法。
背景技术
在使用接触充电系统的电子照相设备中，可能会发生因长期使用而使调色剂、调色剂中使用的外部添加剂、放电生成物、纸尘等附着至与电子照相感光构件接触设置的充电构件表面。然后，会发生其表面被该类物质污染的充电构件造成在电子照相感光构件上不均匀充电并进一步使电子照相图像包含由此类不均匀充电造成的条纹状缺陷(streaky defect)。
PTL1公开了一种通过溶胶-凝胶法形成的导电性有机-无机杂化膜，该膜由金属和/或半金属的醇盐和有机硅化合物组成且其中分散有导电性填料。然后，该PTL1指出该导电性有机-无机杂化膜因其对水有大的接触角而对调色剂有优异的剥离性。
引用文献
专利文献
PTL1：日本专利申请特开第2002-080785号公报
发明内容
发明要解决的问题
然而，本发明人经研究发现，近年来为了满足进一步改进电子照相设备运行性能的需要，必须研发具有更能避免调色剂等附着的表面的充电构件。
因此，本发明的目的是提供一种即使长期使用也不容易使任何调色剂等附着至其表面且长时间显示稳定的充电性能的充电构件，以及提供该充电构件的生产方法。
本发明的另一个目的是提供一种可长时间稳定形成高品质电子照相图像的电子照相设备。
用于解决问题的方案
根据本发明，提供一种充电构件，其包括基体；弹性层；和表面层；其中，所述表面层包含高分子化合物，所述高分子化合物具有：Si-O-B键；和下式(1)表示的结构单元和下式(2)表示的结构单元。
式(1)
式(2)
BO3/2
在式(1)中，R1和R2各自独立地表示下式(3)至(6)表示的结构的任一种：
式(3)
式(4)
式(5)
式(6)
在式(3)至(6)中，R3至R7、R10至R14、R19、R20、R25和R26各自独立地表示氢原子、具有1至4个碳原子的烷基、羟基、羧基或氨基；R8、R9、R15至R18、R23、R24和R29至R32各自独立地表示氢原子或具有1至4个碳原子的烷基；R21、R22、R27和R28各自独立地表示氢原子、具有1至4个碳原子的烷氧基或烷基；n、 m、l、q、s和t各自独立地表示1至8的整数，p和r各自独立地表示4至12的整数，x和y各自独立地表示0或1；星号*和双星号**各自表示分别与式(1)中的硅原子和氧原子键合的位置。
根据本发明，还提供一种用于生产上述充电构件的方法，所述方法包括以下步骤：
在所述弹性层上形成含有稍后所示的由式(11)表示的可水解化合物与稍后所示的式(12)表示的可水解化合物合成的水解缩合物的涂料的涂膜；和
使所述水解缩合物的环氧基开裂以进行所述水解缩合物的交联从而形成所述表面层。
根据本发明，进一步提供一种电子照相设备，其包括电子照相感光构件和与所述电子照相感光构件接触设置的充电构件。
发明的效果
根据本发明，可使充电构件具有充分低的表面自由能，并因此可提供一种避免任何调色剂等附着至其上且可长时间显示稳定的充电性能的充电构件。
根据本发明，还可提供一种可长时间形成高品质电子照相图像的电子照相设备。
附图说明
[图1]图1是显示本发明充电构件的实例的图。
[图2]图2是具有本发明充电构件的电子照相设备的结构示意图。
[图3]图3是显示本发明中表面层组合物通过29Si-NMR测量的实例的图。
[图4]图4是显示本发明中表面层组合物通过13C-NMR测量 的实例的图。
[图5]图5是在形成根据本发明的表面层的步骤中交联反应的说明图。
[图6A]图6A是显示根据本发明的高分子化合物的化学结构的图。
[图6B]图6B是显示根据本发明的高分子化合物的化学结构的图。
具体实施方式
本发明的充电构件具有基体、在基体上形成的导电性弹性层和在导电性弹性层上形成的表面层。本发明的充电构件最简单的构造是在基体上设置两层，即，导电性弹性层和表面层的构造。在基体与导电性弹性层之间和/或在导电性弹性层与表面层之间还可设置一层或两层以上不同的层。在显示辊形充电构件即充电辊的截面的图1中，附图标记101指基体；102指导电性弹性层；和103指表面层。
基体：
作为基体，使用具有导电性的导电性基体。具体而言，可使用由由铁、铜、不锈钢、铝、铝合金或镍形成的金属制(或合金制)基体。
导电性弹性层：
在导电性弹性层中，可使用在常规充电构件的弹性层(导电性弹性层)中使用的一种或两种或多种弹性材料如橡胶或热塑性弹性体。
橡胶可包括以下：聚氨酯橡胶、硅橡胶、丁二烯橡胶、异戊二烯橡胶、氯丁二烯橡胶、苯乙烯-丁二烯橡胶、乙烯-丙烯橡胶、聚降冰片烯橡胶、苯乙烯-丁二烯-苯乙烯橡胶、丙烯腈 橡胶、表氯醇橡胶和烷基醚橡胶。
热塑性弹性体可包括例如苯乙烯类弹性体和烯烃类弹性体。苯乙烯类弹性体商购可得的产品可包括例如由MitsubishiChemical Corporation可得的商品名为RABARON的产品，和由Kuraray Co.,Ltd.可得的商品名为SEPTON COMPOUND的产品。烯烃类弹性体商购可得的产品可包括例如由MitsubishiChemical Corporation可得的商品名为THERMOLAN的产品、由Mitsui Petrochemical Industries,Ltd.可得的商品名为MILASTOMER的产品、由Sumitomo Chemical Co.,Ltd.可得的商品名为SUMITOMO TPE的产品，和由Advanced ElastomerSystems,L.P可得的商品名为SANTOPRENE的产品。
还可在导电性弹性层中适当地使用导电剂。这能够控制其导电性在规定值。导电性弹性层的电阻值可通过适当选择欲用的导电剂的类型和量来控制。导电性弹性层可具有优选范围为102Ω以上且108Ω以下的电阻值，和更优选范围为103Ω以上且106Ω以下的电阻值。
导电性弹性层中使用的导电剂可包括例如阳离子表面活性剂、阴离子表面活性剂、两性表面活性剂、抗静电剂和电解质。
阳离子表面活性剂可包括例如以下：季铵盐如月桂基三甲铵、十八烷基三甲铵、八(十二烷基)三甲铵(octadodecyltrimethylammonium)、十二烷基三甲铵、十六烷基三甲铵，和改性的脂肪酸二甲基乙铵。季铵盐可包括例如，高氯酸盐、氯酸盐、四氟硼酸盐、乙基硫酸盐(ethosulfate)和苄基卤(如苄基溴和苄基氯)。
