CN103098550A - 发光装置的制造方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及发光装置的制造方法,包括如下工序:使喷嘴(13)接近配置在该喷嘴(13)的上方的包含支撑基板的被涂布体(19),使从喷嘴(13)排出的涂布液(17)与被涂布体(19)接触,在涂布液17与被涂布体(19)接触的状态下,使被涂布体(19)与喷嘴(13)相对移动而将涂布液(17)涂布成膜,形成有机EL层,该喷嘴(13)与贮存形成有机EL层的涂布液(17)的罐(14)连通,将从该罐(14)供给的涂布液(17)排出;使涂布液(17)接触后且使被涂布体(19)与喷嘴(13)相对移动前,在维持涂布液(17)接触的状态下,使罐(14)下降至比开始被涂布体(19)与喷嘴(13)的相对移动时的罐(14)的位置还低的位置,然后,使罐(14)上升到开始被涂布体(19)与喷嘴(13)的相对移动时的罐(14)的位置。由此,提供能够采用毛细管涂布法形成膜厚的不均匀得到抑制的有机EL层的发光装置的制造方法。
Description
技术领域
本发明涉及发光装置的制造方法。
背景技术
有机EL(Electro Luminescence)元件包含第一电极、有机EL层和第二电极而构成。有机EL元件通过将构成元件的各构成要素依次层叠而制作。
构成有机EL元件的一部分的有机EL层能够采用涂布法形成。例如通过采用规定的涂布法将包含形成有机EL层的材料的涂布液涂布成膜,进而使其固化,从而能够形成有机EL层。
在将涂布液涂布的方法中有各种方法。其中的1种,有利用了毛细管现象的毛细管涂布法。毛细管涂布法中,将向上方排出涂布液的喷嘴配置在被涂布体的下方,使从该喷嘴排出的涂布液与被涂布体接触,进而维持涂布液与被涂布体接触的状态,同时使喷嘴或被涂布体移动,从而将涂布液涂布于被涂布体(参照例如专利文献1)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2004-164873号公报
发明内容
发明要解决的课题
有机EL元件的发光强度也依赖于有机EL层的膜厚,因此形成有机EL层时如果其膜厚产生不均匀,起因于该膜厚的不均匀而产生亮度不均。因此,要求以膜厚变得均一的方式形成有机EL层。但是,对于毛细管涂布法,难以得到均一的膜厚的涂布膜,特别是使涂布液与被涂布体接触的位置附近的膜厚与其他部位相比存在厚膜化的倾向。
因此,本发明的目的在于提供能够采用毛细管涂布法形成膜厚的不均匀受到抑制的有机EL层的发光装置的制造方法。
用于解决课题的手段
本发明涉及发光装置的制造方法,所述发光装置具有支撑基板及在所述支撑基板上设置的有机EL元件,所述有机EL元件通过将第一电极、有机EL层和第二电极依次在支撑基板上层叠而构成,所述制造方法包括如下工序:使喷嘴接近配置在该喷嘴的上方的包含所述支撑基板的被涂布体,使从喷嘴排出的涂布液与所述被涂布体接触,在所述涂布液与所述被涂布体接触的状态下,使所述被涂布体与所述喷嘴相对移动而将所述涂布液涂布成膜,形成所述有机EL层,所述喷嘴与贮存形成有机EL层的涂布液的罐连通,将从该罐供给的所述涂布液排出;在使所述涂布液接触后,且使所述被涂布体与所述喷嘴相对移动前,在维持所述涂布液接触的状态下,使所述罐下降至比开始所述被涂布体与所述喷嘴的相对移动时的所述罐的位置还低的位置,然后,使所述罐上升到开始所述被涂布体与所述喷嘴的相对移动时的所述罐的位置。
此外,本发明涉及发光装置的制造方法,其中,使涂布液离开时,在使罐下降后再使喷嘴下降,使涂布液离开。
此外,本发明涉及发光装置的制造方法,其中,所述涂布液包含沸点不到170℃的低沸点溶剂。
此外,本发明涉及发光装置的制造方法,其中,所述涂布液包含相对于总重量为30重量%~50重量%的沸点不到170℃的低沸点溶剂。
发明的效果
根据本发明,能够采用毛细管涂布法形成膜厚的不均匀受到抑制的有机EL层。
附图说明
图1是示意地表示帽型涂布机系统11的图。
图2是喷嘴13的侧面图。
图3是从图2的剖面线III-III看到的喷嘴13的剖面图。
图4是从图3的剖面线IV-IV看到的喷嘴13的剖面图。
图5是表示帽型涂布机系统11的动作的时间图。
图6是表示涂布膜的膜厚的坐标图。
图7是表示涂布膜的膜厚的坐标图。
图8是表示涂布膜的膜厚的坐标图。
图9是表示涂布膜的膜厚的坐标图。
图10是表示涂布膜的膜厚的坐标图。
具体实施方式
