CN103120623A - 抗牙本质敏感口腔清洁护理制剂 - Google Patents

Abstract

本发明属于口腔清洁护理用品领域，特别适用于减轻人体牙本质敏感，本发明所述的抗牙本质敏感口腔清洁护理用品，主要为：牙膏、牙粉、口腔用贴膜剂、口腔用软膏剂、口腔用糊剂等，其所述的抗牙本质敏感口腔清洁护理用品中含有微米级羟基磷灰石材料复配钾离子，由于微米级羟基磷灰石在牙本质的牙小管空隙中形成稳定的结晶状羟基磷灰石沉积层，从而发生封闭牙小管的作用，产生迅速且长期地降低牙本质过敏现象；复配的钾离子，可以阻止牙髓神经纤维的去极化作用，使牙神经麻痹，降低牙神经的敏感作用。上述双重作用途径同时发挥效果，比两种单一物质中任何一种单独使用都带来更好的抗牙本质敏感作用，本发明使用方便，经临床实验证明效果非常好。

Description

抗牙本质敏感口腔清洁护理制剂

技术领域

本发明属于口腔清洁护理用品领域，特别适用于减轻人体牙本质敏感的制剂。 

技术背景

牙本质敏感为口腔常见病和多发病，在全球35岁以上人群中，80%以上的人存在牙本质过敏现象，牙本质过敏的主要机理是由于牙釉质的损伤及牙龈萎缩等原因导致牙本质外露，外露的牙本质在受到外界冷、热、酸、甜、压力等的刺激下，牙小管中生物液压发生变化，这种压力的变化传递到与牙小管相连的牙神经，使人们感到疼痛、酸胀等不同程度的牙齿不适反应。 

发明内容

本发明的目的旨在于克服现有技术的缺陷，提供一种能够减轻乃至解决牙本质敏感现象，防止由于外界刺激给人们带来的不适和痛苦而提供便捷有效的抗牙本质敏感口腔清洁护理制剂。 

本发明所述的抗牙本质敏感口腔清洁护理制剂，它是由重量比为3%-25%的微米级羟基磷灰石材料、1%-5%钾离子和余量的辅料组成。 

所述的微米级羟基磷灰石的直径范围是0.5um-5um。 

所述的钾离子为含有钾离子的盐类。 

所述的含有钾离子的盐类为硝酸钾。 

本发明所述的抗牙本质敏感口腔清洁护理用品为含有微米级羟基磷灰石材料复配钾离子的牙膏。 

本发明所述的抗牙本质敏感口腔清洁护理用品为含有微米级羟基磷灰石材料复配钾离子的牙粉。 

本发明所述的抗牙本质敏感口腔清洁护理用品为含有微米级羟基磷灰石材料复配钾离子口腔贴膜剂。 

本发明所述的抗牙本质敏感口腔清洁护理用品为含有微米级羟基磷灰石材料复配钾离子软膏剂。 

本发明所述的抗牙本质敏感口腔清洁护理用品为含有微米级羟基磷灰石材料复配钾离子的口腔用糊剂。 

本发明中由于微米级羟基磷灰石在牙本质的牙小管空隙中形成稳定的结晶状羟基磷灰石沉积层，从而发生封闭牙小管的作用，产生迅速且长期地降低牙本质过敏现象；复配的钾离子，可以阻止牙髓神经纤维的去极化作用，使牙神经麻痹，降低牙神经的敏感作用。上述双重作用途径同时发挥效果，比两种单一物质中任何一种单独使用都带来更好的抗牙本质敏感作用。本发明使用方便，经临床实验证明效果非常好。 

下面通过试验对本发明所述的产品效果进行进一步的阐述： 

一、 体外离体牙的牙小孔封闭试验：

试验目的：通过模拟刷牙的方式，利用本发明技术制成的牙膏对已暴露的牙小孔的离体人牙进行刷牙试验，观察其对牙小孔的封闭效果，从而评价该技术的可行性和科学性。

1、试验材料： 

1.1  2号牙膏由硝酸钾及其他牙膏辅料（无微米级羟基磷灰石）制成，3号牙膏由微米级羟基磷灰石及其他牙膏辅料（无硝酸钾）制成，4号牙膏由微米级羟基磷灰石和硝酸钾及其他牙膏辅料制成。