阴离子表面活性剂可包括例如脂肪族磺酸盐、高级醇硫酸酯盐、高级醇环氧乙烷加成硫酸酯盐、高级醇磷酸酯盐和高级醇环氧乙烷加成磷酸酯盐。
抗静电剂可包括例如非离子性抗静电剂如高级醇环氧乙烷、聚乙二醇脂肪酸酯和多元醇脂肪酸酯。
电解质可包括例如，属于周期表第1族的金属(如Li、Na和K)的盐(如季铵盐)。属于周期表第1族的金属的盐具体可包括LiCF3SO3、NaClO4、LiAsF6、LiBF4、NaSCN、KSCN和NaCl。
作为导电性弹性层的导电剂，还可使用的是属于周期表第2族的金属(如Ca和Ba)的盐(如Ca(ClO4)2)，和由其衍生的抗静电剂。还可使用的是离子导电性导电剂如这些中的任一种与多元醇或其衍生物的配合物，和这些中的任一种与一元醇的配合物。多元醇可包括1,4-丁二醇、乙二醇、聚乙二醇、丙二醇和聚乙二醇。一元醇可包括乙二醇单甲醚和乙二醇单乙醚。
作为导电性弹性层的导电剂，还可使用的是导电性碳如KETJEN BLACK EC、乙炔黑、橡胶用途的碳、经氧化处理的颜色(墨)用途的碳和热分解的碳。石墨如天然石墨和人工石墨也可用作导电性弹性层的导电剂。
金属氧化物如氧化锡、氧化钛和氧化锌和金属如镍、铜、银和锗也可用作导电性弹性层的导电剂。
导电性聚合物如聚苯胺、聚吡咯和聚乙炔也可用作导电性弹性层的导电剂。
无机或有机填料和交联剂也可添加至导电性弹性层。
当充电构件与充电目标构件即电子照相感光构件彼此接触时，从避免充电构件变形的观点，导电性弹性层可优选具有60度以上且85度以下，特别地为70度以上且80度以下的Asker-C硬度。
充电构件还可优选为弹性层中间厚度大于端部厚度的所谓冠形。
表面层：
构成本发明的充电构件的表面层含有具有Si-O-B键的高分子化合物，且高分子化合物具有下式(1)表示的结构单元和下式(2)表示的结构单元。
式(1)
式(2)
BO3/2
在式(1)中，R1和R2各自独立地表示下式(3)至(6)表示的结构的任一种。
式(3)
式(4)
式(5)
式(6)
在式(3)至(6)中，R3至R7、R10至R14、R19、R20、R25和R26各自独立地表示氢原子、具有1至4个碳原子的烷基、羟基、羧基或氨基；R8、R9、R15至R18、R23、R24和R29至R32各自独立地表示氢原子或具有1至4个碳原子的烷基；R21、R22、R27和R28各自独立地表示氢原子、具有1至4个碳原子的烷氧基或烷基；n、m、l、q、s和t各自独立地表示1至8的整数，p和r各自独立地表示4至12的整数，x和y各自独立地表示0或1；星号*和双星号**各自表示分别与式(1)中的硅原子和氧原子键合的位置。
作为根据本发明高分子化合物的实例，构造高分子化合物使式(1)中的R1为式(3)表示的结构和R2为式(4)表示的结构，其部分结构示于图6A中。作为根据本发明的高分子化合物的另一个实例，将其构造为使式(1)中的R1为式(3)表示的结构和R2为式 (6)表示的结构，其部分结构示于图6B中。
根据本发明的高分子化合物具有高交联密度，因为其具有硅氧烷键与键合至硅原子的有机链部分彼此聚合的结构。因此，当由该高分子化合物组成的表面层在充电构件的弹性层上形成时，可有效避免弹性层中的任何低分子量组分渗出至充电构件表面。此外，分子中具有Si-O-B键的高分子化合物能使充电构件具有低表面自由能。表面层还可具有约为0.01μm以上且0.1μm以下，特别地为0.02μm以上且0.09μm以下的层厚度。
作为表示高分子化合物中的单元的式(1)中的R1和R2，它们可优选为选自下式(7)至(10)表示的结构的任何结构。使它们具有该结构可使表面层更强韧和耐久性更优异。特别地，各自具有下式(8)和(10)表示的醚基的结构可使表面层对弹性层的粘附改进得更多。
式(7)
式(8)
式(9)
式(10)
在式(7)至(10)中，N、M、L、Q、S和T各自独立地表示1以上且8以下的整数，x′和y′各自独立地表示0或1。
在高分子化合物中，硼原子数与硅原子数的比B/Si可优选为0.1以上且5.0以下。只要该值为0.1以上，充电构件可实质上具有充分低的表面自由能。另外，只要该值为5.0以下，表面层涂布液的涂布性能可以是稳定的。
表面层的制备：
根据本发明的高分子化合物通过使具有下式(11)表示的结构的可水解化合物和具有下式(12)表示的结构的可水解化合物进行水解和脱水缩合以获得缩合物，随后使缩合物具有的环氧基开裂以进行交联来获得。此处，可以控制在式(11)的三官能部位和式(12)的三官能部位处发生的水解和缩合程度从而控制作为膜性质的弹性模量和致密性。另外，可将式(11)中R33的有机链部分用作固化位点。这样能控制表面层的韧性和表面层对 弹性层的粘附性。还可设置R33为具有能够通过紫外线照射开环的环氧基的有机基团。这样可使固化时间比任何常规热固化性材料的固化时间短，并且可避免表面层热劣化。
式(11)
R33-Si(OR34)(OR35)(OR36) 
式(12)
B(OR37)(OR38)(OR39)
在式(11)中，R33表示选自各自具有环氧基的下式(13)至(16)表示的结构的任何结构；和R34至R36各自独立地表示烃基。在式(12)中，R37至R39也各自独立地表示烃基。
式(13)
式(14)
式(15)
式(16)
在式(13)至(16)中，R41至R43、R46至R48、R53、R54、R59和R60各自独立地表示氢原子、具有1至4个碳原子的烷基、羟基、羧基或氨基；R44、R45、R49至R52、R57、R58和R63至R66各自独立地表示氢原子或具有1至4个碳原子的烷基；R55、R56、R61和R62各自独立地表示氢原子、具有1至4个碳原子的烷氧基或具有1至4个碳原子的烷基；
