CN103043545A - 一种回转机构及包括该回转机构的移动式起重机 - Google Patents

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CN103043545A CN 201210562128 CN201210562128A CN103043545A CN 103043545 A CN103043545 A CN 103043545A CN 201210562128 CN201210562128 CN 201210562128 CN 201210562128 A CN201210562128 A CN 201210562128A CN 103043545 A CN103043545 A CN 103043545A
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黄开鹏
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Abstract

本发明公开了一种回转机构及包括该回转机构的移动式起重机。公开的回转机构用于移动式起重机,包括回转支承、回转动力源和回转驱动齿轮,所述回转驱动齿轮安装在回转动力源的输出轴上;还包括至少两个行星齿轮,所述回转支承形成内齿圈;各所述行星齿轮均与所述内齿圈内啮合,同时各所述行星齿轮与均与所述回转驱动齿轮外啮合。利用该回转机构进行回转操作时,回转支承至少通过两个行星齿轮传递回转力,且通过至少两个行星齿轮与回转支承的内齿圈形成内啮合,可以使回转支承受力的轮齿的个数增加,减小单个轮齿的受力;这就可以更好地降低回转支承的应力集中,减小回转冲击,防止回转支承过载。

Description

一种回转机构及包括该回转机构的移动式起重机
技术领域
本发明涉及起重机技术,特别涉及一种回转机构,还涉及一种包括该回转机构的移动式起重机。
背景技术
轮式起重机或履带起重机是当前应用广泛的移动式起重机,通过转移工作场地,可以在不同的场景下完成起重作业,满足实际需要。
移动式起重机一般包括底盘和上车。上车通过回转机构可旋转地安装在底盘上,旋转中心线竖向延伸。回转机构有多种具体结构,一种已知的回转机构包括回转支承和回转驱动装置。回转支承与底盘固定,且回转支承形成外齿圈。回转驱动装置包括一个液压马达(作为回转动力源)和安装在液压马达输出轴上的回转驱动齿轮,液压马达安装在上车上,回转驱动齿轮与所述外齿圈啮合。在回转时,液压马达驱动回转驱动齿轮旋转,回转驱动齿轮与外齿圈啮合,外齿圈保持不动,对回转驱动齿轮的反作用力驱动液压马达及上车相对于底盘旋转,使上车绕竖向延伸的旋转中心线相对于底盘在360度范围内回转。
由于回转驱动齿轮一般与外齿圈的几个齿保持接触,这就使得在预定时刻回转支承仅一部承受的作用力导致回转支承受力不均匀,容易导致回转支承应力集中,进而产生过载;另外,在液压马达启动各停止瞬间,外齿圈与回转驱动齿轮之间会产生较大的冲击,增加回转支承应力集中,产生过载的可能性。随着移动式起重机的大型化和重型化发展,外齿圈的公称直径也不断增加,回转所需要的驱动力也不断加大,这就导致了外齿圈与回转驱动齿轮之间的作用力不断增加;这就更容易导致回转支承过载,使移动式起重机具有很大的安全隐患。
发明内容
有鉴于此,本发明提出一种回转机构,用于移动式起重机,利用该回转机械可以提高移动式起重机的安全性。
还提出一种包括上述回转机构的移动式起重机。
提供的回转机构,用于移动式起重机,包括回转支承、回转动力源和回转驱动齿轮,所述回转驱动齿轮安装在回转动力源的输出轴上;还包括至少两个行星齿轮,所述回转支承形成内齿圈;各所述行星齿轮均与所述内齿圈内啮合,同时各所述行星齿轮与均与所述回转驱动齿轮外啮合。
可选的,所述回转机构包括至少三个行星齿轮。
可选的,三个所述行星齿轮均匀分布在所述内齿圈和所述回转驱动齿轮的外周面之间。
可选的,所述回转驱动齿轮的齿顶圆直径为所述行星齿轮的齿顶圆直径的0.3~0.6倍。
可选的,所述内齿圈的厚度大于所述行星齿轮的厚度。
可选的,所述回转驱动齿轮的厚度大于所述行星齿轮的厚度。
提供的移动式起重机包括底盘、上车和回转机构,所述回转机构为上述任一种所述的回转机构;所述回转支承安装在所述底盘上,所述回转动力源安装在所述上车上,或者,所述回转支承安装在所述上车上,所述回转动力源安装在所述底盘上。
与已知技术相比,本发明提供的用于移动式起重机的回转机构中,除包括回转支承、回转动力源和回转驱动齿轮,所述回转驱动齿轮安装在回转动力源的输出轴上之外,还包括至少两个行星齿轮,所述回转支承形成内齿圈,各所述行星齿轮均与所述内齿圈内啮合,同时各所述行星齿轮与均与所述回转驱动齿轮外啮合。这样,在进行回转操作时,第一、回转支承至少通过两个行星齿轮传递回转力,第二、通过至少两个行星齿轮与回转支承的内齿圈形成内啮合,可以使回转支承受力的轮齿的个数增加,减小单个轮齿的受力;这就可以更好地降低回转支承的应力集中,防止回转支承过载。在大型化或重型化移动式起重机中,该回转机构可以更好地传递回转驱动力,减小回转冲击,防止回转支承过载,提高大型或重型移动式起重机的安全性能。
由于包括上述回转机构,提供的移动式起重机也具有相对应的技术效果。
附图说明
构成本发明的一部分的附图用来提供对本发明的进一步理解,本发明的示意性实施例及其说明用于解释本发明,并不构成对本发明的不当限定。在附图中:
图1为本发明实施例提供一种回转机构的立体结构示意图。
图中:
回转支承1、内齿圈11、环形台阶面12、回转驱动齿轮2、行星齿轮3、中心孔31、中心线O1。
具体实施方式
需要说明的是,在不冲突的情况下,本发明中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本发明。
请参考图1,该图为本发明实施例提供一种回转机构的立体结构示意图。该实施例提供的用于移动式起重机的回转机构包括回转支承1、回转动力源(图中未示出)和回转驱动齿轮2,回转驱动齿轮2安装在回转动力源的输出轴上;这样,回转动力源就可以带动回转驱动齿轮2旋转。另外,该回转机构还包括3个行星齿轮3。回转支承1形成内齿圈11,内齿圈11的中心线为O1。回转驱动齿轮2位于内齿圈11中,且其中心线与中心线O1重合。各行星齿轮3均匀分布在内齿圈11和回转驱动齿轮2的外周面之间;且三个行星齿轮3均与内齿圈11内啮合,同时回转驱动齿轮2位于三个行星齿轮3之间的位置,且各行星齿轮3与均与回转驱动齿轮2外啮合。
回转驱动齿轮2旋转时,通过行星齿轮3可以带动内齿圈11,使内齿圈相对于回转动力源旋转。这样,在进行回转操作时,第一、回转支承1至少通过3个行星齿轮3传递回转力,第二、通过3个行星齿轮3与回转支承1的内齿圈形成内啮合,可以使回转支承1受力的轮齿的个数增加,减小单个轮齿的受力;这就可以更好地降低回转支承1的应力集中,防止回转支承1过载。在大型化或重型化移动式起重机中,该回转机构可以更好地传递回转驱动力,减小回转冲击,防止回转支承过载,提高大型或重型移动式起重机的安全性能。
行星齿轮3的数量可以根据实际需要及内齿圈11与回转驱动齿轮2尺寸确定,可以为2个行星齿轮3,也可以为更多个行星齿轮3。行星齿轮3的布置可以根据受力需要确定,根据移动式起重机的实际工况,优选使多个行星齿轮均匀分布在内齿圈11和回转驱动齿轮2的外周面之间。
本例中,回转驱动齿轮2的齿顶圆直径为行星齿轮3的齿顶圆直径的0.3~0.6倍。这样,回转驱动齿轮2与行星齿轮3之间形成一级减速,行星齿轮3与内齿圈11之间形成二级减速,这样回转机构整体上就形成一个二组减速机构,这样可以更好地减小回转冲击,更进一步地降低回转支承1的应力,提高大型或重型移动式起重机的安全性能。
另外,还可以使内齿圈11的厚度大于行星齿轮3的厚度。以保证内齿圈11与行星齿轮3之间的啮合;还可以使回转驱动齿轮2的厚度大于行星齿轮3的厚度,以保证回转驱动齿轮2与行星齿轮3之间的啮合,保证回转机构的可靠性。
在提供上述回转机构的基础上,本发明还提供一种移动式起重机,该移动式起重机包括底盘和上车;还包括上述任一种回转机构;且回转支承1可以安装在所述底盘上,此时,所述回转动力源可以安装在所述上车上;也可以相反,即使回转支承1安装在所述上车上,并使回转动力源安装在所述底盘上。由于包括上述回转机构,该移动式起重机也具有相对应的技术效果。
以上所述仅为本发明的较佳实施例而已,并不用以限制本发明,凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (7)