1.2  扫描电镜（扫描电镜为日立公司，型号：S3400N）、普通尖毛牙刷。 

2、试验方法： 

2.1 将收集到的离体牙于75%酒精中浸泡1小时进行消毒处理，再进行高温高压灭菌处理后备用。

2.2 离体牙牙小孔暴露处理 

将经过消毒、灭菌后的牙齿用树脂材料进行包埋，然后进行打磨、抛光、冲洗，干燥，于扫描电镜下检视牙小孔是否暴露，直至清晰暴露后，冲洗、干燥后进行喷金处理，进行正式电镜扫描，扫描结果见图1，图3，图5。

2.3 模拟刷牙 

首先将处理的牙齿分为三组，第1组用单纯含硝酸钾2号牙膏，第2组用单纯含羟基磷灰石3号牙膏，第3组用本发明技术制成的羟基磷灰石加硝酸钾4号牙膏，对干燥喷金的离体牙进行模拟刷牙，每次刷试3分钟，间隔2小时，再进行第二次刷试，共计刷试12次，每次刷完后用水缓缓将多余的试验样品洗净，自然放置，待进行下次刷试，至12次刷试完成后，自然放置干燥备用。

2.4 将2.3中自然干燥的离体牙进行喷金处理，然后进行正式电镜扫描，扫描结果见图2，图4，图6。 

3、实验结果 

3.1 图1为刷牙前电镜扫描图，图2为用2号牙膏-单纯含硝酸钾的牙膏刷试后电镜扫描图，对比图1和图2；

3.2  图3为刷牙前电镜扫描图，图4为3号牙膏-单纯含羟基磷灰石的牙膏刷试后电镜扫描图，对比图  3和图4；                                                            

3.3  图5为刷牙前电镜扫描图，图6为4号牙膏-羟基磷灰石+硝酸钾牙膏刷试后电镜扫描图，对比图5和图6；

结果分析：从以上3组对比图片可以看出，单纯含硝酸钾的牙膏对牙小孔没有产生填塞作用；单纯含羟基磷灰石及含羟基磷灰石与硝酸钾组合物的牙膏对牙小孔有很好的填塞作用，试验结果证实微米级羟基磷灰石，对开放的牙小孔有良好的封闭作用。