本发明的发光装置的制造方法,是具有支撑基板和设置在该支撑基板上的有机EL元件的发光装置的制造方法,有机EL元件通过依次将第一电极、有机EL层和第二电极在支撑基板上层叠而构成,该发光装置的制造方法包括如下工序:使喷嘴接近配置在该喷嘴的上方的包含所述支撑基板的被涂布体,使从喷嘴排出的涂布液与所述被涂布体接触,在所述涂布液与所述被涂布体接触的状态下,使所述被涂布体与所述喷嘴相对移动而将所述涂布液涂布成膜,形成所述有机EL层,所述喷嘴与贮存形成有机EL层的涂布液的罐连通,将从该罐供给的所述涂布液排出;在使所述涂布液接触后,且使所述被涂布体与所述喷嘴相对移动前,在维持所述涂布液接触的状态下,使所述罐下降至比开始所述被涂布体与所述喷嘴的相对移动时的所述罐的位置还低的位置,然后,使所述罐上升到开始所述被涂布体与所述喷嘴的相对移动时的所述罐的位置。本说明书中,所谓“涂布液与被涂布体接触的状态”意味着涂布液附着于被涂布体的状态。
本实施方式的有机EL元件通过依次将第一电极、有机EL层和第二电极层叠在支撑基板上而构成。
第一电极和第二电极构成由阳极和阴极组成的一对电极。即,将第一和第二电极中的一者设置为阳极,将另一者设置为阴极。此外,将第一和第二电极中的第一电极配置在靠近支撑基板,将第二电极与第一电极相比,远离支撑基板而配置。
有机EL元件具有1层以上的有机EL层。再有,有机EL层意味着被第一电极和第二电极夹持的全部层。有机EL元件,作为有机EL层,具有至少1层以上的发光层。此外,在电极间并不限于发光层,根据需要设置规定的层。例如,在阳极和发光层之间,作为有机EL层,设置空穴注入层、空穴传输层和电子阻挡层等,在发光层与阴极之间,作为有机EL层,设置空穴阻挡层、电子传输层和电子注入层等。
本实施方式的有机EL元件,在第一电极与发光层之间,作为有机EL层,具有空穴注入层。以下,作为实施的一方式,对将作为阳极发挥功能的第一电极、空穴注入层、发光层和作为阴极发挥功能的第二电极依次层叠于支撑基板上而构成的有机EL元件进行说明。
首先,准备支撑基板。支撑基板由例如玻璃板、树脂膜和它们的层叠体构成。再有,将从有机EL元件射出的光通过支撑基板向外界射出的所谓底部发射型的有机EL元件设置在支撑基板上的情况下,支撑基板由显示光透过性的材料构成。
接下来,在支撑基板上以规定的图案形成第一电极。例如将第一电极形成为矩形状。对第一电极的构成及其形成方法将后述。
接下来,在第一电极上形成空穴注入层。空穴注入层的形成方法并无特别限制,例如与后述的发光层同样地能够采用涂布法形成。
接下来,作为有机EL层,形成发光层。本实施方式中,采用所谓毛细管涂布法形成发光层。即,使与贮存成为有机EL层(本实施方式中发光层)的涂布液的罐连通、将从该罐供给的所述涂布液排出的喷嘴与在该喷嘴的上方配置的包含支撑基板的被涂布体接近,使从喷嘴排出的涂布液与被涂布体接触,在涂布液接触被涂布体的状态下,使被涂布体与喷嘴相对移动而将涂布液涂布成膜,形成有机EL层。毛细管涂布法中,利用毛管力和静压,将涂布液从喷嘴向上方排出。再有,本工序中的被涂布体相当于在其上形成了第一电极和空穴注入层的支撑基板。例如,采用毛细管涂布法能够形成5nm~200nm的膜厚的有机EL层。
图1是示意地表示用于形成发光层的帽型涂布机系统11的图。以下,本说明书中,“上方”和“下方”分别意味着“铅直方向的上方”和“铅直方向的下方”。此外,以下中以将涂布液涂布时的配置为前提,对帽型涂布机系统11的构成进行说明。
帽型涂布机系统11主要包含平台12、喷嘴13和罐14而构成。平台12保持着在下方的主面载置的被涂布体19。平台12例如利用真空吸附来保持被涂布体19。平台12,利用未图示的电动机和油压机等位移驱动机构,在水平方向上往复运动。以下有时将平台12移动的方向称为涂布方向X。
图2为喷嘴13的侧面图。图3为从图2的剖面线III-III看到的喷嘴13的剖面图。图4为从图3的剖面线IV-IV看到的喷嘴13的剖面图。喷嘴13具有将涂布液排出的狭缝状排出口23。
如图2~图4中所示,喷嘴13为大致板状,主要具有填隙片21、夹持该填隙片21的一对夹持体22。填隙片21对于夹持体22作为间隔物发挥功能。一对夹持体22,由夹持的填隙片21的厚度来规定其间隔。此外,狭缝状排出口23的横向(本实施方式中相当于涂布方向X。)的宽度由一对夹持体22的间隔规定。因此,狭缝状排出口23的横向的宽度由填隙片21的厚度规定。狭缝状排出口23的横向的宽度根据涂布液的性状和涂布膜的厚度等适当设定,通常为0.01mm~1mm左右。该宽度能够通过改变填隙片21的厚度来调节。
