CN102976738A - 高抗压强度永磁铁氧体磁体的制造工艺 - Google Patents

高抗压强度永磁铁氧体磁体的制造工艺 Download PDF

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周连明
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Abstract

本发明公开了一种高抗压强度永磁铁氧体磁体制造工艺，包括下列步骤：（1）按照常规工艺制造永磁铁氧体瓦形磁体；（2）将步骤（1）中的瓦形磁体装入耐火钵内；（3）将耐火钵放入常温烧结炉内并且在1-7h之内逐渐升温到900℃；（4）保温2-3h后按照10-140℃/min的速度逐渐进行降温；（5）测量磁体抗压强度值并检验外观；（6）产品包装入库，即可。本发明几乎不降低磁体的矫顽力，其抗压强度值，与常规工艺未回火技术处理的同类磁体提高30％以上。

Description

高抗压强度永磁铁氧体磁体的制造工艺
技术领域
本发明涉及一种磁性材料技术领域，具体涉及一种永磁铁氧体磁体的制造工艺。
背景技术
永磁铁氧体磁体用于各种电机中作励磁成为不可缺少的元件，电机在工作中经受振动、冲击、高低温变化环境常见，在这些过程中，磁体的抗压程度好坏十分重要。
发明内容
发明目的：本发明的目的是为了弥补现有技术的不足，目的在于提供一种经过回火工艺技术使得抗压强度得到提高的永磁铁氧体磁体的制造工艺。
本发明采用的技术方案：一种高抗压强度永磁铁氧体磁体制造工艺，包括下列步骤：
（1）    按照常规工艺制造永磁铁氧体瓦形磁体；
（2）    将步骤（1）中的瓦形磁体装入耐火钵内；
（3）    将耐火钵放入常温烧结炉内并且在1-7h之内逐渐升温到900℃；
（4）    保温2-3h后按照10-140℃/min的速度逐渐进行降温，
（5）    测量磁体抗压强度值并检验外观；
（6）    产品包装入库，即可。
作为优选，步骤（4）中，耐火钵内的温度从800℃降到100℃。
有益效果：本发明和现有技术相比，几乎不降低磁体的矫顽力，其抗压强度值，与常规工艺未回火技术处理的同类磁体提高30％以上。
具体实施方式
实施例1
一种高抗压强度永磁铁氧体磁体制造工艺，包括下列步骤：
（1）规工艺制造永磁铁氧体瓦形磁体；
（2）将步骤（1）中的瓦形磁体装入耐火钵内；
（3）将耐火钵放入常温烧结炉内并且在1h之内逐渐升温到900℃；
（4）保温2h后按照10℃/min的速度逐渐进行降温，
（5）测量磁体抗压强度值并检验外观；
（6）产品包装入库，即可。
步骤（4）中，耐火钵内的温度从800℃降到100℃。表1中，是汽车刹车电机用磁体采用上述回火工艺技术所抗压强度对照表。
实施例2
一种高抗压强度永磁铁氧体磁体制造工艺，包括下列步骤：
（1）    按照常规工艺制造永磁铁氧体瓦形磁体；
（2）    将步骤（1）中的瓦形磁体装入耐火钵内；
（3）    将耐火钵放入常温烧结炉内并且在6h之内逐渐升温到900℃；
（4）    保温2-3h后按照100℃/min的速度逐渐进行降温，
（5）    测量磁体抗压强度值并检验外观；
（6）    产品包装入库，即可。
步骤（4）中，耐火钵内的温度从800℃降到100℃。表1中，是汽车刹车电机用磁体采用上述回火工艺技术所抗压强度对照表。
实施例3
一种高抗压强度永磁铁氧体磁体制造工艺，包括下列步骤：
（1）    按照常规工艺制造永磁铁氧体瓦形磁体；
（2）    将步骤（1）中的瓦形磁体装入耐火钵内；
（3）    将耐火钵放入常温烧结炉内并且在7h之内逐渐升温到900℃；
（4）    保温3h后按照140℃/min的速度逐渐进行降温，
（5）    测量磁体抗压强度值并检验外观；
（6）    产品包装入库，即可。
步骤（4）中，耐火钵内的温度从800℃降到100℃。表1中，是汽车刹车电机用磁体采用上述回火工艺技术所抗压强度对照表。
下面提出汽车刹车电机用磁体采用上述回火工艺技术所抗压强度对照表：
Figure 806423DEST_PATH_IMAGE002
                                       表1

Claims (2)

1.一种高抗压强度永磁铁氧体磁体制造工艺，其特征在于：包括下列步骤：
按照常规工艺制造永磁铁氧体瓦形磁体；
将步骤（1）中的瓦形磁体装入耐火钵内；
将耐火钵放入常温烧结炉内并且在1-7h之内逐渐升温到900℃；
保温2-3h后按照10-140℃/min的速度逐渐进行降温，
测量磁体抗压强度值并检验外观；
产品包装入库，即可。
2.如权利要求1所述的高抗压强度永磁铁氧体磁体制造工艺，其特征在于：步骤（4）中，耐火钵内的温度从800℃降到100℃。
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PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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