3.4牙小孔的孔径见图7：牙小孔的直径大约在2-4um之间。 

二、抗牙本质敏感临床观察 

试验目的：通过对4组产品在抗牙本质敏感方面的临床效果观察，进一步确认该发明在实际应用过程中所产生的作用。

1、临床试验产品： 

试验产品：2号牙膏， 3号牙膏，4号牙膏

阴性对照产品：1号牙膏 不含有效成分的空白对照牙膏。

2、研究方法： 

本研究为随机、双盲、对照、平行的临床研究。

首先由研究者向受试者讲清试验目的、研究细节。受试者填写自愿同意书后，参加口腔软组织及硬组织检查，触觉和冷空气刺激检查，按纳入和排除标准决定受试者是否入选。 

3、纳入标准： 

a) 全身健康状况良好，在试验期间可随时参加检查；

b) 至少有1个罹患牙本质敏感的牙齿，对10g～ 50g的触觉刺激敏感，和/或冷空气刺激计数值≥2；

c) 女性不得处于妊娠期和哺乳期内；

d) 参加研究前一个月没有使用下列药物：抗惊厥药、抗组织胺药、抗忧郁药物、镇静剂，安定剂；

e) 没有使用其它抗牙本质敏感牙膏，没有同时参加其它类似试验研究。

4 、排除标准： 

a) 受检者有严重的口腔疾病、慢性病或对试验产品有过敏史；

b) 牙周病进展期或者过去一年内接受过牙周治疗，包括牙周手术；

c) 敏感牙齿的松动度大于1；

d) 牙齿有大面积充填体或冠、疑有牙髓炎、龋病、釉质隐裂、可摘局部义齿的基牙；

e) 对口腔保健用品或其成分有过敏史或有特异质反应。

f) 对牙膏及其成分过敏； 

在基线时，根据Yeaple 电子压力敏感探诊记数和Schiff冷空气敏感指数均数、性别、吸烟习惯将其随机地分为测试牙膏组，每次使用牙膏的长度应覆盖整个牙刷刷头,每天刷牙两次，每次1分钟。试验用的牙刷、牙膏不能与其他人分享。受试者保持平时的其他口腔卫生习惯，日常饮食及吸烟等习惯。试验期间受试者只使用试验提供的牙膏和牙刷，而不能使用其他的漱口液、牙线、牙签等。临床检查于基线、第4周及第8周进行，每个指标由同一名检查者完成。

5、临床检查指数： 

5．1探诊敏感性的评价

使用一根被校准的型号为2000A Yeaple 电子压力敏感探针(Yeaple 研究公司, Pittsford, NY) 。该仪器可以定量测量所加在牙面上的压力(克)。测试敏感性时, 探针接触被选定牙的颊表面暴露的牙质，放在牙釉质本质交界处，使用最初预先设定10 克力量探测，随后每次增加10 克力, 直到受试验对象表明有不舒服的感觉，最大力量为80克。探诊力的数值高说明牙敏感性水平低。

5.2冷空气吹喷敏感性的评价 

使用牙科综合治疗台的气枪在离开敏感牙齿1cm距离吹喷1秒，空压机压力为55-65p.s.i.，吹气温度为19-21℃，吹气时将手指放在邻牙以避免影响结果的准确性。用Schiff冷空气敏感指数评价，计分如下: 0 = 牙及受试者对空气刺激不反应; 1 =牙及受试者对空气刺激有反应, 但不请求中止刺激;2 =牙及受试者对空气刺激有反应, 请求中止刺激或去除刺激;3 =牙及受试者对空气刺激有反应, 刺激导致疼痛，请求停止。该参数低的记分表示敏感性减少。

6、统计分析方法： 

本研究获得的数据采用SPSS16.0统计软件的ANOVA及t检验进行统计分析，采用双侧检验，检验水准α为0.05。对人口特征值和产品副反应进行分组统计。

7、参与试验人群情况： 

155名受试者参加基线检查，140名受试者完成了全部共8周的研究。共有15名受试者中途退出，其数据未纳入统计分析。受试者中途退出的原因与本研究产品无关。

参与本试验人群的基本情况如表1所示： 

 表1   参与试验人群的基本情况

8、临床检查结果：

8．1探诊敏感性的评价

参加本研究的受试者的基线、第4周、第8周检查的情况见表2。基线检查中，各组的探诊敏感性指数均数间无统计学差异。第4周时，试验组2和试验组3与阴性对照组间比较无统计学差异。试验组4与阴性对照组间比较显示出显著的统计学差异；第8周探诊敏感性记分，试验组2和试验组3与阴性对照组间比较均显示出显著的统计学差异，试验组4与阴性对照组间比较显示出非常显著的统计学差异。

表2      探诊敏感性的评价总结，即 Yeaple 探针检查 

* P＜0.05   ** P＜0.001

第四周，组4较组1探诊敏感值均数（g）降低14.08%。

第八周，组2较组1探诊敏感值均数（g）降低10.83%；组3较组1探诊敏感值均数（g）降低10.93%；组4较组1探诊敏感值均数（g）降低16.57%。 

8．2 冷空气吹喷敏感性的评价 

参加本研究的受试者的基线、第4周、第8周检查的情况见表3。基线检查中，各组的冷空气吹喷敏感性指数均数间无统计学差异。第4周冷空气吹喷敏感性指数，试验组2和试验组3与阴性对照组间比较无统计学差异。试验组4与阴性对照组间比较显示出显著的统计学差异；第8周冷空气吹喷敏感性指数，试验组2和试验组3与阴性对照组间比较无统计学差异，试验组4与阴性对照组间比较显示出显著的统计学差异。

表3   冷空气吹喷敏感性评价总结，即Schiff Thermal Scale检查 

* P＜0.05

第四周，组4较组1冷空气吹喷敏感性计数降低13.93%。

第八周，组4较组1冷空气吹喷敏感性计数降低16.23%. 

