CN102922736B - 一种薄膜真空展平装置及其应用 - Google Patents

Abstract

一种薄膜真空展平方法、真空展平装置及其应用，其中所述方法为在薄膜行进的过程中，在所述薄膜的两侧，分别设有一个以上的真空展平装置，真空展平装置将薄膜平整地吸附在真空展平装置的设有吸附孔的吸附件上，并通过驱动机构将吸附件带着薄膜向薄膜外侧移动，从而将薄膜展平。本发明由于采用了在所述薄膜的两侧，分别设有一个以上的真空展平装置，真空展平装置将薄膜平整地吸附在真空展平装置的设有吸附孔的吸附件上，并通过驱动机构将吸附件带着薄膜向薄膜外侧移动，从而将薄膜展平的方法，使得本发明具有薄膜在移动过程中，可使薄膜向垂直于移动方向的两侧展平，展示效果好且对薄膜无伤害的优点。

Description

一种薄膜真空展平装置及其应用

技术领域    

     本发明涉及一种用于在薄膜的生产过程中或在薄膜的再加工过程中的薄膜真空展平方法、真空展平装置及其应用。

背景技术    

  本发明中所指的薄膜泛指厚度在30μ以下的薄膜，它包括塑料薄膜或金属薄膜（以金属铂膜为常见）。

在薄膜的生产过程中，存在拉膜和收卷过程，由于薄膜被拉伸到一定厚度以后，薄膜的两侧边很容易起皱，如果不对薄膜不进行展平，收卷时收卷后薄膜就会产生褶皱，这是不合符产品要求的，因此，在薄膜的生产过程中，会在薄膜的移动过程中，加装一些展平辊，常用的展平辊是螺纹展平辊，在螺纹展平辊的表面自中央向两侧对称分布有分别向两侧倾斜的螺纹，当薄膜接触其螺纹面时，与螺纹展平辊面上的螺纹产生摩擦，倾斜的螺纹将基材向螺纹展平辊两端扩展，使薄膜得以展平。这种螺纹展平辊是依靠薄膜与与螺纹展平辊面上的螺纹产生摩擦，而使薄膜展平的，但是，在薄膜的生产过程中，往往薄膜与螺纹展平辊面上的螺纹不能压的太紧，否则，就会造成薄膜纵向拉伸过渡。因此，使用螺纹展平辊来对低于30μ以下的薄膜进行展平，其展平效果不是很理想。 

在薄膜的再加工过程中，一般都需要经过放卷、薄膜表面处理（如涂布、印花或吸塑等）、后加工（如干燥）后，再进行收卷，在这几个过程中，都需要对薄膜进行有效地展平，否则，在每一个阶段都会产生褶皱，一旦薄膜产生褶皱，所生产的产品就会成为次品或废品。在薄膜的再加工过程中，最常用的展平方法是使用螺纹展平辊，螺纹展平辊是在螺纹展平辊的表面自中央向两侧对称分布有分别向两侧倾斜的螺纹，当薄膜接触其螺纹面时，与螺纹展平辊面上的螺纹产生摩擦，倾斜的螺纹将基材向螺纹展平辊两端扩展，使薄膜得以展平。如前所述，这种螺纹展平辊是依靠薄膜与与螺纹展平辊面上的螺纹产生摩擦，而使薄膜展平的，但是，在薄膜的生产过程中，往往薄膜与螺纹展平辊面上的螺纹不能压的太紧，否则，就会造成薄膜纵向拉伸过渡。因此，使用螺纹展平辊来对低于30μ以下的薄膜进行展平，其展平效果不是很理想。 

有人提出了一些方案，欲解决薄膜在运行过程中的展平问题，但其方案的展平效果也不是很理想。如中国专利CN102582209公开的薄膜涂敷装置和涂敷薄膜真空展平方法，其中，所公开的薄膜真空展平方法利用展平箱内部设置的N个空腔经对应电磁阀控制与负压风机的进气口连通而形成负压，N=1,2…n；该展平箱表面吸附气孔对贴近其上的沿长度方向移动的带状涂敷薄膜产生吸附力，使涂敷薄膜贴紧展平箱上的倾斜凸起筋移动，并受到凸起筋的引导而向涂敷薄膜宽度方向两外侧展平，使涂敷薄膜褶皱展平。这种展平装置及方法，不仅存在结构复杂，其在实际运用中，由于展平箱底面上的倾斜凸起筋的存在，在展平薄膜的过程中还会使薄膜产生二次褶皱。 

发明内容   

     为了克服上述问题，本发明向社会提供一种薄膜在移动过程中，可使薄膜向垂直于移动方向的两侧展平，展示效果好且对薄膜无伤害的薄膜真空展平方法、真空展平装置及其应用。

本发明的技术方案是：提供一种薄膜真空展平方法，在薄膜行进的过程中，在所述薄膜的两侧，分别设有一个以上的真空展平装置，真空展平装置将薄膜平整地吸附在真空展平装置的设有吸附孔的吸附件上，并通过驱动机构将吸附件带着薄膜向薄膜外侧移动，从而将薄膜展平。 