在一对夹持体22,分别在宽度方向Y上延伸形成以半圆为底面的柱状的凹部。再有,宽度方向Y为与涂布方向X垂直的方向,并且意味着与铅直方向Z垂直的方向。如果将一对夹持体22贴合,由上述的以半圆为底面的柱状的凹部构成圆柱状的空洞。该圆柱状的空洞在宽度方向Y上延伸,其轴心与贴合面一致。借助填隙片21将一对夹持体22贴合时,由这2个凹部构成的空洞作为歧管24发挥功能。
将喷嘴13以狭缝状排出口23的纵向与宽度方向Y一致的方式配置。从喷嘴13的上端遍及歧管24形成狭缝状排出口23,与歧管24连通。由于将涂布液填充于歧管24,因此从歧管24向狭缝状排出口23供给涂布液。将狭缝状排出口23的纵向(宽度方向Y)的宽度设定为涂布膜的宽度方向Y的宽度,例如为10mm~300mm。
如前所述,狭缝状排出口23的横向的宽度由填隙片21的厚度规定,但本实施方式中,不仅横向(涂布方向X)的宽度,而且狭缝状排出口23的纵向(宽度方向Y)的宽度也由填隙片21规定。本实施方式中的填隙片21,如图4中所示,包括在歧管24的正下方在宽度方向Y上延伸的板体21a、从该板体21a的宽度方向Y的两端部向上方延伸的非通液部21b。被非通液部21b夹持的区域相当于狭缝状排出口23。
在铅直方向Z上可位移地支持喷嘴13,通过电动机和油压机等位移驱动机构将其在铅直方向Z上位移驱动。
罐14贮存涂布液17。罐14中贮存将涂布于被涂布体19的涂布液17。本实施方式中,将含有成为发光层的有机材料的液体贮存于罐14中。喷嘴13的歧管24与罐14经由涂布液供给管16而连通。即,在罐14中贮存的涂布液17通过涂布液供给管16被供给到歧管24,进而经由狭缝状排出口23被涂布于被涂布体19。在铅直方向Z上可位移地支持罐14,通过电动机和油压机等位移驱动机构在铅直方向Z上将其位移驱动。罐14还具有检测涂布液17的液面的液面传感器18。通过该液面传感器18,检测涂布液17的液面的铅直方向Z的高度。液面传感器18通过例如光学式传感器、超声波振动式传感器来实现。
经由涂布液供给管16从罐14供给到狭缝状排出口23的涂布液17,响应根据罐14内的液面的高度产生的压力(静压)和在狭缝状排出口23产生的毛细管现象形成的力,被从狭缝状排出口23挤出。因此,通过控制罐14内的液面位置与喷嘴13内的液面位置的相对差,能够控制从狭缝状排出口23挤出的涂布液的量。再有,由于能够通过调节罐14的上下的位置来控制罐14内的液面位置,因此通过分别调节喷嘴13和罐14的上下的位置,能够控制从狭缝状排出口23挤出的涂布液的量。
帽型涂布机系统11还具有由微型计算机等实现的控制部,该控制部控制前述的位移驱动机构等。通过控制部控制位移驱动机构,从而控制喷嘴13和罐14的铅直方向Z的位置、和平台12的涂布方向X的位移。如果将涂布液17涂布,则消耗涂布液17,因此罐14内的涂布液17的液面经时地降低,基于液面传感器18的检测结果,控制部控制位移驱动机构,调节罐14的铅直方向Z的位置,从而能够控制从狭缝状排出口23挤出的涂布液17的高度。
接下来,对将涂布液涂布时的帽型涂布机系统11的动作,参照图5进行说明。图5是表示帽型涂布机系统11的动作的时间图。图5的横轴表示经过时间。
开始涂布时,将保持被涂布体的平台12配置在涂布开始位置的左方的待机位置,将罐14配置在液面基准位置,将喷嘴13配置于下降位置。而且是从喷嘴没有排出涂布液的状态。
<t1~t4>使涂布液与被涂布体接触。
平台12从时刻t1至时刻t3,从待机位置向右方移动到涂布开始位置。然后,平台12直至开始涂布的时刻t8,在涂布开始位置停止。
罐14从时刻t1至时刻t2,从液面基准位置移动到接触位置。这样罐14移动到接触位置,从而成为涂布液从狭缝状排出口23排出的状态。再有,罐的接触位置位于后述的涂布位置的上方1mm~50mm。
此外,喷嘴13从时刻t1至时刻t2,从下降位置上升到待机位置。然后,喷嘴13从时刻t3至时刻t4,从待机位置上升到接触位置。再有,喷嘴13在从狭缝状排出口23排出涂布液的状态下与被涂布体接近,因此在时刻t4之前即刻,涂布液与被涂布体19接触。喷嘴13的在接触位置的喷嘴13上端与被涂布体19的间隔例如为3μm~30μm。
<t4~t8>调节与被涂布体接触的涂布液的量。