9、研究结论

临床研究表明，按中华人民共和国卫生部颁布WS/T326.4-2110牙膏功效评价第4部分：抗牙本质敏感评价标准判定，在4周时，使用4号牙膏与1号对照牙膏相比，在探针敏感性和冷空气吹喷敏感性试验方面组间均具有统计学显著性差异（P<0.05）；在8周时，使用4号牙膏与1号对照牙膏相比，在探针敏感性和冷空气吹喷敏感性试验方面组间均具有统计学显著性差异：分别为P<0.001、P<0.05，同时与1号对照牙膏相比探诊敏感值均数（g）降低16.57%，冷空气吹喷敏感性降低16.23%，说明4号牙膏具有非常好的抗牙本质敏感作用。

2号牙膏和3号牙膏与1号对照牙膏相比，在探针敏感性试验方面组间虽具有统计学显著性差异（P<0.05），但冷空气吹喷敏感性试验方面无统计学差异。故说明单纯加入羟基磷灰石或硝酸钾虽有一定的抗牙本质敏感效果。但微米级羟基磷灰石材料复配钾离子，比两种单一物质中任何一种单独使用，将带来更好的抗牙本质敏感作用。 

临床试验产品在本临床研究中未观察到副作用。 

附图说明

图1为本发明实验中牙小孔电镜扫描图。 

图2为本发明实验中用单纯含硝酸钾2号牙膏洗刷后牙小孔电镜扫描图。 

图3为本发明实验中牙小孔电镜扫描图。 

图4为本发明实验中用单纯含羟基磷灰石3号牙膏洗刷后牙小孔电镜扫描图。 

图5为本发明实验中牙小孔电镜扫描图。 

图6为本发明实验中用本发明技术制成的羟基磷灰石加硝酸钾4号牙膏洗刷后牙小孔电镜扫描图。 

图7为牙小孔的孔径示意图。 

具体实施方法

本发明所述的牙膏可以制成多种类型的牙膏，包括碳酸钙型牙膏、磷酸氢钙型牙膏、二氧化硅型牙膏、碳酸钙与二氧化硅复配型牙膏、磷酸氢钙和二氧化硅复配型牙膏、羟基磷灰石为磨料的牙膏、以及液体牙膏等。所述的牙粉，包括碳酸钙型牙粉、磷酸氢钙型牙粉、二氧化硅型牙粉、碳酸钙与二氧化硅复配型牙粉、磷酸氢钙和二氧化硅复配型牙粉、羟基磷灰石为磨料的牙粉等。所述的口腔贴膜剂，包括口腔黏附片、口腔贴膜、口腔涂膜剂等。所述的口腔软膏剂，包括凝胶软膏剂、乳膏软膏剂、以及油膏软膏剂等。所述的口腔用糊剂包括碳酸钙型糊剂、磷酸氢钙型糊剂、二氧化硅型糊剂、碳酸钙与二氧化硅复配型糊剂、磷酸氢钙和二氧化硅复配型糊剂、羟基磷灰石型糊剂等。

下面通过实例说明本发明的具体实施方案。 

实施例一 

本实施例为抗牙本质敏感牙膏，主要原料为：微米级羟基磷灰石，粒径为0.5-5um，添加量为3-25kg，硝酸钾，以钾离子计添加量为1-5kg；其它原料为：甘油5-18kg、山梨醇10-25kg、纤维素胶0.3-0.9kg、黄原胶0.1-0.6kg、卡拉胶0.1-0.8kg、PEG2-6kg、焦磷酸钠0.2-0.8kg、月桂醇硫酸酯钠1-2.8kg、糖精钠0.1-0.4kg、尼泊金乙酯0.01-0.03kg、苯甲酸钠0.1-0.4kg、碳酸钙20-70kg、二水合磷酸氢钙17-50kg、无水磷酸氢钙5-30kg、二氧化硅0.2-30kg、羟基磷灰石5-30kg等、壳聚糖1-2kg、乳酸0.5-2kg、三聚磷酸钠0.1-0.3kg、香精0.8-1.3kg组成。