1.一种回转机构,用于移动式起重机,包括回转支承(1)、回转动力源和回转驱动齿轮(2),所述回转驱动齿轮(2)安装在所述回转动力源的输出轴上;其特征在于,还包括至少两个行星齿轮(3),所述回转支承(1)形成内齿圈(11);各所述行星齿轮(3)均与所述内齿圈(11)内啮合,各所述行星齿轮(3)均与所述回转驱动齿轮(2)外啮合。
2.根据权利要求1所述的回转机构,其特征在于,包括三个行星齿轮(3)。
3.根据权利要求2所述的回转机构,其特征在于,三个所述行星齿轮(3)均匀分布在所述内齿圈(11)和所述回转驱动齿轮(2)的外周面之间。
4.根据权利要求1至3任一项所述的回转机构,其特征在于,所述回转驱动齿轮(2)的齿顶圆直径为所述行星齿轮(3)的齿顶圆直径的0.3~0.6倍。
5.根据权利要求1至3任一项所述的回转机构,其特征在于,所述内齿圈(11)的厚度大于所述行星齿轮(3)的厚度。
6.根据权利要求5所述的回转机构,其特征在于,所述回转驱动齿轮(2)的厚度大于所述行星齿轮(3)的厚度。
7.一种移动式起重机,包括底盘和上车,其特征在于,还包括权利要求1至6中任一项所述的回转机构;
所述回转支承(1)安装在所述底盘上,所述回转动力源安装在所述上车上,或者,所述回转支承(1)安装在所述上车上,所述回转动力源安装在所述底盘上。
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PB01 Publication
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
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