R41、R42、R43和(CR44R45)n'中的至少任意两个碳原子、R46、R47、R48和(CR49R50)m'中的至少任意两个碳原子，R53和R54，以及R59和R60可各自结合以成环从而形成环烷；
n′、m′、l′、q′、s′和t′各自独立地表示1至8的整数，p′和r′各自独立地表示4至12的整数；和星号*表示与式(11)中的硅原子键合的位置。
根据本发明的高分子化合物可优选为式(11)和(12)表示的可水解化合物与下式(17)表示的可水解化合物的交联产物。在这种情形下，在合成阶段中式(11)和(12)化合物的溶解性、表面层涂布液的涂布性能和已固化的膜的物理性质可改进表面层的电性能，因此是优选的。特别地，R67是烷基的情形因为改进溶解性和涂布性能，因此是优选的。R67是苯基的情形由于有助于改进电性能，特别是体积电阻率，因此也是优选的。
式(17)
R67-Si(OR68)(OR69)(OR70) 
在式(17)中，R67表示具有1至21个碳原子的烷基或芳基，和R68至R70各自独立地表示烃基。
根据本发明的充电构件可通过在弹性层上形成含有上述水解缩合物的涂料的涂膜，之后使涂膜中含有的水解缩合物进行交联以在其中形成上述高分子化合物从而制备所得的作为表面层的膜来获得。
高分子化合物的生产例：
此处，作为高分子化合物的生产例，具体描述如何制备表面层涂布液(涂料)和如何在弹性层上形成高分子化合物以获得表面层。通过以下步骤(1)至步骤(6)生产高分子化合物。在下述步骤中，组分(A)是式(11)表示的可水解硅烷化合物，组分(B)是式(17)表示的可水解硅烷化合物和组分(C)是式(12)表示的可水解硼化合物。
(1)：调整组分(A)、(B)和(C)的摩尔比(C)/[(A)+(B)]为0.1以上且5.0以下的步骤；
(2)：混合组分(A)和(B)，然后添加组分(D)水和组分(E)醇至所得的混合物，随后加热回流以进行水解缩合的步骤；
(3)：添加组分(C)至通过进行水解缩合而获得的溶液，以进行水解缩合的步骤；
(4)：添加组分(F)光聚合引发剂，然后用醇稀释所得混合物以获得含有水解缩合物的涂布液(涂料)的步骤；
(5)：将涂布液涂布至在基体上形成的弹性层上的步骤；和
(6)：使水解缩合物进行交联反应以固化涂布液的步骤。
此外，在步骤(2)中可同时添加组分(A)、(B)和(C)。另外，关于可水解硅烷化合物，可仅使用一种组分(A)，和可组合使用 两种以上的组分(A)或两种以上的组分(B)。
式(11)中的R34至R36的烃基可包括例如，烷基、烯基和芳基。其中，优选各自具有1至4个碳原子的直链或支链烷基，进一步更优选甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基和叔丁基。
以下示出具有式(11)表示的结构的可水解硅烷化合物的具体实例：4-(1,2-环氧基丁基)三甲氧基硅烷、5,6-环氧基己基三乙氧基硅烷、8-环氧乙烷-2-基辛基三甲氧基硅烷、8-环氧乙烷-2-基辛基三乙氧基硅烷、3-环氧丙氧丙基三甲氧基硅烷、3-环氧丙氧丙基三乙氧基硅烷、1-(3,4-环氧基环己基)乙基三甲氧基硅烷、1-(3,4-环氧基环己基)乙基三乙氧基硅烷、3-(3,4-环氧基环己基)甲基氧基丙基三甲氧基硅烷和3-(3,4-环氧基环己基)甲基氧基丙基三乙氧基硅烷。
作为式(17)中的R67的烷基，优选具有1至21个碳原子的直链烷基，进一步优选具有6至10个碳原子的直链烷基。作为R67的芳基，优选苯基。R68至R70的各烃基可包括例如烷基、烯基和芳基。其中，优选具有1至4个碳原子的直链或支链烷基，进一步更优选甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基和叔丁基。
以下示出具有式(17)表示的结构的可水解硅烷化合物的具体实例：甲基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、甲基三丙氧基硅烷、乙基三甲氧基硅烷、乙基三乙氧基硅烷、乙基三丙氧基硅烷、丙基三甲氧基硅烷、丙基三乙氧基硅烷、丙基三丙氧基硅烷、己基三甲氧基硅烷、己基三乙氧基硅烷、己基三丙氧基硅烷、癸基三甲氧基硅烷、癸基三乙氧基硅烷、癸基三丙氧基硅烷、苯基三甲氧基硅烷、苯基三乙氧基硅烷和苯基三丙氧基硅烷。
当组合使用具有式(17)表示的结构的可水解硅烷化合物且R67是苯基时，可更优选与其中R67是具有6至10碳原子的直链烷 基的可水解硅烷化合物组合使用。甚至当它们的结构通过水解缩合反应改变时，其组合使用也使化合物与溶剂的相容性有所改进。
式(12)中的R37至R39烃基可包括例如烷基、烯基和芳基。其中，优选各自具有1至4个碳原子的直链或支链烷基，和进一步更优选甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基和叔丁基。
以下示出具有式(12)表示的结构的可水解硼化合物的具体实例：甲氧基硼、乙氧基硼、甲氧基乙氧基硼、正丙氧基硼、异丙氧基硼、正丁氧基硼、叔丁氧基硼和烯丙氧基硼。
组分(A)、(B)和(C)的摩尔比B/Si可优选调整为0.1以上且5.0以下，更优选0.5以上且3.0以下。这使表面层具有更低的表面自由能，并在避免任何污物附着至表面的效果方面带来更多改进。这也稳定了表面层形成用涂布液的涂布性能。
关于要添加的组分(D)水的量，基于组分(A)和(B)的摩尔数作为(D)/[(A)+(B)]值可优选为0.3以上且6.0以下。可更优选为1.2以上且1.8以下。只要该值为0.3以上，则可充分地进行缩合，并且不容易残留任何未反应的残余单体，确保具有良好的成膜性。从有效利用原料的观点，不残留任何单体的系统也是期望的。另外，只要该值在6.0以下，缩合就决不会太快进行，并且可防止缩合物变为白浊或沉淀。此外，缩合物决不会含有太多水并因此决不会有太高的极性，以便当缩合物与水和醇混合时确保良好的相容性，因此可防止缩合物变为白浊或沉淀。
作为组分(E)醇，优选使用伯醇，仲醇，叔醇，伯醇和仲醇的混合体系，或伯醇和叔醇的混合体系。特别优选使用乙醇，甲醇和2-丁醇的混合溶剂，乙醇和2-丁醇的混合溶剂，或2-丁醇和1-丁醇的混合溶剂。