作为对本发明的改进，所述薄膜的厚度是大于等于5μ小于等于50μ。 

作为对本发明的改进，所述薄膜是塑料薄膜或金属薄膜。 

作为对本发明的改进，所述吸附孔的孔径可以在大于等于0.5mm小于等于3mm之间选择。 

本发明还提供一种真空展平装置，包括与负压源连接的负压源器件和设有许多吸附孔的吸附件，所述吸附件相对于所述负压源器件运动，并被负压源器件有选择性控制吸附件上的部分吸附孔与外界相通。 

优选的，所述负压源器件是具有第一端面和第二端面的圆筒，在所述圆筒的第一端面上设有吸附窗，所述带有吸附孔的吸附件为一圆盘，所述圆盘设置在圆筒的第一端面的内侧或外侧，所述圆盘相对于圆筒的第一端面旋转，露出于吸附窗的圆盘上的吸附孔为工作孔。 

优选的，所述吸附窗的面积占第一端面的面积的十分之一至四分之一。 

优选的，所述负压源器件是具有一开口的矩形腔体，所述吸附件为带有吸附孔的环形平面带，所述环形平面带由主动辊和被动辊张紧，所述矩形腔体设在环形平面带的内侧，并且矩形腔体的开口与环形平面带的内底面紧贴，所述主动辊带动环形平面带旋转，处于开口处的吸附孔为工作孔。 

优选的，所述负压源器件是具有第一端面和第二端面的圆筒，在所述负压源器件的外表面设有成排的与负压源相通的软管，旋转负压源器件使软管分别与薄膜接触，并被所述与薄膜接触的软管吸附住。 

本发明还提供所述的真空展平装置在涂布机、印刷机、薄膜制备设备及吸塑机上的应用。 

本发明由于采用了在所述薄膜的两侧，分别设有一个以上的真空展平装置，真空展平装置将薄膜平整地吸附在真空展平装置的设有吸附孔的吸附件上，并通过驱动机构将吸附件带着薄膜向薄膜外侧移动，从而将薄膜展平的方法，使得本发明具有薄膜在移动过程中，可使薄膜向垂直于移动方向的两侧展平，展示效果好且对薄膜无伤害的优点。 

附图说明

图1是本发明的真空展平装置的一种实施例的平面结构示意图。 

图2是图1的A向视图示意图。 

图3是本发明的真空展平装置的第二种实施例的平面结构示意图。 

图4是图3的B向视图示意图。 

图5是本发明的真空展平装置的第三种实施例的平面结构示意图。 

图6是图5的C向视图示意图。 

图7是本发明的真空展平装置的第四种实施例的平面结构示意图。 

图8是图7的D向视图示意图。 

具体实施方式

 本发明提供一种薄膜真空展平方法，薄膜生产或薄膜使用的过程中，往往需要将薄膜展开和展平，以利后道工序作业，本发明在薄膜行进的过程中，在所述薄膜的两侧（即薄膜垂直于其行进方向的两侧边），分别设有一个以上的真空展平装置，真空展平装置可以对称设置，也可以错位设置，真空展平装置将薄膜平整地吸附在真空展平装置的设有吸附孔的吸附件上，并通过驱动机构将吸附件带着薄膜向薄膜外侧移动，从而将薄膜展平。 

本发明中，所述薄膜的厚度是大于等于5μ小于等于50μ。所述薄膜可以是塑料薄膜或金属薄膜。所述吸附孔的孔径可以在大于等于0.5mm小于等于3mm之间选择。 

为了实现上述方法，本发明还提供了一种真空展平装置，包括与负压源连接的负压源器件和设有许多吸附孔的吸附件，所述吸附件相对于所述负压源器件运动，并被负压源器件有选择性控制吸附件上的部分吸附孔与外界相通。 

