CN102855999A - 电力电缆用阻水带 - Google Patents

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周巧芬
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Abstract

本发明公开了一种电力电缆用阻水带，它涉及电力电缆领域。它的制作工艺为：(1)用轧染方式对无纺布进行半导电胶的均匀涂覆，完成基材结构层(A)；(2)备用橡胶、热塑性弹性体为主体，并加入炭黑、阻水材料完成材料结构层(B)；(3)将基材结构层(A)和材料结构层(B)进行压延，形成半导电屏蔽缓冲阻水带。它既有阻水功能又有缓冲机械应力、均匀电场等作用，实用性强。

Description

电力电缆用阻水带
技术领域
    本发明涉及的是电力电缆领域，具体涉及一种电力电缆用阻水带。
背景技术
    中高压电力电缆在运行中承受高压和高电场作用，如果电缆绝缘表面存在缺陷将会产生电场应力集中，如加上水分存在下将会产生水树和电树，导致电力电缆击穿。因此，通常在电缆绝缘外绕包半导电带或挤包半导电聚合物，作为电缆的绝缘屏蔽，以均匀电场。如中国申请号201020161186.6的申请文件所公开的一种阻水电力电缆,其包括紧压圆形绞合导体,在绞合导体外设置阻水层及PE护套,所述电缆是在绞合导体外依次设置导体屏蔽层、绝缘层、绝缘屏蔽层、半导体阻水带、金属屏蔽层和非导电阻水带；在绞合导体中绞入有阻水粉的阻水纱。当电缆为单芯时,其阻水层为纵包铝塑综合复合带和PE护套。当电缆为三芯时,其阻水层依次为第二非导电阻水带和纵包铝塑复合带及PE护套。本实用新型轴向阻水采用阻水粉和阻水纱绞入导体结构中,该结构具有良好的阻水效果。但是它的阻水带只具有阻水功能，功能单一，实用性不强。
发明内容
针对现有技术上存在的不足，本发明目的是在于提供一种电力电缆用阻水带，它既有阻水功能又有缓冲机械应力、均匀电场等作用，实用性强。
为了实现上述目的，本发明是通过如下的技术方案来实现：它的制作工艺为： (1)用轧染方式对无纺布进行半导电胶的均匀涂覆，完成基材结构层A；(2) 备用橡胶、热塑性弹性体为主体，并加入炭黑、阻水材料完成材料结构层B；(3) 将基材结构层A和材料结构层B进行压延，形成半导电屏蔽缓冲阻水带。
所述的步骤(2)中的材料结构层B的配方包括30份聚乙烯、40份丁腈橡胶、7份顺丁烯二酸酐、20份阻水粉、50份炭黑、10份发泡剂、10份酚醛树脂和5份二氯化硒。
所述的步骤(3)中的阻水带带宽为1-2mm。
本发明既有阻水功能又有缓冲机械应力、均匀电场等作用，实用性强。
附图说明
下面结合附图和具体实施方式来详细说明本发明；
    图1为本发明的结构示意图。
具体实施方式
为使本发明实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体实施方式，进一步阐述本发明。
参照图1，本具体实施方式采用以下技术方案：它的制作工艺为： (1)用轧染方式对无纺布进行半导电胶的均匀涂覆，完成基材结构层A；(2) 备用橡胶、热塑性弹性体为主体，并加入炭黑、阻水材料完成材料结构层B；(3) 将基材结构层A和材料结构层B进行压延，形成半导电屏蔽缓冲阻水带。
所述的步骤(2)中的材料结构层B的配方包括30份聚乙烯、40份丁腈橡胶、7份顺丁烯二酸酐、20份阻水粉、50份炭黑、10份发泡剂、10份酚醛树脂和5份二氯化硒。
所述的步骤(3)中的阻水带带宽为1-2mm。
本具体实施方式在纤维布基材上覆盖半导电胶后，再压延半导电橡胶，这个半导电橡胶的混合物可以使产品既有阻水功能又有缓冲机械应力、均匀电场等作用，实用性强。
以上显示和描述了本发明的基本原理和主要特征和本发明的优点。本行业的技术人员应该了解，本发明不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本发明的原理，在不脱离本发明精神和范围的前提下，本发明还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定                                               
Figure 2012103187006100002DEST_PATH_IMAGE002
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。

Claims (3)

1.电力电缆用阻水带，它的制作工艺为： (1)用轧染方式对无纺布进行半导电胶的均匀涂覆，完成基材结构层(A)；(2) 备用橡胶、热塑性弹性体为主体，并加入炭黑、阻水材料完成材料结构层(B)；(3) 将基材结构层(A)和材料结构层(B)进行压延，形成半导电屏蔽缓冲阻水带。
2.根据权利要求1所述的电力电缆用阻水带，其特征在于，所述的步骤(2)中的材料结构层(B)的配方包括30份聚乙烯、40份丁腈橡胶、7份顺丁烯二酸酐、20份阻水粉、50份炭黑、10份发泡剂、10份酚醛树脂和5份二氯化硒。
3.根据权利要求1所述的电力电缆用阻水带，其特征在于，所述的步骤(3)中的阻水带带宽为1-2mm。
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PB01 Publication
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
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