作为组分(F)光聚合引发剂，优选使用路易斯酸或布朗斯特酸的鎓盐。其他阳离子聚合引发剂可包括例如硼酸盐、具有酰亚胺结构的化合物、具有三嗪结构的化合物、偶氮化合物和过氧化物。
光聚合引发剂可优选预先用溶剂如醇或酮稀释以改进与涂布液的相容性。
在各种此类阳离子聚合引发剂中，从感光度、稳定性和反应性的观点，优选芳香锍盐或芳香碘鎓盐。特别优选双(4-叔丁基苯基)碘鎓盐、具有下式(18)表示的结构的化合物(商品名：ADECAOPTOMER SP150；由Asahi Denka Kogyo K.K.可得)和具有下式(19)表示的结构的化合物(商品名：IRGACURE261；由Ciba Specialty Chemicals Inc.可得)。
式(18)
式(19)
控制如上所述合成的涂布液为具有适合于其实际涂布的浓度。在这种情况下，除了水解缩合物之外，为了改进涂布性能可使用任何适合的溶剂。此类适合的溶剂可包括例如，醇类如甲醇、乙醇和丁醇，乙酸乙酯，和酮类如甲基乙基酮和甲基异 丁基酮或任意这些的混合物。特别优选乙醇，或2-丁醇与1-丁醇的混合溶剂。
表面层的形成：
将以该方式制备的涂布液通过如利用辊涂的涂布法、浸涂法或环涂布法涂布在弹性层上以形成涂布层。用活性能量射线照射涂布层，因此涂布液中含有的水解缩合物中的阳离子可聚合基团经历开裂和聚合。这使水解缩合物分子彼此交联以达到固化，因而形成表面层。作为活性能量射线，优选紫外线。
用紫外线固化表面层不容易产生任何多余的热，并且不容易发生在加热固化时溶剂挥发过程中可能发生的任何相分离，因而获得均匀的膜状态。这能为感光构件提供均匀而稳定的电位。另外，只要通过紫外线照射进行交联反应，则弹性层因为热史可避免劣化，因此还可避免弹性层的电性能降低。
在用紫外线照射时，可用的是高压汞灯、金属卤化物灯、低压汞灯和准分子UV灯等。其中，可使用富有紫外线波长为150nm以上且480nm以下的光的紫外线源。
此处，紫外线的累积光量定义如下。
紫外线累积光量(mJ/cm2)=紫外线强度(mW/cm2)×照射时间。
紫外线累积光量可通过选择照射时间、灯输出和灯与照射目标之间的距离来控制。累积光量还可在照射时间内成梯度。
当使用低压汞灯时，可用Ushio Inc.制造的紫外线累积光量仪UIT-150-A或UVD-S254(均为商品名)测量紫外线的累积光量。当使用准分子UV灯时，也可用Ushio Inc.制造的紫外线累积光量仪UIT-150-A或VUV-S172(均为商品名)测量紫外线的累积光量。
关于在形成根据本发明的高分子化合物的过程中发生的交 联和固化反应，参照图5对其进行描述。
例如，通过水解前述作为组分(A)的3-环氧丙氧丙基三甲氧基硅烷和作为组分(C)的可水解硼化合物而获得的缩合物具有作为阳离子可聚合基团的环氧基。该水解缩合物的环氧基在阳离子聚合催化剂(图5中表示为R+X-)存在下进行环氧环的开环，并进行链式聚合反应。结果，含有BO3/2的聚硅氧烷分子彼此交联达到固化，因而形成根据本发明的高分子化合物。在图5中，n表示1以上的整数。
作为指导，表面层可优选具有0.01μm-0.1μm的厚度。该数值范围内的厚度能形成更均一的表面层。
图像形成设备：
设置有具有本发明充电构件的处理盒的电子照相设备的结构实例示意地示于图2中。
如图2所示，感光鼓1a-1d分别与显影装置4a-4d相对设置，以使其中容纳有各色调色剂的显影组件沿中间转印带6的移动方向排成一排设置。通过各显影装置在各感光鼓上形成的各色调色剂图像借助于转印辊7a-7d顺序叠加地静电转印至中间转印带上，以向其添加由黄色、品红色和青色以及黑色的四色调色剂组成的全色调色剂图像。用于在各感光鼓上形成各色调色剂图像的充电装置2a-2d、曝光装置3a-3d和显影装置4a-4d也设置在各感光鼓1a-1d周围。进一步设置具有清洁刮板的清洁单元5a-5d，在调色剂图像已转印至中间转印带后，用该清洁刮板通过摩擦收集在各感光鼓上残留的任何调色剂。
接下来描述如何操作图像形成。将借助于作为充电装置2a-2d的充电辊已经进行均匀静电充电的感光鼓1a-1d的表面通过曝光装置3a-3d用根据从主处理单元如个人计算机发出的图像数据来调制的激光束来照射，并获得对应于各色的期望的静 电潜像。利用作为其中容纳有各色调色剂的显影组件的显影装置4a-4d在显影位置处使这些潜像反转显影，并且使其作为调色剂图像可视化。这些调色剂图像在各转印位置顺序转印至中间转印带6，然后一次性转印至通过供纸装置(未示出)在规定时刻供给并通过输送装置输送的转印材料P。利用定影组件(未示出)通过加热使转印材料P上的全色调色剂图像熔融并在转印介质上永久定影，因而获得期望的全色打印图像。
此处，为了改进调色剂图像从感光鼓至中间转印带的转印效率，通常建议在各转印位置处设定有感光鼓圆周速度与中间转印带圆周速度之间的速度差的系统。根据该系统，可改进各色调色剂图像的转印效率，并且当两种以上颜色的调色剂图像叠加转印时，其可以是极有效的方法。特别是，在四色全色模式中，设定感光鼓与中间转印带之间的圆周速度差可防止任何空白区域现象以改进转印效率从而获得没有任何色调变化的良好图像。此处，空白区域现象指的是从感光鼓转印至中间转印带的调色剂图像具有不需要的空白区域的现象。
在电子照相系统彩色图像形成设备中，也可以将设备设置为不仅可以选择通过使用四色调色剂形成全色调色剂图像的全色模式，而且还可以选择通过仅使用黑色调色剂用感光鼓形成黑白图像的单色模式，并且可以从前者切换为后者。
更详细地说明，电子照相感光构件(感光鼓)如箭头所示顺时针且以规定的圆周速度(处理速度)旋转。处理速度是可变的。作为电子照相感光构件，可使用任何已知的电子照相感光构件，例如，各自具有导电性的圆筒状支承体和该支承体上设置有含有无机感光材料或有机感光材料的感光层的电子照相感光构件。另外，电子照相感光构件可进一步各自具有用于将电子照相感光构件表面充电至规定极性和电位的电荷注入层。
