CN102914949B - 一种用于扫描式无掩膜光刻机倾斜slm曝光的数据处理方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种用于扫描式无掩膜光刻机倾斜SLM曝光的数据处理方法，包括对矢量数据的存储、栅格化处理、对数据进行重新组合、扫描曝光时按指定规则读取组合后的数据进行曝光。本发明提高了扫描式无掩膜光刻机的曝光分辨率，在同样的SLM物理网格精度下成倍的提高曝光精度。
Description
技术领域
本发明涉及倾斜式无掩膜直写光刻技术领域，具体为一种用于扫描式无掩膜光刻机倾斜SLM曝光的数据处理方法。
背景技术
光刻数据处理，是以GDSII、OASIS、GERBER等格式的文件为输入数据，通过一系列处理，输出光刻设备可以直接曝光使用的数据的过程。
空间光调制器（SLM），可以接收光刻设备数据处理模块处理后的图像数据，生成曝光图像，通过光学系统反射到处于运动平台上的待加工面上。
通过对SLM进行倾斜方式的安装，可以在曝光过程中获得更高的网格精度。
本专利所述的数据处理方法，可以产生特殊格式的曝光数据，满足倾斜后SLM对数据的高速读取的需求。
发明内容
本发明的目的是提供一种用于扫描式无掩膜光刻机倾斜SLM曝光的数据处理方法，能够有效提高扫描式无掩膜光刻机的曝光产能，提高曝光结果图形的网格精度。
为了达到上述目的，本发明所采用的技术方案为：
一种用于扫描式无掩膜光刻机倾斜SLM曝光的数据处理方法，其特征在于，包括以下步骤：
（1）输入矢量数据，并将矢量数据缓存在计算机内存中，通过一定的计算和处理，为矢量数据建立便于处理的结构；
（2）对具有一定结构的矢量数据进行栅格化处理，栅格化处理的单帧图像大小由空间光调制器即SLM的宽度和倾斜的角度来确定，每个栅格的大小即曝光实现的网格精度和SLM倾斜时的倾斜角度相关，栅格化的数据量也和SLM倾斜时的倾斜角度有关，倾斜角度是指SLM的成像面在和扫描平台平行的水平方向旋转的角度，假设倾斜角度为θ，倾斜角度θ的正弦值为所要实现的网格精度和SLM实际物理的网格精度之比，由公式可以计算出N值，N值是SLM进行刷新时显示周期的值；
（3）通过对栅格化后的图像进行数据的重新组合，倾斜安装的SLM从组合后的数据中按行读取数据并进行曝光；实现了倾斜SLM进行曝光时快速读取图像数据，因为硬件处理数据时按行顺序读取才可以实现最高速率。
所述步骤（1）中，保存在计算机内存中的矢量数据的结构包括有分层、分单元、互相引用。
本发明的优点是：
本发明使得矢量数据在倾斜SLM的曝光条件下转化成可以供快速读取的特殊栅格数据，实现更快的曝光速度和更高的曝光图形分辨率。
附图说明
图1为SLM倾斜方式示意图。
图2为矢量图形数据存储结构示意图。
图3为待曝光的尚未进行重组的栅格数据示意图。
图4为栅格数据重组示意图。
图5为图4中所示的被取出行数据在SLM上的排布方式示意图。
具体实施方式
如图1所示，SLM倾斜一个预先设计的角度θ，该角度θ由系统所要实现的网格精度来确定，根据公式可以由该倾斜角度计算出一个整数N，假设N计算得到的值为4。在图1中1是没有倾斜前的SLM，2是倾斜后的SLM，3是倾斜的角度，该图中设SLM只有四行显示单元。
对于计算机内存中按图2格式存储的图形数据，因为是分区域存储，所以能以较快的速度取出其中一块，然后进行栅格化处理，栅格化的精度由系统所要实现的网格精度来确定，栅格化处理后的结果如图3所示。对栅格化后的数据，因为N取值为4，所以按每4列为一个周期进行编号。
图4是对图3的栅格数据进行重组后得到的结果。数据重组的过程是：首先按照系统设定的N值为周期，给每一列的栅格数据按照图3的方式进行编号。将编号后的每一列数据按照图4所示的方式进行重新组合，得到新的数据。
曝光时，曝光平台按照扫描方向5进行匀速扫描运动，每运动一个网格精度的距离后，给SLM发出一个信号，SLM得到信号后，从图4所示的组合后的数据中依次取出一行数据4，按照图5所示的方式显示到SLM上，同时曝光到平台上的光敏感的介质上。
Claims (2)
1.一种用于扫描式无掩膜光刻机倾斜SLM曝光的数据处理方法，其特征在于，包括以下步骤：
（1）输入矢量数据，并将矢量数据缓存在计算机内存中，通过一定的计算和处理，为矢量数据建立结构；
（2）对具有一定结构的矢量数据进行栅格化处理，栅格化处理的单帧图像大小由空间光调制器即SLM的宽度和倾斜的角度来确定，每个栅格的大小即曝光实现的网格精度和SLM倾斜时的倾斜角度相关，栅格化的数据量也和SLM倾斜时的倾斜角度有关，倾斜角度是指SLM的成像面在和扫描平台平行的水平方向旋转的角度，假设倾斜角度为θ，倾斜角度θ的正弦值为所要实现的网格精度和SLM实际物理的网格精度之比，由公式可以计算出N值，N值是SLM进行刷新时显示周期的值，N为整数；