用上述原料，就其中几种原料进行组合，可以按照常规的制备方法制备成碳酸钙型牙膏、磷酸氢钙型牙膏、二氧化硅型牙膏、碳酸钙与二氧化硅复配型牙膏、磷酸氢钙和二氧化硅复配型牙膏、羟基磷灰石型牙膏以及液体牙膏。 

   例1：碳酸钙型牙膏 

配方：碳酸钙23.0、山梨醇22.0、微米级羟基磷灰石20.0、硝酸钾5.0、纤维素胶0.9、月桂醇硫酸酯钠1.3、糖精钠0.2、尼泊金乙酯0.02、薄荷香精                  1.0、去离子水余量，以上均为重量百分比。

制作方法：先将山梨醇加入到真空制膏机中，再加入纤维素胶充分混匀，然后加入大部分去离子水，再次搅拌混匀，在真空搅拌状态下，依次加入糖精钠、硝酸钾、尼泊金乙酯溶液，及碳酸钙、微米级羟基磷灰石、月桂醇硫酸酯钠，在真空状态下，进行高速搅拌充分混匀，最后加入香精，再次在真空状态下，进行高速搅拌充分乳化混匀，即得碳酸钙型牙膏。 

例2：磷酸氢钙和二氧化硅复配型牙膏 

配方：二水合磷酸氢钙35.0、甘油10.0、山梨醇18.0、微米级羟基磷灰石10.0、硝酸钾5.0、纤维素胶0.8、二氧化硅0.8、焦磷酸钠0.5、月桂醇硫酸酯钠 2.0、糖精钠0.2、苯甲酸钠0.15、留兰香精1.2、去离子水余量，以上均为重量百分比。            

制作方法:用甘油将纤维素胶均匀分散后，吸入到真空制膏机中，再加山梨醇和部分去离子水使粘合剂膨胀胶溶，另取部分去离子水将焦磷酸钠、硝酸钾、糖精钠、苯甲酸钠溶解后，吸入到真空制膏锅中，混匀，再分别加入二氧化硅、二水合磷酸氢钙、微米级羟基磷灰石、月桂醇硫酸酯钠,在真空状态下，充分脱气混匀，最后加入香精，再次在真空状态下，进行高速搅拌充分乳化混匀，即得磷酸氢钙和二氧化硅复配型牙膏。

例3：二氧化硅型牙膏 

配方：二氧化硅16.0、甘油13.0、山梨醇22.0、糖精钠0.22、微米级羟基磷灰石15.0、纤维素胶1.0、磷酸三钠1.5、磷酸二氢钠0.6、硝酸钾7.0、月桂醇硫酸酯钠2.8、尼泊金乙酯0.02、薄荷香精1.2、去离子水余量，以上均为重量百分比。

制作方法：用甘油将纤维素胶均匀分散后，吸入到真空制膏机中，再吸入山梨醇搅拌均匀，另取部分去离子水将硝酸钾、糖精钠、磷酸三钠、磷酸二氢钠溶解后，也吸入到真空制膏锅中，混匀，再分别加入二氧化硅、微米级羟基磷灰石、月桂醇硫酸酯钠、尼泊金乙酯,在真空状态下，充分脱气混匀，最后加入香精，再次在真空状态下，进行高速搅拌充分乳化混匀，即得二氧化硅型牙膏。 

实施例二：

本实施例为抗牙本质敏感牙粉。

配方：碳酸钙61.0、硝酸钾10.0、微米级羟基磷灰石25.0、月桂醇硫酸酯钠2.8、糖精钠0.2、香精1.0 

 制作方法：把配方中除香精以外的粉料投入混粉器中，搅拌混合均匀，然后将香精混入混合好的粉料中，再充分混合均匀，过200目筛后，即得牙粉。

实施例三：

本实施例为抗牙本质敏感口腔贴膜剂。

配方：壳聚糖1.0、乳酸1.0、微米级羟基磷灰石3.0、硝酸钾2.6、甘油                          10.0、三聚磷酸钠0.1、去离子水余量，以上均为重量百分比。 