作为充电构件(充电装置)的充电辊以规定的压力与电子照相感光构件接触，并且在本设备中，沿顺着电子照相感光构件旋转的方向旋转。从电压施加装置仅施加规定的DC电压(在该实例中为-1,050V)至各充电辊，由此电子照相感光构件表面均匀充电处理至规定的极性和电位(在该实例中充电处理至-500V的暗区电位)。
作为曝光装置，可使用任何已知的装置，可包括例如，激光束扫描仪。对电子照相感光构件充电处理的表面进行对应于预期图像形成的图像曝光，因此电位(在该实例中为-100V的亮区电位)选择性降低(衰减)，从而在电子照相感光构件上形成静电潜像。
作为显影装置，可使用任何已知的装置。例如，该实例中的显影装置设置在其中容纳有调色剂的显影剂容器的开口处，并将各显影装置如此设置以致具有调色剂承载构件、搅拌容纳在容器中的调色剂的搅拌部和控制调色剂承载构件上调色剂涂布量(调色剂层厚度)的调色剂涂布控制构件。
显影装置使调色剂选择性附着至电子照相感光构件表面上静电潜像的曝光亮区，使静电潜像作为调色剂图像可视化；调色剂(负调色剂)保持带电(在该实例中以-350V的显影偏压)使其极性与电子照相感光构件带电极性相同。作为其显影系统，对其没有特别的限制，可使用任何现有的系统。作为现有的系统，可利用的是跳跃显影系统、接触显影系统或磁刷显影系统等。特别是，在再现全色调色剂图像的全色电子照相设备中，为了例如改善调色剂飞散的目的，优选接触显影系统。
作为接触显影系统中使用的调色剂承载构件，考虑到确保接触稳定性，可优选使用具有弹性的化合物，如橡胶。例如，其可包括包含由金属等制成的支承体和设置在支承体上的被赋 予导电性的弹性层的显影辊。对于该弹性层，通过弹性材料发泡成型获得的发泡体可用作弹性材料。可进一步在弹性层上设置层或可进行表面处理。表面处理可包括利用紫外线或电子射线的表面加工，和使化合物等附着至表面或浸渍入表面层内的表面改性。
作为中间转印带，可使用任何已知的装置，可示例为由树脂和其中已引入导电性细颗粒等从而控制其具有中等电阻的弹性体制成的导电性带。
作为转印装置的转印辊，可使用任何已知的装置，可示例为包括由金属等制成的支承体且其上覆有已控制其具有中等电阻的弹性树脂层的转印辊。转印辊在规定压力下与电子照相感光构件接触，使中间转印带插入它们之间以形成转印辊隙(transfer nip)，并以与电子照相感光构件的旋转圆周速度基本上相同的圆周速度沿顺着电子照相感光构件旋转的方向旋转。还可由转印偏压施加装置施加极性与调色剂的带电特性相反的转印电压。
通过刮板型的清洁装置等从电子照相感光构件表面收集残余物如转印残余调色剂。之后，利用充电辊对电子照相感光构件再次静电充电以在其上重复形成图像。
该实例的电子照相设备可为具有处理盒(未示出)的设备，在所述处理盒中，电子照相感光构件和充电辊是用支承构件如树脂成型体一体化支承的，且将所述处理盒设置为可拆卸地安装至电子照相设备主体。其还可进一步为其中不仅电子照相感光构件和充电辊，而且显影装置和清洁装置也一起一体化支承的处理盒。
实施例
以下通过具体实施例更详细地描述本发明。在以下实施例 中，“份”指的是“质量份”。
实施例1
(1)导电性弹性层的形成和评价：
利用6升加压捏合机(使用的装置：TD6-15MDX；Toshin Co.,Ltd.制造)以填充率为70体积%和叶片转数为30rpm混合表1示出的材料24分钟从而获得未硫化的橡胶组合物。向174质量份该未硫化的橡胶组合物添加4.5份四苄基秋兰姆二硫化物(商品名：SANCELER TBzTD；由Sanshin Chemical Industry Co.,Ltd.可得)作为硫化促进剂和1.2份硫磺作为硫化剂。然后，利用辊径为12英寸的开炼机以前辊转数为8rpm和后辊转数为10rpm以及辊隙为2mm，进行左右切削共20次将这些物质混合。之后，改变辊隙为0.5mm进行薄通(tailing)10次以获得弹性层用捏合产物1。
表1
接下来，准备由钢制成的直径为6mm且长度为252mm的圆柱形基体(已用镍镀表面；下文称为“芯轴”)。然后，用含有金 属和橡胶的热硬化性粘合剂(商品名：METALOC U-20，由Toyokagaku Kenkyusho Co.,Ltd.可得)涂布该芯轴的夹持圆柱面轴向中央向两侧延伸115.5mm的区域(沿轴向总宽度为231mm的区域)。在80°C下干燥由此形成的湿涂膜30分钟，之后在120°C下进一步干燥1小时。
通过利用十字头的挤出将捏合产物1与具有粘合剂层的上述芯轴同时挤出，同时围绕芯轴同轴且以直径8.75mm至8.90mm的圆筒形成形。获得的挤出产物切去其端部以生产导电性弹性辊，其芯轴外周用未硫化的导电性弹性层覆盖。作为挤出机，使用圆筒直径为70mm且L/D为20的挤出机，在挤出时控制其头、圆筒和螺杆温度为90°C。
接下来，通过使用具有设定在不同温度下的两个区的连续加热炉来硫化上述辊。第一区温度设为80°C，辊在30分钟内经过该区，第二区温度设为160°C且辊也在30分钟内经过该区，从而获得硫化的导电性弹性辊。
接下来，该导电性弹性辊切去导电性弹性层部分(橡胶部分)的两端以使导电性弹性层部分沿轴向的宽度为232mm。之后，用旋转砂轮(工作转数：333rpm；砂轮转数：2,080rpm；研磨时间：12秒)研磨导电性弹性层部分的表面。因此获得导电性弹性辊1(表面已研磨的导电性弹性辊)，其为端部直径为8.26mm和中央部直径为8.50mm的冠形，表面十点平均粗糙度Rz为5.5μm，振摆为18μm和硬度(Asker-C)为73度。
根据JIS B6101测量十点平均粗糙度Rz。用MitutoyoCorporation制造的高精度激光测量仪LSM-430V测量振摆。具体而言，用测量仪测量外径，并且将最大外径值与最小外径值之间的差当作外径差振摆。在5个点进行该测量，并且将5个点的外径差振摆的平均值当作测量目标的振摆。在负载为1,000g的 条件下在测量环境为25°C/55%RH时测量Asker-C硬度，使Asker-C硬度仪的压针(Koubunshi Keiki Co.,Ltd.制造)与测量目标表面接触。
