CN102844411B - 气化反应器中的水分配系统 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种在气化反应器中用于进行造渣夹带流工艺的水分配系统，其中为了形成一个水幕，与具有凹入式弯曲的截面的一个轴向对称的偏转表面一起提供了一个同心的环形分配器作为一个水分配系统，其中该环形分配器具有至少一个进水口，并且该环形分配器具有多个开口，这些开口被合适地设计成使水以射流的形式被排出。来自这些开口的射流被引导到该凹入式弯曲的偏转表面的内侧，并且在来自这些开口的射流的方向上，该凹入弯曲表面的平面取向被配置成使得在该射流的冲击点处该射流方向和该表面的切向平面被定向在朝向彼此在0度至45度之间的一个锐角，并且在截面中该偏转表面被弯曲的程度使得它具有大于60度的一个偏转角。水在压力下被导引进一个环形分配器之中，它从中迅速流过直到它通过多个开口从该环形分配器上流出，其中当水流出每个开口时，它形成冲击在一个偏转表面上的一个对应的水射流，当每个水射流沿着该偏转表面滑动时，它被扇形散开并且与来自对应的相邻的开口的水射流合并而形成一个闭合的水膜，其中在所述闭合的水膜已经离开该偏转表面之后，它被向下导引进入该反应器的内部。

Description

气化反应器中的水分配系统

本发明涉及用于气化反应器以进行造渣夹带流工艺的一种水分配系统和一种水分配方法，其中在气化反应的过程中所生成的合成气向下流动。在这种工艺中，产生了温度为1200°C至2000°C的、包含熔融的黏性灰烬颗粒以及凝结或凝华物质（例如钠、钾、铅以及锌）的一种热气。这些颗粒可以在冷却的壁上形成沉积物并且引起对运行的干扰。

为了防止此类事件，通常是通过使热气与水进行混合将该热气冷却，如急冷，借此该灰烬颗粒迅速凝固。可是，细小的烟道灰烬颗粒具有与水泥类似的特征，并且通过与水结合它们可以形成像混凝土的沉积物。为了防止这样的情况，急冷室的所有壁均应连接地保持为热且干燥的，或者被水膜所覆盖。

因此根据现有技术，例如WO 2009/036985A1描述的现有技术，一个此种气化反应器包括安排在该反应器上部的一个第一反应室，在该反应室的上部区域中安排有用于进料材料的一个进料器装置，并且该反应室的侧壁配备有带有内置冷却的多个管以作为一个膜式壁、或配备有多个盘管，在这些盘管处液态渣能自由流出而不会引起这种渣的表面发生凝固，并且在该反应室的底侧，一个开口配备有一个滴落边缘。而且，所述气化反应器包括安排在底部处而与该开口连接的一个第二室，其中将该合成气保持干燥且通过辐射冷却将它冷却，并且其中配备了一个水分配系统以便产生一个漏斗形水幕，有一个第三室被安排该底部处而与该第二室连接并且其中用于来自该反应器的合成气的一个排放装置被提供在该底部处或在该第三室的侧面处。

为了防止所生成的合成气的回流，该水幕不应该具有在边缘区域中的任何间隙或空隙。但它不应该冷却至堵塞渣出口的程度。此外，该水幕应该是在整个圆周上均匀展开的，并且应该是尽可能地细且薄的。另外，要被急冷的、所产生的气体射流应该是居中的，以便在该水幕散落后可以在该截面的中心区域将该热气尽可能有效地急冷。

考虑到用于在气化时对灰烬进行冷却的渣水部分地含有具有锐缘的颗粒，如果循环水可以用来生产该水幕的话，将也是非常有利的。为了避免严重的侵蚀，必需在管道、分配器以及喷嘴中维持低的流速，例如2m/s，然而，在太低的流速、典型地在低于0.5m/s的流速下形成了沉积物。

一个重大的问题是由关于用来产生这样的水幕的设备的运行安全性的要求所引起的。这尤其涉及到环形分配器，而且涉及到WO2009/036985A1中描述的斜面。只要利用循环水，就仍然存在这样的问题，即不管将水均匀分配至该斜面的这些出水口是缝隙或孔或喷嘴，存在将这些出水口永久保持清洁以及将该斜面永久保持干净而且没有沉积物的问题。此时应该考虑到要使用这些设施单元是很难的。

为了将液体供应至几个喷嘴，在大多数情况下应用具有恒定截面的多个通常的管道或环形分配器。US 4,474,584描述了一种包括几个配水器的水急冷系统，该配水器包括一行喷嘴。示例性图示展示了几个周向延伸的通道，它们要么具有截面积恒定的一个方形截面，要么具有截面积恒定的一个圆形截面。