涂布液与被涂布体19接触后,罐14从时刻t5至时刻t6,从接触位置下降到液面修正位置。再有,罐14的下降在维持涂布液接触的状态下进行。液面修正位置位于后述的涂布位置的下方1mm~20mm。这样,罐14从涂布位置一度下降后,从时刻t7至时刻t8从液面修正位置上升到涂布位置。
这样,本实施方式中,使涂布液接触后、使被涂布体与喷嘴相对移动前,在维持涂布液接触的状态下,使罐下降至比开始被涂布体与喷嘴的相对移动时的罐的位置更低的位置,然后,使罐上升到开始被涂布体与喷嘴的相对移动时的罐的位置。
通过使罐14一度下降到涂布位置的下方,能够使位于喷嘴13上端与被涂布体19之间的涂布液的一部分返回到狭缝状排出口23内。即,能够调节与被涂布体接触的涂布液的量。通过这样调节与被涂布体接触的涂布液的量,能够调节涂布开始时的涂布膜的膜厚。由此能够抑制涂布开始时的涂布膜的厚膜化。
喷嘴13从时刻t7至时刻t8,从接触位置下降到涂布位置。在时刻t8的喷嘴13上端与被涂布体19的间隔为30μm~300μm左右。
(t8~t9)将涂布液涂布。
从时刻t8至时刻t9,将涂布液涂布于被涂布体。平台12从时刻t8至时刻t9,从涂布开始位置向右方移动到涂布结束位置。在维持涂布液与被涂布体接触的状态下平台移动,因此将涂布液涂布于被涂布体。
平台12的移动速度例如为0.1m/min~5m/min。
本实施方式中,从时刻t8至时刻t9,喷嘴13和罐14的位置不变。再有,从时刻t8至时刻t9,可使罐以规定的速度上升。
从时刻t8至时刻t9,将涂布液涂布于被涂布体,因此消耗墨,有时罐14内的涂布液的液面的高度也下降,例如从时刻t8至时刻t9,通过使罐14以规定的速度上升,能够使罐14内的涂布液的液面的高度保持一定。
<t9~t12>使涂布液离开。
罐14从时刻t9至时刻t10,下降到离开位置。从时刻t9至时刻t10,罐14下降的距离为1mm~20mm左右。再有,本实施方式中,在维持涂布液与被涂布体接触的状态下,罐14下降到离开位置。这样罐14下降,从而能够使位于喷嘴13上端与被涂布体19之间的涂布液的一部分返回到狭缝状排出口23内。然后,喷嘴13从时刻t10至时刻t11,下降到离开位置。这样喷嘴13下降,从而涂布液与被涂布体离开。
如上所述使涂布液离开时,使罐下降后使喷嘴下降。使位于喷嘴13上端与被涂布体19之间的涂布液的一部分返回狭缝状排出口23内后使喷嘴下降,使涂布液离开,从而能够抑制在涂布结束位置的涂布膜的厚膜化。
使涂布液离开后,从t12至t13,平台12移动到待机位置,罐14移动到液面基准位置,喷嘴13移动到下降位置,从而结束涂布液的涂布。
再有,本实施方式中,从t12到t13,平台12移动到待机位置,但可从t12至t13进一步使平台12向右方移动,将其作为新的待机位置,重新重复从t1至t13的动作,可进行多次该动作的反复。
通过如以上说明那样进行从t1到t13的动作,能够将涂布液涂布。
如上所述,在时刻t5~时刻t8中,通过使罐14一度下降到涂布位置的下方,从而调节涂布液的量后,将涂布液涂布,因此能够调节涂布开始时的涂布膜的膜厚,形成平坦的膜厚的涂布膜。
此外,在时刻t9~时刻t11中,使涂布液离开时,使罐下降后使喷嘴下降,从而使涂布液的一部分返回狭缝状排出口23内后使喷嘴下降,使涂布液离开,能够抑制在涂布结束位置的涂布膜的厚膜化。由此能够调节涂布结束时的涂布膜的膜厚,形成平坦的膜厚的涂布膜。
涂布液包含成为有机EL层的材料(本实施方式中成为发光层的有机材料)和溶剂。作为涂布液的溶剂,可1种单独地使用显示规定的沸点的溶剂,也可将多种溶剂并用。作为构成本发明的涂布液的溶剂,希望是使成为形成的层的材料(本实施方式中成为发光层的有机材料)溶解的溶剂,作为这样的溶剂,可例示以下的溶剂。即,作为构成涂布液的溶剂,可例示氯仿(沸点61℃)、二氯甲烷(沸点40℃)、1,1-二氯乙烷(沸点57℃)、1,2-二氯乙烷(沸点83℃)、1,1,1-三氯乙烷(沸点74℃)、1,1,2-三氯乙烷(沸点113℃)等脂肪族氯系溶剂、氯苯(沸点132℃)、邻-二氯苯(沸点180℃)、间-二氯苯(沸点173℃)、对-二氯苯(沸点174℃)等芳香族氯系溶剂、四氢呋喃(沸点66℃)、1,4-二噁烷(沸点101℃)等脂肪族醚系溶剂、茴香醚(沸点154℃)、乙氧基苯(沸点170℃)等芳香族醚系溶剂、甲苯(沸点111℃)、邻-二甲苯(沸点144℃)、间-二甲苯(沸点139℃)、对-二甲苯(沸点138℃)、乙基苯(沸点136℃)、对-二乙基苯(沸点184℃)、1,3,5-三甲基苯(沸点211