(2)缩合物的合成和评价：
缩合物1
接下来，通过以下两阶段反应合成缩合物1。
合成1：第一阶段反应
混合下表2示出的组分，之后在室温下搅拌30分钟。随后，通过使用油浴在120°C下加热回流20小时以获得可水解硅烷化合物的缩合物中间体1。该阶段的合成浓度以固成分计(当假定可水解化合物以其整体经历了脱水缩合时，与溶液总重量的质量比)为28.0质量%。
表2
合成2：第二阶段反应
接下来，向137.21g缩合物中间体1添加39.59g(0.272mol)乙氧基硼(下文简称“B-1”；由Gelest,Inc.可得;)，并且将这些在室温下搅拌3小时以获得可水解硅烷化合物和可水解硼化合物的液体缩合物。将其指定为缩合物1。此外，以750rpm的速度进行一系列的搅拌。另外，缩合物1中硼原子与硅原子的数量 比B/Si为1.0。
评价(1)：缩合物1的稳定性。 
根据以下评价标准评价缩合物1的稳定性。 
A：即使放置一个月后，缩合物仍然既不是白浊也不沉淀。
B：缩合物放置约两周后开始呈现白浊。
C：缩合物放置约一周后，开始呈现少许白浊。
D：缩合物在合成期间，开始呈现少许白浊或沉淀。
评价(2)：缩合物1的固化膜中式(1)结构的确认。 
通过29Si-NMR和13C-NMR测量确认式(1)表示的结构是否存在(使用的装置：JMN-EX400，JEOL Ltd.制造)。如何制备测量样品描述如下。
首先，用甲醇稀释作为阳离子光聚合引发剂的芳香族锍盐(商品名：ADECAOPTOMER SP150；由Asahi Denka Kogyo K.K.可得)至10质量%。然后，添加0.7g阳离子聚合引发剂的乙醇稀释溶液至25g缩合物1中。将其指定为缩合物1-1。通过向其添加通过混合等量的乙醇和2-丁醇而制备的溶剂来控制缩合物1-1至具有7.0质量%的理论固体物质浓度，从而获得涂布液1。接下来，旋涂该涂布液1至厚度为100μm的铝制片的脱脂表面。将1H-D7(商品名；Mikasa Co.,Ltd.制造)用作旋涂装置。在转数为300rpm和旋转时间为2秒的条件下进行旋涂。
然后，将涂布液1的涂膜(coating)干燥，之后用波长为254nm的紫外线照射所形成的涂膜以固化涂膜。用来照射涂膜的紫外线的累积光量为9,000mJ/cm2。在用紫外线照射时，使用低压汞灯(Harison Toshiba Lighting Corporation制造)。
接下来，从铝制片剥离所形成的固化膜，然后通过使用玛瑙制的研钵来粉碎，从而制备NMR测量用的样品。通过使用核磁共振装置(商品名；JMN-EX400，JEOL Ltd.制造)来测量该样 品的29Si-NMR光谱和13C-NMR光谱。
29Si-NMR光谱示于图3中。在同一图中，一起显示通过光谱波形分离形成的峰。在-64ppm至-74ppm附近的峰显示为T3组分。此处，T3组分显示处于其中与有机官能团具有一个键的Si通过O与其他原子(Si和B)具有三个键，即，–SiO3/2的状态。由图3可确认，当具有含环氧基的有机链的可水解硅烷化合物缩合时，有以–SiO3/2的状态存在的物质。
13C-NMR光谱还示于图4中。显示开环前的环氧基的峰出现在44ppm和51ppm附近，而开环聚合后的峰出现在69ppm和72ppm附近。由图4可确认，几乎没有残留任何未开环的环氧基的情况下进行聚合。
由上述29Si-NMR和13C-NMR测量确认缩合物1的固化产物中存在式(1)表示的结构。 
(3)充电辊1-1至1-7的生产和评价：
表面层形成用涂料1-1至1-7的制备
通过使用1:1(质量比)乙醇/2-丁醇混合溶剂控制缩合物1-1至各自具有固体物质浓度为1.0质量%、0.1质量%、0.2质量%、0.5质量%、3.5质量%、4.0质量%和5.0质量%，以获得表面层形成用涂料。这些表面层形成用涂料指定为表面层形成用涂料1-1至1-7。
表面层的形成：
接下来，对于导电性弹性辊1(已表面研磨过的导电性弹性辊)，准备7个辊并通过环涂布(喷射速率：0.120ml/s；环形头速度：85mm/s；总输送量：0.130ml)在这些导电性弹性辊1的导电性弹性层的外周分别涂布表面层形成用涂料1-1至1-7。将由此形成的涂膜(coating)各自用波长为254nm的紫外线以累积光量为9,000mJ/cm2的方式照射以固化涂膜(coating)(通过交联 反应固化)从而形成表面层。通过使用低压汞灯(HarisonToshiba Lighting Corporation制造)进行紫外线照射。由此，获得充电辊1-1至1-7。
评价(3)：涂布性能。 
通过目视观察及根据以下标准来判断各充电辊表面的外观如何。评价结果在表6中示出。
A：在充电辊表面上根本看不到任何不良不良涂布。
B：在充电辊的部分表面上出现不良涂布。
C：在充电辊表面的整个区域上均出现不良涂布。
评价(4)：表面层厚度的测量。
测量在各充电辊上形成的表面层的层厚度。观察通过切断充电辊得到的截面以进行测量，通过使用扫描透射电子显微镜(商品名：HD-2000；Hitachi High-Technologies Corporation制造)来观察。
评价(5)：Si-O-B键的鉴定。
通过使用ESCA(商品名；QUANTUM2000，Ulvac-Phi,Inc.制造)来鉴定表面层中Si-O-B键的存在。更具体而言，使辊表面用X射线照射以评价表面层中的键合方式。由检出的O1s光谱鉴定出各充电辊的表面层中Si-O-B键合的存在。
评价(6)：表面自由能的测量。
为计算充电辊1的表面自由能，用接触角仪(商品名：CA-XROLL型，Kyowa Interface Science Co.,Ltd.制造)测量充电辊1对如下表3所示表面自由能的3个组分已知的3种探测液体的接触角。在以下条件下测量接触角θ。
测量：液滴法(真圆拟合)。
液体量：1μl。
液滴冲击识别：自动。
图像处理：算法-无反射(Algorithm-nonreflection)。