在这种分配器中，在每个喷嘴后速度下降，从而引起静压力升高，因此穿过这些喷嘴的液体通过量发生变化。然而，通过常规的分配器，这导致水分配的实质性的不均匀。通过增大在该喷嘴中的速度可以实现在整个圆周上几乎良好平衡的水分配，使得该喷嘴中的压力损失明显高于该分配器中的水的动态压力。但是，随着增大的速度，当运用于夹带流气化反应器时，壁材料的侵蚀将增大至超出可容忍的范围。

因此，现在，本发明的目的在于提供用于气化反应器以进行造渣夹带流工艺的一种改进的水分配系统以及一种改进的水分配方法，该造渣夹带流工艺没有在上文概述的缺点，并且可以尽可能经济地安装和运行。

本发明通过在气化反应器中进行造渣夹带流工艺的一种水分配系统来实现这个目的，其中在气化反应的过程中所生成的合成气向下流动，所述气化反应器包括：

·安排在该反应器上部的一个第一反应室，在该反应室的上部区域中安排有用于进料材料的一个进料器装置，并且该反应室的侧壁配备有带有内置冷却的多个管以作为一个膜式壁、或配备有多个盘管，在这些盘管处液态渣能自由流下而不会引起这种渣的表面发生凝固，并且在该反应室的底侧配备有一个带有滴落边缘的开口，一个第二室被定位在底部处而与所述开口连接，其中将该合成气保持干燥并且通过辐射冷却将它冷却，并且其中配备了一个水分配系统以便产生一个漏斗形水幕，

与该第二室连接地定位的一个第三室，并且有一个用于来自该反应器的合成气的排放装置被提供在该底部处或在该第三室的侧面处，

与其截面凹入式弯曲的一个轴对称的偏转表面相组合地提供一个同心的环形分配器用作为一个水分配系统来形成一个水幕，其中

所述环形分配器具有至少一个水进流，

所述环形分配器具有多个开口，这些开口被实施成适合一种射流式水输出，

来自这些开口的射流方向指向该凹入式弯曲的偏转表面的内侧，

在来自这些开口的射流方向上的该凹入式表面的平面取向是这样安排的，使得在所述射流的冲击点处射流的该方向和该截面积的切向平面以范围在0度至45度之间的一个锐角彼此对齐，

该偏转表面在其截面具有这样的曲率使得它具有大于60度的偏转角。

在该水分配系统的进一步的配置中提出，这些开口被设施成向上指向的多个喷嘴。这些开口还可以具有在该反应器圆周的方向上的一种切向倾斜或一种相对于该反应器的中心轴线的倾斜。取决于这些喷嘴的实施方式，该环形分配器中的流的脉冲也可以被用于以一个侧向的部件来引导来自这些开口的水射流而不仅仅竖直地从这些开口朝向该偏转表面。

在该水分配系统的一个进一步的配置中提出，该环形分配器被实施成具有不同的流动截面，该流动截面从该环形分配器的进料向这些开口的每一个逐渐缩减。应该注意的是，如果可能的话，保证维持大约为2m/s的流速。只要利用渣水或者其他的负载有颗粒的循环水用于该水幕，在任何情况下该流速必须达到高于0.5m/s，使得没有颗粒可以沉积和沉淀下来。考虑到侵蚀的危险，流速不应该超过3m/s。该产生的水幕的厚度范围应该在1mm至10mm之间。该环形分配器的流动截面将由技术人员进行适当地设计。

在该水分配系统的进一步的配置中提出，该偏转表面的曲率半径为小于0.3米。这种偏转表面例如可由在纵向侧开口的弯管而经济地得到。为了易于维护，本发明的凹入式偏转表面可以是没有任何问题地由截面方向的接合部分或由滑入彼此的部分所形成。

在该水分配系统的进一步的配置中提出，与该偏转表面的弯曲部相连接地安排了一个直的部分。如果已经对用于该水幕的出口的区段在纵向侧进行切割后不将其取出而是使其向上弯曲并且矫直，这点是可以在构造上实现的，从而得到用于该凹入式偏转表面的一个像棒球帽的截面。

如同该急冷室的冷却的壁，本发明的环形分配器在其外部倾向于遭受在该处从该负载有颗粒的气体生长出的结块材料的沉积。因此，这类冷却壁通常配备有一个水膜。该水分配系统还可以通过该环形分配器的进一步的改良被如此修改：使得该急冷室壁以及该环形分配器自身的外壁所需求的水膜的产生是同样完成的。因此，提供了另外的多个侧向开口以及与它们相对地定位的多个偏转表面，以产生附着至该环形分配器的外墙而且附着至该急冷室的壁、并且在那里向下流动的一个水膜。