℃)、正-丙基苯(沸点159℃)、异丙基苯(沸点152℃)、正-丁基苯(沸点183℃)、异丁基苯(沸点173℃)、仲丁基苯(沸点173℃)、1,2,3,4-四氢化萘(沸点208℃)、环己基苯(沸点235℃:在737mmHg下测定)等芳香族烃系溶剂、环己烷(沸点81℃)、甲基环己烷(沸点101℃)、正戊烷(沸点36℃)、正己烷(沸点69℃)、正庚烷(沸点98℃)、正辛烷(沸点126℃)、正壬烷(沸点151℃)、正癸烷(沸点174℃)、十氢化萘(顺式体为沸点196℃,反式体为沸点187℃)、联环己基(沸点217~233℃)等脂肪族烃系溶剂、丙酮(沸点56℃)、甲乙酮(沸点80℃)、甲基异丁基酮(沸点117℃)、环己酮(沸点156℃)、2-庚酮(沸点150℃)、3-庚酮(沸点147℃:在765mmHg下测定)、4-庚酮(沸点144℃)、2-辛酮(沸点174℃)、2-壬酮(沸点195℃)、2-癸酮(沸点209℃)等脂肪族酮系溶剂、苯乙酮(沸点202℃)等芳香族酮系溶剂、醋酸乙酯(沸点77℃)、醋酸丁酯(沸点120~125℃)等脂肪族酯系溶剂、苯甲酸甲酯(沸点200℃)、苯甲酸丁酯(沸点213℃)、醋酸苯酯(沸点196℃)等芳香族酯系溶剂、乙二醇(沸点198℃)、乙二醇单丁醚(沸点171℃)、乙二醇单乙醚(沸点135℃)、乙二醇单甲醚(沸点125℃)、1,2-二甲氧基乙烷(沸点85℃)、丙二醇(沸点188℃)、1,2-二乙氧基甲烷(沸点124℃)、三甘醇二乙醚(沸点222℃)、2,5-己二醇(沸点218℃)等脂肪族多元醇系溶剂和脂肪族多元醇的衍生物构成的溶剂、甲醇(沸点65℃)、乙醇(沸点78℃)、丙醇(沸点97℃)、异丙醇(沸点82℃)、环己醇(沸点161℃)等脂肪族醇系溶剂、二甲基亚砜(沸点37℃)等脂肪族亚砜系溶剂、N-甲基-2-吡咯烷酮(沸点202℃)、N,N-二甲基甲酰胺(沸点153℃)等脂肪族酰胺系溶剂。
涂布液优选含有沸点不到170℃的低沸点溶剂。作为沸点不到170℃的低沸点溶剂,能够使用上述的溶剂,这些中,优选邻-二甲苯、间-二甲苯、对-二甲苯和它们的混合溶剂、或者茴香醚。
涂布液,优选相对于总重量,含有30重量%~50重量%的沸点不到170℃的低沸点溶剂。通过使用这样的涂布液,能够形成更均一的膜厚的涂布膜。
接下来,通过使涂布的涂布膜固化而形成发光层。涂布膜,能够通过将溶剂除去来进行固化。溶剂的除去能够通过自然干燥、加热干燥来进行。此外,使用了含聚合性化合物的涂布液的情况下,也可通过对涂布膜施加热,或者照射光,从而使涂布膜固化。
接下来,通过在该发光层上形成第二电极,能够形成有机EL元件。
<有机EL元件的构成>
如前所述,有机EL元件可采取各种的层构成,以下对有机EL元件的层结构、各层的构成和各层的形成方法更详细地说明。
如前所述,有机EL元件包含由阳极和阴极组成的一对电极(第一和第二电极)、设置在该电极间的1个或多个有机EL层而构成,作为1个或多个有机EL层,具有至少1层的发光层。再有,有机EL元件可包含含无机物和有机物的层、和无机层等。作为构成有机层的有机物,可以是低分子化合物,也可以是高分子化合物,还可以是低分子化合物和高分子化合物的混合物。有机层优选含高分子化合物,优选含聚苯乙烯换算的数均分子量为103~108的高分子化合物。
作为在阴极和发光层之间设置的有机EL层,可列举电子注入层、电子传输层、空穴阻挡层等。在阴极和发光层之间设置电子注入层和电子传输层这两者的层的情况下,将接近阴极的层称为电子注入层,将接近发光层的层称为电子传输层。作为在阳极与发光层之间设置的有机EL层,可列举空穴注入层、空穴传输层、电子阻挡层等。设置空穴注入层与空穴传输层这两者的层的情况下,将接近阳极的层称为空穴注入层,将接近发光层的层称为空穴传输层。
以下示出本实施方式的有机EL元件可取的层构成的一例。
a)阳极/发光层/阴极
b)阳极/空穴注入层/发光层/阴极
c)阳极/空穴注入层/发光层/电子注入层/阴极
d)阳极/空穴注入层/发光层/电子传输层/阴极
e)阳极/空穴注入层/发光层/电子传输层/电子注入层/阴极
f)阳极/空穴传输层/发光层/阴极
g)阳极/空穴传输层/发光层/电子注入层/阴极
h)阳极/空穴传输层/发光层/电子传输层/阴极
i)阳极/空穴传输层/发光层/电子传输层/电子注入层/阴极
j)阳极/空穴注入层/空穴传输层/发光层/阴极
k)阳极/空穴注入层/空穴传输层/发光层/电子注入层/阴极