图像模式：帧。
阈值：自动。 
以下L和S分别表示液体和固体的对应项。
γd：色散力项。 
γp：极性项。 
γh：氢键项。 
表3
单位：mJ/m2(20°C)
在上述表3中，γLd、γLp和γLh分别表示色散力项、极性项和氢键项。
将上述表3中3种探测液体的表面自由能的各项(γLd、γLp、γLh)和通过测量得出的与各探测液体的接触角θ代入以下计算式(1)中的那些以得到3个方程式，并且求解三元联立方程式，从而计算γSd、γSp和γSh的值。然后，将γSd、γSp和γSh的值的和看作表面自由能(γ总)。本发明的充电构件可优选具有大于25mJ/m2且35mJ/m2以下的总表面自由能(γ总)。
计算式(1)
γ L d × γ S d + γ L p × γ S p + γ L h × γ S h = γ L ( 1 + cos θ ) 2
评价(7)和(8)：充电辊运行性能的评价。
按以下方式评价充电辊1的运行性能。首先，准备激光束打印机(商品名：HP彩色激光喷射4700打印机；Hewlett-PackardCo.制造)作为电子照相设备。该激光束打印机纵向输送A4尺寸纸张。
充电辊1置于上述激光束打印机的处理盒内，该处理盒置于激光束打印机内。
使用该激光束打印机并且在低温低湿环境(温度15°C/湿度10%RH)下，在9,000纸张上形成由4点尺寸字母表的字母“E”组成的、在A4尺寸纸上以1%打印百率打印的图像，随后在一张纸上形成实黑图像。此处，这些电子照相图像以称为间歇模式的方式形成，所述间歇模式中电子照相感光构件的旋转每输出2张纸停止7秒。间歇模式的图像输出产生比连续形成电子照相图像的情形高很多倍的充电构件与电子照相感光构件间的摩擦，因此可称其为更苛刻的充电辊评价条件。此处，以速度(处理速度)为164mm/sec形成电子照相图像。
-评价(7)
目视观察由此获得的实黑图像以根据以下标准作出评价。
A：在图像上看不到由充电辊表面污物造成的任何条纹。
B：在图像两端部分3cm内的区域处的图像上看到由充电辊表面污物造成的轻微条纹。
C：在图像两端部分大于3cm且5cm以下的区域处的图像上看到由充电辊表面污物造成的轻微条纹。
D：在图像两端部分大于3cm且5cm以下的区域处的图像上看到由充电辊表面污物造成的清晰条纹。
-评价(8)
从已完成如上所述在9,001张纸上形成电子照相图像的激光束打印机拆卸处理盒，并从该处理盒取出充电辊1，目视观 察充电辊1表面污染的程度以根据以下标准作出评价。
A：目视看不到任何污物。
B：仅在辊端部分看到轻微的污物。
C：仅在辊端部分看到污物。
D：在整个辊上均看到污物。
对于在评价(3)中评价为“B”的充电辊，将其评价为“B”，因为难以将由使用表面层形成用涂料的不良涂布造成的不良外观与伴随图像形成的表面污物区分开来。
实施例2-39
缩合物2-17的制备：
除了如表4所示配制它们的组分之外，以与实施例1中的缩合物中间体1相同的方式制备缩合物中间体2-9。关于表4中所指出的组分(A)和(B)的代号EP-1至EP-5以及He和Ph的细节在表6中示出。
表4
除了如表5所示配制它们的组分之外，以与实施例1中的缩合物1相同的方式制备缩合物2-9。对于获得的缩合物，以与实施例1中所述的评价(1)和评价(2)相同的方式评价它们。关于表5中组分(C)的细节，即，可水解硼化合物的代号B-1至B-3的细节在表6中示出。
表5
表6
缩合物1-17的评价(1)和评价(2)结果在表7中示出。
表7
充电辊2和3的生产
除了使用缩合物2之外，以与实施例1相同的方式制备表面层形成用涂料2-1至2-5。分别控制这些表面层形成用涂料至固体物质浓度为0.1质量%、0.2质量%、1.0质量%、4.0质量%和5.0质量%。通过使用缩合物3同样制备表面层形成用涂料3-1至3-5。
除了分别使用上述涂料之外，以与实施例1相同的方式生产充电辊2-1至2-5和3-1至3-5。对获得的充电辊进行评价(3)-(7)。
充电辊4-7
除了使用缩合物4之外，以与实施例1相同的方式制备表面层形成用涂料4-1至4-3。控制这些表面层形成用涂料至固体物质浓度分别为0.5质量%、1.0质量%和3.5质量%。通过分别使用缩合物5-7同样制备表面层形成用涂料5-1至5-3、6-1至6-3和7-1至7-3。
除了分别使用上述涂料之外，以与实施例1相同的方式生产充电辊4-1至4-3、5-1至5-3、6-1至6-3和7-1至7-3。对获得的充电辊进行评价(3)-(7)。
充电辊8-17
除了分别使用缩合物8-17之外，以与实施例1相同的方式制备表面层形成用涂料8-17。控制这些涂料各自具有固体物质浓度为1.0质量%。
除了分别使用上述涂料之外，以与实施例1相同的方式生产充电辊8-17。对获得的充电辊进行评价(3)-(7)。
根据这些实施例的上述充电辊的评价(3)-(8)的结果在表8中示出。
表8
比较例1
比较用缩合物18的制备：
将根据实施例2的缩合物中间体2作为比较用缩合物18进行评价(1)。此外，不进行评价(2)，因为该比较用缩合物18在原料中没有使用任何可水解硼化合物。
充电辊18的生产
除了使用缩合物18之外，以与实施例1中的表面层形成用涂料1-1相同的方式制备表面层形成用涂料18。除了使用该涂料之外，以与实施例1中的充电辊1相同的方式生产充电辊18。对获得的充电辊进行评价(3)、(4)、(6)和(7)。不进行评价(5)，因为在缩合物原料中没有使用任何可水解硼化合物。
比较例2
比较用缩合物19的制备：
如下表9所示，不使用组分(A)和(B)，仅通过水解组分(C)来制备比较用缩合物19，并进行评价(1)。
表9
充电辊19的生产
除了使用上述缩合物19并且不使用任何阳离子光聚合引发剂之外，以与实施例1中的表面层形成用涂料1-1相同的方式制备表面层形成用涂料19。除了使用该涂料之外，以与实施例1中的充电辊1相同的方式生产充电辊19。此处，形成于导电性弹性辊上的缩合物19的涂膜通过在250°C的温度下加热1小时来固化。对由此获得的充电辊19进行实施例1中的评价(3)-(7)，条件是：因为表面层形成用涂料19的涂布性能差以致于难以形 成膜而不进行评价(4)、(6)至(8)，以及因为在原料中没有使用任何可水解硼化合物而不进行评价(5)。
