CN103009705A - 镀膜件及其制造方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种镀膜件，包括基体、依次形成于基体上阳极氧化膜、结合层及真空镀膜层，所述结合层为钛层或铬层，所述真空镀膜层为二氧化硅层或氧化铝层。该镀膜件呈现出高光泽的阳极氧化处理的外观，且所述结合层的形成可提高所述真空镀膜层与阳极氧化膜之间的结合力，进而避免所述阳极氧化膜与真空镀膜层直接结合而导致真空镀膜层发生开裂、剥落等现象。本发明还提供了所述镀膜件的制造方法。
Description
技术领域
本发明涉及一种镀膜件及其制造方法。
背景技术
现有技术，采用阳极氧化处理的方式在铝或铝合金表面形成一阳极氧化膜，在一定程度上可改善铝或铝合金基体的硬度、耐磨性、耐腐蚀性及装饰性，但阳极氧化膜存在表面粗糙、暗哑的缺点。
采用喷涂的方式于阳极氧化膜上喷涂一透明油漆层，可改善阳极氧化处理产品表面的触感；但喷涂过程中容易产生积漆、油漆层厚度不均等不良现象，且喷涂形成的涂层厚度较厚，如此将导致阳极氧化膜的颜色发生偏差、光泽度下降。此外，喷涂工艺易于造成环境污染。用真空镀膜方式代替喷涂形成一透明状的真空镀膜层可解决上述技术问题，但由于阳极氧化膜与真空镀膜层之间存在较大的内应力，易于导致膜层发生开裂、剥落等现象。
发明内容
鉴于此，本发明提供一种可解决上述问题的镀膜件。
另外，本发明还提供一种上述镀膜件的制造方法。
一种镀膜件，包括基体、依次形成于基体上阳极氧化膜、结合层及真空镀膜层，所述结合层为钛层或铬层，所述真空镀膜层为二氧化硅层或氧化铝层。
一种镀膜件的制造方法，其包括如下步骤：
提供基体；
通过阳极氧化处理的方式，在该基体的表面形成阳极氧化膜；
对所述阳极氧化膜表面进行抛光处理；
采用真空镀膜法，以钛靶或铬靶为靶材，在抛光后的阳极氧化膜上形成结合层，该所述结合层为钛层或铬层；
采用真空镀膜法，以硅靶或铝靶为靶材，以氧气为反应气体，在结合层上形成真空镀膜层，该真空镀膜层为二氧化硅层或氧化铝层。
本发明对所述阳极氧化膜进行抛光处理，且所述结合层及真空镀膜层均为无色透明状，使所述镀膜件在呈现阳极氧化处理的外观的同时呈现出高的光泽度。所述结合层的形成可提高所述真空镀膜层与阳极氧化膜之间的结合力，进而避免所述阳极氧化膜与真空镀膜层直接结合而导致真空镀膜层发生开裂、剥落等现象。所述真空镀膜层本身具有良好的硬度及耐磨性，可增强所述镀膜件的硬度及耐磨性。此外，该镀膜件的制造方法较为环保且良率较好。
附图说明
图1是本发明一较佳实施例镀膜件的剖视图；
图2是本发明一较佳实施例真空镀膜机的示意图。
主要元件符号说明
| 镀膜件 | 10 |
| 基体 | 11 |
| 阳极氧化膜 | 13 |
| 结合层 | 15 |
| 真空镀膜层 | 17 |
| 镀膜机 | 100 |
| 镀膜室 | 20 |
| 真空泵 | 30 |
| 轨迹 | 21 |
| 第一靶材 | 22 |
| 第二靶材 | 23 |
| 气源通道 | 24 |
如下具体实施方式将结合上述附图进一步说明本发明。
具体实施方式
请参阅图1，本发明一较佳实施例的镀膜件10包括基体11、依次形成于基体11上的阳极氧化膜13、结合层15及真空镀膜层17。该镀膜件10可以为电子装置外壳，也可以为钟表外壳、金属卫浴件、建筑用件及汽车零部件。
所述基体11的材质为可为铝、铝合金、镁、镁合金或其它可以进行阳极氧化处理的金属。
所述阳极氧化膜13表面形成有若干凸起131。
所述结合层15用以提高所述阳极氧化膜13与后续膜层之间的结合力。所述结合层15为钛（Ti）层或铬（Cr）层。所述结合层15的厚度为15~40nm。
所述真空镀膜层17用以提高所述镀膜件10的硬度及耐磨性。所述真空镀膜层17为二氧化硅（SiO2）层或氧化铝（Al2O3）层。所述真空镀膜层17的厚度为1~1.8μm。
所述结合层15及真空镀膜层17均为无色透明状。所述结合层15及真空镀膜层17均通过磁控溅射或真空蒸镀等真空镀膜的方式形成。
本发明镀膜件10的制造方法包括以下步骤：
提供基体11，该基体11的材质为可为铝、铝合金、镁、镁合金或其它可以进行阳极氧化处理的金属。
将基体11进行预处理。该预处理包括分别用去离子水和无水乙醇对基体11表面进行擦拭、以及用丙酮溶液对基体11进行超声波清洗等步骤。
通过阳极氧化处理的方式，在该基体11的表面形成阳极氧化膜13，并对该阳极氧化膜13进行常规的染色及封孔处理。所述阳极氧化膜13表面形成有若干凸起131。该阳极氧化处理的条件为：以含有180-220g/L的硫酸水溶液为电解液，所述电解液温度为19-21℃，阳极氧化处理时间为20-40min，电流密度为1-1.5A/m2。
