CN102921590A - 喷涂设备 - Google Patents

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黄立明
吴思明
茅立安
陈云
陈芳红
胡兴贤
上官石明
胡迎亮
朱刚
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Zhejiang Mingquan Industrial Coating Co Ltd
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Zhejiang Mingquan Industrial Coating Co Ltd
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Abstract

本发明公开了一种喷涂设备，包括喷涂房和回收装置，所述喷涂房设有喷涂腔，所述喷涂腔的上部设有下滑轨，所述滑轨滑动配合立柱的一端，所述立柱的另一端与上滑轨滑动配合，所述立柱上设有用于吊装工件的挂钩，所述回收装置设有吸入箱，所述吸入箱的下方设有收集箱，所述收集箱内设有过滤框。本发明的喷涂设备结构简便，成本低廉，密封性好，喷涂粉末回收率高，污染小。

Description

喷涂设备
技术领域
本发明涉及一种金属钣金表面处理领域，尤其涉及一种喷涂设备。 
背景技术
静电粉末喷涂工艺出现十20世纪60年代，主要是应用于金属表面涂装。随着我国制造业的迅速发展，由于粉末喷涂技术具有良好的环保性能、操作简单、不含有机溶剂、涂膜性能优异等独特的优势，在金属表面处理中所占有的比例逐年持续增长，至今已大部分取代了原有的油漆涂装工艺。与油漆工艺类似，粉末喷涂工艺也是将工件置于半封闭的空间(即喷室)中喷涂，防止未上工件的粉末向周围扩散;但与油漆工艺不同的是在这个喷室内可有效的进行粉末回收。因此需要一种结构紧凑，密封性好，粉末回收率较高的设备。 
发明内容
本发明为了背景技术中所涉及的问题，提供了一种喷涂设备。 
本发明的技术方案是：一种喷涂设备，包括喷涂房和回收装置，所述喷涂房设有喷涂腔，所述喷涂腔的上部设有下滑轨，所述滑轨滑动配合立柱的一端，所述立柱的另一端与上滑轨滑动配合，所述立柱上设有用于吊装工件的挂钩，所述回收装置设有吸入箱，所述吸入箱的下方设有收集箱，所述收集箱内设有过滤框。 
作为一种优选，所述喷涂房固连有支架，所述支架固连上滑轨。 
作为一种优选，所述过滤框由无纺布制成。 
作为一种优选，位于所述喷涂房的顶部设有换气窗。 
作为一种优选，所述上滑轨的横截面形状为梯形或工字形。 
作为一种优选，所述下滑轨的横截面形状为V形。 
综上所述，本发明具有以下优点： 
本发明的喷涂设备结构简便，成本低廉，密封性好，喷涂粉末回收率高，污染小。
附图说明
图1为本发明实施例的示意图。 
具体实施方式
下面结合附图以实施例对本发明作进一步说明。 
如图1所示，一种喷涂设备，包括喷涂房1和回收装置2，所述喷涂房1设有喷涂腔11，所述喷涂腔11的上部设有下滑轨12，所述滑轨12滑动配合立柱13的一端，所述立柱13的另一端与上滑轨14滑动配合，所述立柱13上设有用于吊装工件的挂钩，所述回收装置2设有吸入箱21，所述吸入箱21的下方设有收集箱22，所述收集箱22内设有过滤框23。所述喷涂房1固连有支架15，所述支架15固连上滑轨14。所述过滤框23由无纺布制成。位于所述喷涂房1的顶部设有换气窗16。所述上滑轨14的横截面形状为梯形或工字形。所述下滑轨12的横截面形状为V形。 
以上说明仅仅是对本发明的解释，使得本领域普通技术人员能完整的实施本方案，但并不是对本发明的限制，本领域技术人员在阅读完本说明书后可以根据需要对本实施例做出没有创造性贡献的修改，这些都是不具有创造性的修改。但只要在本发明的权利要求范围内都受到专利法的保护。 

Claims (6)

1.一种喷涂设备，包括喷涂房（1）和回收装置（2），其特征在于：所述喷涂房（1）设有喷涂腔（11），所述喷涂腔（11）的上部设有下滑轨（12），所述滑轨（12）滑动配合立柱（13）的一端，所述立柱（13）的另一端与上滑轨（14）滑动配合，所述立柱（13）上设有用于吊装工件的挂钩，所述回收装置（2）设有吸入箱（21），所述吸入箱（21）的下方设有收集箱（22），所述收集箱（22）内设有过滤框（23）。
2.根据权利要求1所述的一种喷涂设备，其特征在于：所述喷涂房（1）固连有支架（15），所述支架（15）固连上滑轨（14）。
3.根据权利要求1所述的一种喷涂设备，其特征在于：所述过滤框（23）由无纺布制成。
4.根据权利要求1至3任一所述的一种喷涂设备，其特征在于：位于所述喷涂房（1）的顶部设有换气窗（16）。
5.根据权利要求1至3任一所述的一种喷涂设备，其特征在于：所述上滑轨（14）的横截面形状为梯形或工字形。
6.根据权利要求5所述的一种喷涂设备，其特征在于：所述下滑轨（12）的横截面形状为V形。
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PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C12 Rejection of a patent application after its publication
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

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