比较用缩合物18和19的评价(1)的结果和充电辊18和19的评价(3)、(4)和(6)至(8)的结果在下表10中示出。
表10
附图标记说明
101基体
102导电性弹性层 
103表面层
1a至1d电子照相感光构件
2a至2d充电构件(充电辊)
3a至3d图像曝光装置
4a至4d显影装置
5a至5d清洁装置
6中间转印带 
7a至7d转印构件(转印辊)
P转印材料
本申请要求2010年9月30日提交的日本专利申请2010-221810的优先权，将其整体引入本文作为参考。

Claims (8)

1.一种充电构件，其包括基体、弹性层和表面层；其中，所述表面层包含高分子化合物，所述高分子化合物具有：Si-O-B键；和
下式(1)表示的结构单元和下式(2)表示的结构单元：
式(1)
式(2)
BO3/2
其中，在式(1)中，R1和R2各自独立地表示下式(3)至(6)表示的结构的任一种：
式(3)
式(4)
式(5)
式(6)
其中，在式(3)至(6)中，R3至R7、R10至R14、R19、R20、R25和R26各自独立地表示氢原子、具有1至4个碳原子的烷基、羟基、羧基或氨基；R8、R9、R15至R18、R23、R24和R29至R32各自独立地表示氢原子或具有1至4个碳原子的烷基；R21、R22、R27和R28各自独立地表示氢原子或者具有1至4个碳原子的烷氧基或烷基；n、m、l、q、s和t各自独立地表示1至8的整数，p和r各自独立地表示4至12的整数，x和y各自独立地表示0或1；星号*和双星号**各自表示分别与式(1)中的硅原子和氧原子键合的位置。
2.根据权利要求1所述的充电构件，其中式(1)中的R1和R2是选自下式(7)至(10)表示的结构的任何结构：
式(7)
式(8)
式(9)
式(10)
其中，在式(7)至(10)中，N、M、L、Q、S和T各自独立地表示1以上且8以下的整数，x′和y′各自独立地表示0或1；星号*和双星号**各自表示分别与式(1)中的硅原子和氧原子键合的位置。
3.根据权利要求1所述的充电构件，其中，在所述高分子化合物中，硼原子数与硅原子数的比B/Si为0.1以上且5.0以下。
4.根据权利要求1所述的充电构件，其中所述高分子化合物是具有下式(11)表示的结构的可水解化合物与下式(12)表示的可水解化合物的交联产物：
式(11)
R33-Si(OR34)(OR35)(OR36)
式(12)
B(OR37)(OR38)(OR39)
其中，在式(11)中，R33表示选自各自具有环氧基的下式(13)至(16)表示的结构的任何结构；R34至R36各自独立地表示烃基；和在式(12)中，R37至R39各自独立地表示烃基：
式(13)
式(14)
式(15)
式(16)
其中，在式(13)至(16)中，R41至R43、R46至R48、R53、R54、R59和R60各自独立地表示氢原子、具有1至4个碳原子的烷基、羟基、羧基或氨基；R44、R45、R49至R52、R57、R58和R63至R66各自独立地表示氢原子或具有1至4个碳原子的烷基；R55、R56、R61和R62各自独立地表示氢原子、具有1至4个碳原子的烷氧基或具有1至4个碳原子的烷基；n′、m′、l′、q′、s′和t′各自独立地表示1至8的整数，p′和r′各自独立地表示4至12的整数；星号*表示与式(11)中的硅原子键合的位置。
5.根据权利要求1所述的充电构件，其中所述高分子化合物是下式(11)和(12)表示的可水解化合物与下式(17)表示的可水解化合物的交联产物：
式(11)
R33-Si(OR34)(OR35)(OR36)
式(12)
B(OR37)(OR38)(OR39)
其中，在式(11)中，R33表示选自各自具有环氧基的下式(13)至(16)表示的结构的任何结构；R34至R36各自独立地表示烃基；在式(12)中，R37至R39各自独立地表示烃基：
式(13)
式(14)
式(15)
式(16)
其中，在式(13)至(16)中，R41至R43,、R46至R48、R53、R54、R59和R60各自独立地表示氢原子、具有1至4个碳原子的烷基、羟基、羧基或氨基；R44、R45、R49至R52、R57、R58和R63至R66各自独立地表示氢原子或具有1至4个碳原子的烷基；R55、R56、R61和R62各自独立地表示氢原子、具有1至4个碳原子的烷氧基或具有1至4个碳原子的烷基；n'、m'、l'、q'、s'和t'各自独立地表示1至8的整数，p'和r'各自独立地表示4至12的整数；星号*表示与式(11)中的硅原子键合的位置；
式(17)
R67-Si(OR68)(OR69)(OR70)
其中，在式(17)中，R67表示具有1至21个碳原子的烷基或芳基，R68至R70各自独立地表示烃基。
6.一种用于生产根据权利要求4所述的充电构件的方法；所述方法包括以下步骤：
在所述弹性层上形成含有由式(11)表示的可水解化合物与式(12)表示的可水解化合物合成的水解缩合物的涂料的涂膜；和
使所述水解缩合物的环氧基开裂以进行所述水解缩合物的交联从而形成所述表面层。
7.一种用于生产根据权利要求5所述的充电构件的方法；所述方法包括以下步骤：
在所述弹性层上形成含有由式(11)表示的可水解化合物、式(12)表示的可水解化合物与式(17)表示的可水解化合物合成的水解缩合物的涂料的涂膜；和
使所述水解缩合物的环氧基开裂以进行所述水解缩合物的交联从而形成所述表面层。
8.一种电子照相设备，其包括电子照相感光构件和与所述电子照相感光构件接触设置的充电构件；其中，
所述充电构件是根据权利要求1所述的充电构件。
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