对经上述处理后的基体11进行抛光处理，以提高所述阳极氧化膜13表面的光泽度，改善传统阳极氧化膜暗哑的缺点。提供一抛光机(未图示)，所述抛光机包括一布轮，将含有氧化铝粉末的悬浮状水溶液涂覆在该布轮上，对所述阳极氧化膜13的表面进行抛光，抛光的时间为30~50min。可以理解的，根据实际生产需要，可以对抛光处理的抛光液组分、抛光时间等参数进行调整。
结合参阅图2，提供一真空镀膜机100，该真空镀膜机100包括一镀膜室20及连接于镀膜室20的一真空泵30，真空泵30用以对镀膜室20抽真空。该镀膜室20内设有转架(未图示)、相对设置的二第一靶材22及相对设置的二第二靶材23。转架带动基体11沿圆形的轨迹21公转，且基体11在沿轨迹21公转时亦自转。每一第一靶材22及每一第二靶材23的两端均设有气源通道24，气体经该气源通道24进入所述镀膜室20中。其中，所述第一靶材22为钛靶或铬靶；所述第二靶材23为硅靶或铝靶。
采用磁控溅射镀膜法，在所述阳极氧化膜13上溅射一结合层15。所述结合层15为钛层或铬。溅镀该结合层15在所述真空镀膜机100中进行。开启第一靶材22，并设定第一靶材22的功率为6~15kw；以氩气为工作气体，调节氩气的流量为100~300sccm。溅镀时，对基体11施加-100~-300V的偏压，并加热所述镀膜室20至温度为10~200℃（即镀膜温度为10~200℃），镀膜时间为5~10min。
采用磁控溅射镀膜法，在所述结合层15上溅射一真空镀膜层17。所述真空镀膜层17为二氧化硅层或氧化铝层。开启第二靶材23，并设定第二靶材23的功率为6~15kw；以氧气为反应气体，调节氧气的流量为50~200sccm，以氩气为工作气体，调节氩气的流量为100~300sccm。溅镀时，对基体11施加-100~-300V的偏压，并加热所述镀膜室20至温度为20~200℃（即镀膜温度为20~200℃），镀膜时间为30~40min。
本发明对所述阳极氧化膜13进行抛光处理，且所述结合层15及真空镀膜层17均为无色透明状，使所述镀膜件10在呈现阳极氧化处理的外观的同时呈现出高的光泽度。所述结合层15的形成可提高所述真空镀膜层17与阳极氧化膜13之间的结合力，进而避免所述阳极氧化膜13与真空镀膜层17直接结合而导致真空镀膜层17发生开裂、剥落等现象。所述真空镀膜层17本身具有良好的硬度及耐磨性，可增强所述镀膜件10的硬度及耐磨性。此外，该镀膜件10的制造方法较为环保且良率较好。
Claims (10)
1.一种镀膜件，包括基体及形成于基体表面的阳极氧化膜，其特征在于：所述镀膜件还包括依次形成于该阳极氧化膜表面的结合层及真空镀膜层，所述结合层为钛层或铬层，所述真空镀膜层为二氧化硅层或氧化铝层。
2.如权利要求1所述的镀膜件，其特征在于：所述结合层通过真空镀膜的方式形成。
3.如权利要求1所述的镀膜件，其特征在于：所述结合层的厚度为15~40nm。
4.如权利要求1所述的镀膜件，其特征在于：所述真空镀膜层的厚度为1~1.8μm。
5.如权利要求1所述的镀膜件，其特征在于：所述结合层为无色透明状。
6.如权利要求1所述的镀膜件，其特征在于：所述真空镀膜层为无色透明状。
7.一种镀膜件的制造方法，其包括如下步骤：
提供基体；
通过阳极氧化处理的方式，在该基体的表面形成阳极氧化膜；
对所述阳极氧化膜表面进行抛光处理；
采用真空镀膜法，以钛靶或铬靶为靶材，在抛光后的阳极氧化膜上形成结合层，该结合层为钛层或铬层；
采用真空镀膜法，以硅靶或铝靶为靶材，以氧气为反应气体，在结合层上形成真空镀膜层，该真空镀膜层为二氧化硅层或氧化铝层。
8.如权利要求7所述的镀膜件的制造方法，其特征在于：形成所述结合层的方法为：采用磁控溅射镀膜法，设置钛靶或铬靶的功率为6~15kw，以氩气为工作气体，氩气的流量为100~300sccm，施加于基体的偏压为-100~-300V，镀膜温度为10~200℃，镀膜时间为5~10min。
9.如权利要求7所述的镀膜件的制造方法，其特征在于：形成所述结合层的方法为：采用磁控溅射镀膜法，设置硅靶或铝靶的功率为6~15kw，以氧气为反应气体，调节氧气的流量为50~200sccm，以氩气为工作气体，氩气的流量为100~300sccm，施加于基体的偏压为-100~-300V，镀膜温度为10~200℃，镀膜时间为30~40min。
10.如权利要求7所述的镀膜件的制造方法，其特征在于：所述抛光处理的工艺为：采用一抛光机，所述抛光机包括一布轮，将含有氧化铝粉末的悬浮状水溶液涂覆在该布轮上，对所述阳极氧化膜的表面进行抛光，抛光的时间为30~50min。
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