l)阳极/空穴注入层/空穴传输层/发光层/电子传输层/阴极
m)阳极/空穴注入层/空穴传输层/发光层/电子传输层/电子注入层/阴极
n)阳极/发光层/电子注入层/阴极
o)阳极/发光层/电子传输层/阴极
p)阳极/发光层/电子传输层/电子注入层/阴极
(其中,符号“/”表示夹持符号“/”的各层邻接地层叠。下同。)
本实施方式的有机EL元件可具有2层以上的发光层。在上述a)~p)的层构成中的任1个中,如果将被阳极与阴极夹持的层叠体记为“结构单元A”,作为具有2层的发光层的有机EL元件的构成,可列举下述q)中所示的层构成。再有,具有2个的(结构单元A)的层构成可彼此相同,也可不同。
q)阳极/(结构单元A)/电荷发生层/(结构单元A)/阴极
此外,如果将“(结构单元A)/电荷发生层”记为“结构单元B”,作为具有3层以上的发光层的有机EL元件的构成,可列举下述r)中所示的层构成。
r)阳极/(结构单元B)x/(结构单元A)/阴极
再有,符号“x”表示2以上的整数,(结构单元B)x表示x段结构单元B层叠的层叠体。此外,具有多个的(结构单元B)的层构成可以相同,也可以不同。
其中,所谓电荷发生层,是通过外加电场而产生空穴和电子的层。作为电荷发生层,可列举例如氧化钒、铟锡氧化物(Indium Tin Oxide:简称ITO)、氧化钼等形成的薄膜。
有机EL元件,可将由阳极和阴极构成的一对的电极中的阳极配置在比阴极更靠近支撑基板,设置于支撑基板,还可将阴极配置在比阳极更靠近支撑基板,设置于支撑基板。例如上述a)~r)中,可从右侧依次将各层在支撑基板上层叠,构成有机EL元件,还可从左侧依次将各层在支撑基板上层叠,构成有机EL元件。对于层叠的层的顺序、层数和各层的厚度,可考虑发光效率、元件寿命而适当地设定。
接下来,对构成有机EL元件的各层的材料和形成方法,更具体地说明。
<阳极>
从发光层放出的光通过阳极向元件外射出的构成的有机EL元件的情形下,将显示光透过性的电极用于阳极。作为显示光透过性的电极,能够使用金属氧化物、金属硫化物和金属等的薄膜,优选使用电导率和光透射率高的电极。具体地,使用由氧化铟、氧化锌、氧化锡、ITO、铟锌氧化物(Indium Zinc Oxide:简称IZO)、金、铂、银和铜等形成的薄膜,这些中,优选使用由ITO、IZO或氧化锡形成的薄膜。
作为阳极的制作方法,可列举真空蒸镀法、溅射法、离子镀法、电镀法等。此外,作为阳极,可使用聚苯胺或其衍生物、聚噻吩或其衍生物等有机的透明导电膜。
阳极的膜厚,考虑要求的特性、成膜工序的简易性等适当地设定,例如为10nm~10μm,优选为20nm~1μm,更优选为50nm~500nm。
<阴极>
作为阴极的材料,优选功函数小、向发光层的电子注入容易、电导率高的材料。此外,对于从阳极侧将光取出的构成的有机EL元件,为了将从发光层放出的光在阴极向阳极侧反射,作为阴极的材料,优选对可见光的反射率高的材料。对于阴极,能够使用例如碱金属、碱土类金属、过渡金属和周期表的第一3族金属等。作为阴极的材料,可使用例如锂、钠、钾、铷、铯、铍、镁、钙、锶、钡、铝、钪、钒、锌、钇、铟、铈、钐、铕、铽、镱等金属,所述金属中的2种以上的合金,所述金属中的1种以上与金、银、铂、铜、锰、钛、钴、镍、钨、锡中的1种以上的合金,或者石墨或石墨层间化合物等。作为合金的实例,可列举镁-银合金、镁-铟合金、镁-铝合金、铟-银合金、锂-铝合金、锂-镁合金、锂-铟合金、钙-铝合金等。此外,作为阴极,能够使用由导电性金属氧化物和导电性有机物等形成的透明导电性电极。具体地,作为导电性金属氧化物,可列举氧化铟、氧化锌、氧化锡、ITO和IZO,作为导电性有机物,可列举聚苯胺或其衍生物、聚噻吩或其衍生物等。再有,阴极可由将2层以上层叠而成的层叠体构成。再有,有时电子注入层也作为阴极使用。
阴极的膜厚,考虑要求的特性、成膜工序的简易性等适当地设定,例如为10nm~10μm,优选为20nm~1μm,更优选为50nm~500nm。
作为阴极的制作方法,可列举真空蒸镀法、溅射法,还可列举将金属薄膜进行热压接的层压法等。
<空穴注入层>
作为构成空穴注入层的空穴注入材料,可列举氧化钒、氧化钼、氧化钌和氧化铝等氧化物,苯基胺系化合物、星爆型胺系化合物、酞菁系化合物、无定形碳、聚苯胺和聚噻吩衍生物等。
空穴注入层的膜厚,考虑要求的特性和成膜工序的简易性等而适当设定,例如为1nm~1μm,优选为2nm~500nm,更优选为5nm~200nm。
<空穴传输层>