具体地说，真空吸附装置可以有下述几种结构，显然，本发明所列举的结构包含但不限于下述几种实施例结构，凡是依本发明的精神所构造出的其它结构，均应属于本发明的范畴。 

请参见图1和图2，图1和图2所揭示的是一种真空展平装置，所述负压源器件1是具有第一端面11和第二端面12的圆筒，负压源器件1通过真空接口14与负压源连接，在所述圆筒的第一端面11上设有吸附窗13，所述带有吸附孔21的吸附件2为一圆盘，所述圆盘2设置在圆筒的第一端面11的内侧，所述圆盘通过马达3及齿轮4的带动，可相对于圆筒的第一端面11旋转，这时，露出于吸附窗13的圆盘上的吸附孔21为工作孔，把本发明的真空展平装置通过安装侧板5安装于薄膜6的两侧下方，图中只画出了对薄膜的一侧展平的情况，薄膜的另一侧展平的情况是同样的，并使圆盘尽可能的贴近薄膜6的第二端面，由于负压源器件1内总是处于负压状态，这样，当圆盘上的吸附孔（孔径可以在大于等于0.5mm小于等于3mm之间选择）在马达3的带动下，旋转到正对吸附窗13时，工作孔就会将薄膜吸住，并向薄膜的外侧展平；本发明中，所述吸附窗13的面积可以在占第一端面11的面积的十分之一至四分之一之间选择，圆盘内置时，圆筒的第一端面11要尽可能的薄，且具有一定的软度，这样，就不会因为第一端面11的厚度，而对薄膜造成二次褶皱，一般可将第一端面11的厚度设计为0.1-0.3mm。比较好的方式是将圆盘设置在圆筒的第一端面11的外侧，由于圆盘是一平面，就不会对存在对薄膜造成二次褶皱的可能。这种真空展平装置通过高整旋转的马达3带动圆盘高速旋转，使圆盘上吸附孔21间断地经过第一端面11的吸附窗13，在吸附窗内吸附薄膜6，并将薄膜6的侧边向薄膜的外侧吸附展平，其展平效果非常好，适合于薄膜在行进过程中的展平。 

请参见图3和图4，图3和图4揭示地第二种真空展平装置，所述负压源器件1是具有一开口的矩形腔体10，所述吸附件2为带有吸附孔21的环形平面带101，所述环形平面带101由主动辊102和被动辊103张紧，所述矩形腔体10设在环形平面带101的内侧，并且矩形腔体10的开口与环形平面带101的内底面紧贴，由马达3驱动的主动辊102带动环形平面101带旋转，处于开口处的吸附孔21为工作孔。把本发明的真空展平装置通过安装侧板5安装于薄膜6的两侧下方，图中只画出了对薄膜的一侧展平的情况，薄膜的另一侧展平的情况是同样的，并使环形平面带101尽可能的贴近薄膜6的第二端面，由于负压源器件1内总是处于负压状态，这样，当环形平面带101上的吸附孔（孔径可以在大于等于0.5mm小于等于3mm之间选择）在马达3的带动下，旋转到正对矩形腔体10的开口时，工作孔就会将薄膜6吸住，并向薄膜6的外侧展平；本发明中，所述矩形腔体10的开口的面积可以在占环形平面带101的面积的十分之一至四分之一之间选择。这种真空展平装置通过高整旋转的马达3带动环形平面带101高速旋转，使环形平面带101上吸附孔21间断地经过矩形腔体10的开口，在开口处吸附薄膜6，并将薄膜6的侧边向薄膜的外侧吸附展平，其展平效果非常好，适合于薄膜在行进过程中的展平。 

请参见图5和图6，图5和图6揭示的是第三种真空展平装置，所述负压源器件1是具有第一端面11和第二端面12的圆筒，在所述园筒的筒身上设有成排的与负压源内空相通的软管20，旋转负压源器件1使软管20分别与薄膜6接触，并被所述与薄膜6接触的软管20吸附住，将薄膜6的侧边向薄膜6的外侧吸附展平。这种真空展平装置结构简单，但是存在的问题是绝大部分软管20处于漏气状态，需要较强真空度，此真空展平装置才可以正常工作。 

请参见图7和图8，图7和图8揭示的是第四种真空展平装置，所述负压源器件1是具有第一端面11和第二端面12的圆筒，在所述园筒的筒身上设有许多与负压源内空相通的吸附孔21，将所述设在所述隔膜6的下底面，并紧贴隔膜6的下底面，与隔膜6的横线倾斜角度ａ，角度ａ可以5-20度之间选择；旋转负压源器件1使吸附孔与薄膜6接触，并被所述与薄膜6接触的吸附孔21吸附住，将薄膜6的侧边向薄膜6的外侧吸附展平。本实施例中，所述真空展平装置是通过马达3、齿轮4进行驱动的。 

本发明还提供所述的真空展平装置在涂布机、印刷机、薄膜制备设备及吸塑机上的应用。 

Claims (2)

1.一种真空展平装置，其特征在于：包括与负压源连接的负压源器件和设有许多吸附孔的吸附件，所述吸附件相对于所述负压源器件运动，并被负压源器件有选择性控制吸附件上的部分吸附孔与外界相通；所述负压源器件是具有第一端面和第二端面的圆筒，在所述负压源器件的外表面设有成排的与负压源相通的软管，旋转负压源器件使软管分别与薄膜接触，并被所述与薄膜接触的软管吸附住。

2.权利要求1所述的真空展平装置在涂布机、印刷机、薄膜制备设备及吸塑机上的应用。