制作方法：先将乳酸溶于水，制成乳酸溶液，再将壳聚糖溶于乳酸溶液中，制成壳聚糖凝胶，再分别将微米级羟基磷灰石、硝酸钾、甘油、三聚磷酸钠加入到壳聚糖凝胶液中，混匀并在真空状态下进行脱气，然后将此溶液以0.5g／cm²的量铺在玻璃板上，干燥后，切制成一定的规格即可。 

实施例四：

本实施例为抗牙本质敏感软膏剂。

配方：白凡士林12.0、液状石蜡6.0、十六醇8.1、微米级羟基磷灰石5.0、硝酸钾3.0、单硬脂酸甘油脂1.5、、月桂醇硫酸脂钠0.9、甘油5.0、尼泊金乙酯0.01、去离子水余量，以上均为重量百分比。 

制作方法：首先将油相各成分，如白凡士林、液状石蜡、十六醇、单硬脂酸甘油脂等混合，再将水相各成分，如月桂醇硫酸脂钠、硝酸钾、甘油、尼泊金乙酯、水等混合，混合好的油相和水相分别加热到75—80℃，再将油相快速加到水相中，不断搅拌使之乳化，停止加热，当温度开始下降时加入微米级羟基磷灰石至冷凝即得软膏剂。 

实施例五：

本实施例为抗牙本质敏感口腔用糊剂。

 配方：二水合磷酸氢钙15.0、甘油20.0、纤维素胶0.9、羟乙基纤维素0.4、硝酸钾12.9、羟基磷灰石15.0、月桂醇硫酸酯钠2.0、糖精钠0.2、尼泊金乙酯0.02、柠檬香精1.0、去离子水余量，以上均为重量百分比。 

制作方法：将纤维素胶、羟乙基纤维素分散在甘油中后投入研磨机中，再将二水合磷酸氢钙、羟基磷灰石和尼泊金乙酯投入研磨机中，研磨，然后把溶解了硝酸钾和糖精钠的去离子水溶液投入研磨机内，再分别将月桂醇硫酸酯钠和香精投入研磨机一起研磨直至糊状，即得口腔用糊剂。 

Claims (9)

1.抗牙本质敏感口腔清洁护理制剂，其特征在于，由重量比为3%-25%的微米级羟基磷灰石材料、1%-5%钾离子和余量的辅料组成。

2.根据权利要求1所述的抗牙本质敏感口腔清洁护理制剂，其特征在于微米级羟基磷灰石的直径范围是0.5um-5um。

3.根据权利要求1所述的抗牙本质敏感口腔清洁护理制剂，其特征在于所述的钾离子为含有钾离子的盐类。

4.根据权利要求3所述的抗牙本质敏感口腔清洁护理制剂，其特征在于所述的含有钾离子的盐类为硝酸钾。

5.根据权利要求1所述的抗牙本质敏感口腔清洁护理制剂，其特征在于所述的抗牙本质敏感口腔清洁护理用品为含有微米级羟基磷灰石材料复配钾离子的牙膏。

6.根据权利要求1所述的抗牙本质敏感口腔清洁护理制剂，其特征在于所述的抗牙本质敏感口腔清洁护理用品为含有微米级羟基磷灰石材料复配钾离子的牙粉。

7.根据权利要求1所述的抗牙本质敏感口腔清洁护理制剂，其特征在于所述的抗牙本质敏感口腔清洁护理用品为含有微米级羟基磷灰石材料复配钾离子的口腔贴膜剂。

8.根据权利要求1所述的抗牙本质敏感口腔清洁护理制剂，其特征在于所述的抗牙本质敏感口腔清洁护理用品为含有微米级羟基磷灰石材料复配钾离子的软膏剂。

9.根据权利要求1所述的抗牙本质敏感口腔清洁护理制剂，其特征在于所述的抗牙本质敏感口腔清洁护理用品为含有微米级羟基磷灰石材料复配钾离子的口腔用糊剂。

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