作为构成空穴传输层的空穴传输材料,可列举聚乙烯基咔唑或其衍生物、聚硅烷或其衍生物、侧链或主链具有芳香族胺的聚硅氧烷衍生物、吡唑啉衍生物、芳基胺衍生物、1,2-二苯乙烯衍生物、三苯基二胺衍生物、聚苯胺或其衍生物、聚噻吩或其衍生物、聚芳基胺或其衍生物、聚吡咯或其衍生物、聚(对-亚苯基亚乙烯基)或其衍生物、或者聚(2,5-亚噻吩基亚乙烯基)或其衍生物等。
空穴传输层的膜厚,考虑要求的特性和成膜工序的简易性等而设定,例如为1nm~1μm,优选为2nm~500nm,更优选为5nm~200nm。
<发光层>
发光层通常主要由发出荧光和/或磷光的有机物、或者该有机物和辅助其的掺杂剂形成。掺杂剂例如为了提高发光效率、使发光波长变化而加入。再有,构成发光层的有机物可以是低分子化合物,也可是高分子化合物,采用涂布法形成发光层的情况下,发光层优选含有高分子化合物。构成发光层的高分子化合物的聚苯乙烯换算的数均分子量,例如为103~108左右。作为构成发光层的发光材料,可列举例如以下的色素系材料、金属络合物系材料、高分子系材料、掺杂剂材料。
(色素系材料)
作为色素系材料,可列举例如环喷他明衍生物、四苯基丁二烯衍生物化合物、三苯基胺衍生物、噁二唑衍生物、吡唑并喹啉衍生物、二苯乙烯基苯衍生物、二苯乙烯基亚芳基衍生物、吡咯衍生物、噻吩环化合物、吡啶环化合物、芘酮衍生物、苝衍生物、低聚噻吩衍生物、噁二唑二聚体、吡唑啉二聚体、喹吖啶酮衍生物、香豆素衍生物等。
(金属络合物系材料)
作为金属络合物系材料,可列举例如中心金属中具有Tb、Eu、Dy等稀土类金属、或者Al、Zn、Be、Ir、Pt等,配体中具有噁二唑、噻二唑、苯基吡啶、苯基苯并咪唑、喹啉结构等的金属络合物,可列举例如铱络合物、铂络合物等具有来自三线态激发状态的发光的金属络合物、铝喹啉酚络合物、苯并喹啉酚铍络合物、苯并噁唑基锌络合物、苯并噻唑锌络合物、偶氮甲基锌络合物、卟啉锌络合物、菲咯啉铕络合物等。
(高分子系材料)
作为高分子系材料,可以列举聚对亚苯基亚乙烯基衍生物、聚噻吩衍生物、聚对亚苯基衍生物、聚硅烷衍生物、聚乙炔衍生物、聚芴衍生物、聚乙烯基咔唑衍生物、将上述色素系材料、金属络合物系发光材料进行高分子化的产物等。
发光层的厚度通常为约2nm~200nm。
<电子传输层>
作为构成电子传输层的电子传输材料,能够使用公知的材料,可列举噁二唑衍生物、蒽醌二甲烷或其衍生物、苯醌或其衍生物、萘醌或其衍生物、蒽醌或其衍生物、四氰基蒽醌二甲烷或其衍生物、芴酮衍生物、二苯基二氰基乙烯或其衍生物、二苯酚合苯醌衍生物、或者8-羟基喹啉或其衍生物的金属络合物、聚喹啉或其衍生物、聚喹喔啉或其衍生物、聚芴或其衍生物等。
电子传输层的膜厚,考虑要求的特性、成膜工序的简易性等而适当设定,例如为1nm~1μm,优选为2nm~500nm,更优选为5nm~200nm。
<电子注入层>
作为构成电子注入层的材料,根据发光层的种类适当选择最佳的材料,可列举碱金属、碱土类金属、含碱金属和碱土类金属中的1种以上的合金、碱金属或碱土类金属的氧化物、卤化物、碳酸盐、或者这些物质的混合物等。作为碱金属、碱金属的氧化物、卤化物和碳酸盐的实例,可列举锂、钠、钾、铷、铯、氧化锂、氟化锂、氧化钠、氟化钠、氧化钾、氟化钾、氧化铷、氟化铷、氧化铯、氟化铯、碳酸锂等。此外,作为碱土类金属、碱土类金属的氧化物、卤化物、碳酸盐的实例,可列举镁、钙、钡、锶、氧化镁、氟化镁、氧化钙、氟化钙、氧化钡、氟化钡、氧化锶、氟化锶、碳酸镁等。电子注入层可由将2层以上层叠而成的层叠体构成,可列举例如LiF/Ca等。
作为电子注入层的膜厚,优选1nm~1μm左右。
有机EL层中,能够采用涂布法形成的有机EL层有多个的情况下,优选使用涂布法形成全部的有机EL层,例如可使用涂布法形成能够采用涂布法形成的多个有机EL层中的至少1层,采用与涂布法不同的方法形成其他的有机EL层。此外,即使在采用涂布法形成多个有机EL层的情况下,也可采用该涂布法的具体的方法不同的涂布法形成多个有机EL层。
此外,作为与涂布法不同的方法,可采用真空蒸镀法、溅射法、CVD法、层压法等形成有机EL层。
实施例1
使用与图1中所示的帽型涂布机系统11同样的帽型涂布机系统(株)日本ヒラノテクシ一ド社制、制品名:CAP Coater III,与图5中所示的时间图同样地使帽型涂布机系统动作,在玻璃基板上涂布涂布液。
喷嘴的狭缝状排出口的纵向的宽度为200mm,横向的宽度为300μm。玻璃基板的尺寸为200mm×200mm×0.7mm。