（3）通过对栅格化后的图像进行数据的重新组合，数据重组的过程是：首先按照系统设定的N值为周期，将栅格化的数据按照列分成N分，将栅格化的图形列数除以N，余数相同的组合在一起，再将每一份的栅格化的图像数据按照列依次向下移动一行，将移动之后的数据按照1，N，N-1，N-2,----,2组合在一起，其中，N相对于1向下平移N+1行，其他的相邻两块向下平移N行，倾斜安装的SLM从组合之后的数据按行读取，并进行曝光；实现了倾斜SLM进行曝光时快速读取图像数据；
所述N=4。
2.根据权利要求1所述的一种用于扫描式无掩膜光刻机倾斜SLM曝光的数据处理方法，其特征在于：所述步骤（1）中，保存在计算机内存中的矢量数据的结构包括有分层、分单元、互相引用。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| CN201210345173.8A CN102914949B (zh) | 2012-09-17 | 2012-09-17 | 一种用于扫描式无掩膜光刻机倾斜slm曝光的数据处理方法 |
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Family Applications (1)
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| CN201210345173.8A Active CN102914949B (zh) | 2012-09-17 | 2012-09-17 | 一种用于扫描式无掩膜光刻机倾斜slm曝光的数据处理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN102914949B (zh) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9128385B2 (en) * | 2013-08-19 | 2015-09-08 | Apple Inc. | Adaptive photomasks and methods for using the same |
| CN103777474B (zh) * | 2014-03-04 | 2016-03-23 | 苏州大学 | 一种并行激光直写系统及光刻方法 |
| CN104216238B (zh) * | 2014-09-15 | 2017-02-08 | 江苏影速光电技术有限公司 | 一种在fpga中实现直写式光刻机数据倾斜的方法 |
| CN110765476B (zh) * | 2019-10-25 | 2023-05-26 | 苏州悦谱半导体有限公司 | 一种应用于光刻机上位机向下位机传输数据的方法 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1900827A (zh) * | 2005-06-30 | 2007-01-24 | Asml控股有限公司 | 无掩模光刻实时图案光栅化和实现最佳特征表示的方法和系统 |
| EP1060443B1 (en) * | 1998-03-02 | 2008-06-18 | Micronic Laser Systems Ab | Improved modulator design for pattern generator |
| CN102656514A (zh) * | 2009-12-14 | 2012-09-05 | 派因布鲁克成像系统公司 | 光学成像写入系统 |
-
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Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1060443B1 (en) * | 1998-03-02 | 2008-06-18 | Micronic Laser Systems Ab | Improved modulator design for pattern generator |
| CN1900827A (zh) * | 2005-06-30 | 2007-01-24 | Asml控股有限公司 | 无掩模光刻实时图案光栅化和实现最佳特征表示的方法和系统 |
| CN102656514A (zh) * | 2009-12-14 | 2012-09-05 | 派因布鲁克成像系统公司 | 光学成像写入系统 |
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|---|---|
| CN102914949A (zh) | 2013-02-06 |
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