将サメィション社制的Lumation GP1300(Green1300)用于发光材料。对于溶剂,使用茴香醚和环己基苯(CHB)的混合溶剂、或者只是茴香醚。将各实施例和比较例中使用的涂布液中的发光材料的重量浓度和溶剂的混合比示于表1。
[表1]
发光材料(重量%) | 茴香醚:CHB(重量比) | |
实施例1 | 1.0 | 3∶7 |
实施例2 | 1.0 | 5∶5 |
实施例3 | 1.2 | 7∶3 |
实施例4 | 1.2 | 10∶0 |
比较例1 | 1.0 | 5∶5 |
各实施例中的罐位置,如果以涂布位置为基准,接触位置位于涂布位置的上方11mm,液面修正位置位于涂布位置的下方9mm,离开位置位于涂布位置的下方11mm。
各实施例中的喷嘴位置,对于接触位置,玻璃基板与喷嘴上端的距离为10μm,对于涂布位置,玻璃基板与喷嘴上端的距离为220μm。
涂布速度为0.5m/min,涂布距离为70mm。
(比较例1)
涂布开始时没有使罐位置从接触位置下降到涂布位置的下方,而使罐位置从接触位置下降到涂布位置,这种状态下将涂布液涂布。如果使涂布液离开时平台停止,则同时使罐和喷嘴下降。本比较例中的罐位置,如果以涂布位置为基准,接触位置位于涂布位置的上方11mm,离开位置位于涂布位置的下方17mm。在接触和涂布位置的玻璃基板与喷嘴上端的距离与实施例1~4同样。
涂布速度为0.5m/min,涂布距离为190mm。
使用触针式膜厚计TENCOR社制、制品名:P-16+测定实施例1~4和比较例1中涂布的涂布膜的膜厚。图6~图10表示涂布膜的膜厚。横轴表示涂布方向X的距离。
如图6~9中所示,通过在开始涂布前控制罐位置,确认接触位置附近的涂布膜的厚膜部分从玻璃基板的涂布开始在涂布方向上以30mm左右收敛。进而,如果使用相对于总重量含有30重量%~50重量%的沸点不到170℃的低沸点溶剂的涂布液,确认能够使接触位置附近的涂布膜的厚膜部分进一步缩短,从玻璃基板的涂布开始在涂布方向上以10mm左右收敛。此外,通过在离开时使罐下降后使喷嘴下降,能够抑制离开位置附近的涂布膜的厚膜部分。
另一方面,如图10中所示,涂布开始时没有使罐位置从接触位置下降到涂布位置的下方,使罐位置从接触位置下降到涂布位置,这种状态下将涂布液涂布,涂布结束时平台停止的同时使罐和喷嘴同时下降,确认从涂布开始位置产生涂布方向的长度50mm左右的在接触位置附近的涂布膜的厚膜部分。还确认产生涂布方向的长度10mm左右的在离开位置附近的涂布膜的厚膜部分。
以上对本发明的实施方式进行了说明,但本发明并不限于上述实施方式,可以有各种的变形。
产业上的利用可能性
根据本发明的发光装置的制造方法,能够采用毛细管涂布法形成膜厚的不均匀受到抑制的有机EL层。
附图标记的说明
11 帽型涂布机系统
12 平台
13 喷嘴
14 罐
16 涂布液供给管
17 涂布液
18 传感器
19 被涂布体
21 填隙片
22 夹持体
23 狭缝状排出口
24 歧管
Claims (4)
1.一种发光装置的制造方法,
所述发光装置具有支撑基板及在所述支撑基板上设置的有机EL元件,所述有机EL元件通过将第一电极、有机EL层和第二电极依次在支撑基板上层叠而构成,
所述制造方法包括如下工序:
使喷嘴接近配置在该喷嘴的上方的包含所述支撑基板的被涂布体,使从喷嘴排出的涂布液与所述被涂布体接触,在所述涂布液与所述被涂布体接触的状态下,使所述被涂布体与所述喷嘴相对移动而将所述涂布液涂布成膜,形成所述有机EL层,所述喷嘴与贮存形成有机EL层的涂布液的罐连通,将从该罐供给的所述涂布液排出;
在使所述涂布液接触后,且使所述被涂布体与所述喷嘴相对移动前,在维持所述涂布液接触的状态下,使所述罐下降至比开始所述被涂布体与所述喷嘴的相对移动时的所述罐的位置还低的位置,然后,使所述罐上升到开始所述被涂布体与所述喷嘴的相对移动时的所述罐的位置。
2.如权利要求1所述的发光装置的制造方法,其中,
使所述涂布液离开时,使所述罐下降后再使所述喷嘴下降,使所述涂布液离开。
3.如权利要求1或2所述的发光装置的制造方法,其中,
所述涂布液包含沸点低于170℃的低沸点溶剂。
4.如权利要求1~3的任一项所述的发光装置的制造方法,其中,
所述涂布液包含相对于总重量为30重量%~50重量%的沸点低于170℃的低沸点溶剂。
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