本发明还通过用于在气化反应器中进行造渣夹带流工艺的一种分配水的方法来实现这个目的，其中在气化反应的过程中所生成的合成气向下流动，并且其中产生了在边缘处闭合的一个漏斗形水幕，其中

水在加压状态下被通入一个环形分配器，从中它迅速流过分配器直到它通过这些开口离开该环形分配器，

当水通过这些开口离开时形成了撞击在一个偏转表面上的一个水射流，

每个水射流在它沿着该偏转表面滑动时被发散并且与相邻的开口的水射流合并而形成一个闭合的水膜，

这个闭合的水膜在它已经离开该偏转表面后被向下通入该反应器的内部。

在配置该水幕的几何结构的时候，技术人员应该进行评估：为该相关目的而选择几何形状。如果想要该水幕在该中央通道的中心汇聚以便该水幕在该中央区域散落，则应该将水对着该偏转表面、没有任何涡旋地竖直地指引。然而，如果想要该下降的水幕在它的进一步下降的过程中首先在该中心收缩然后再次扩展，并且如果还想得到水滴的更均匀的径向分布以便使在该水幕的下面部分中的该反应器的边缘区域湿润，则该水幕应被施加以一次合适的围绕该反应器轴线的旋转。在本发明的方法的一个实施方案中，因此提出，这些水射流是在该反应器的圆周方向上以倾斜的形式被这样引导到该偏转表面上，使得该闭合的水膜执行围绕该反应器轴线的一次旋转。

在本发明的方法的再一个实施方案中提出，通过多个侧向开口以及与这些开口相对地定位的多个偏转表面产生了至少另一个水膜，所述水膜附着在该环形分配器或急冷室的多个冷却壁上，这些冷却壁暴露于所产生的气体。

在本发明的方法的另一个实施方案中提出，所用的水是来自该气化反应器的渣池的、负载有固体的水，或者来自安排在该气化反应器的渣池下游的水循环的水。在其使用之前，仅需在例如一个水力旋流器中进行主要渣颗粒的粗分离。

在下文中在6个示意图的基础上以示例性的形式概述本发明。这里展示的是：

图1：一种水分配系统的一个截面，该水分配系统用于产生水幕、具有一个间隙以及一个用于均匀化的扁钢的弯曲区域，

图2：该水分配系统置于该气化反应器中的情况下的一个俯视图，

图3：来自具有偏转表面的一个环形分配器的一个透视图，

图4：一个偏转表面11的一种有利的几何结构，

图5：具有作为多个开口10的多个喷嘴以及一个装置以用来产生另一个水膜的该环形分配器3的一个实施方案，

图6：本发明的水分配系统的另一个实施方案，

图7：本发明的水分配系统的另一个实施方案，

图1展示了根据现有技术的该装置的一个截面，该装置用于产生在边缘处闭合的、并且具有一个间隙的自由下落的漏斗形水幕，该水幕通过一个扁钢的弯曲区域进行延伸以便均匀化。该装置被定位在例如一个包括蒸发管的冷却壁2的后面。从一个气化器流出的该热气1具有在1000°C至2000°C之间范围内的温度，并且它包含飞灰以及液态熔渣颗粒。还可以在该通常圆柱形的通道1的中央区域中得到粗粒熔渣，该通道的直径在从0.6m至3m的范围内。

在一个或几个位置将该水送入分配器3的外围通道4，该外围通道包括矩形的上部和一个斜切的底部。该通道在整个圆周上具有恒定的宽度，但它的高度发生变化使得在内部的恒定的流速在整个圆周上普遍存在。只有该截面的被指定为高度H1的一个部分是变化的，而该截面的剩余部分具有类似于飞轮功能的功能，以便抵消由在入口区域的扰动所造成的影响以及由与计算的理想形式的结构偏差所造成的影响。

水通过该出口间隙5离开该分配器，并且随后它在被实施成一个凹入区域的该偏转部6上被偏转。如果该出口间隙5的截面的多个较小的部分被堵塞，则流出的水射流具有多个空隙。但在该弯曲区域上，水被如此强烈地压在该凹入区域上使得这些空隙被封闭。从被实施成一个斜面的该偏转6的水膜首先产生的是一个闭合的水幕7，该水幕自由下落，并且只会由于它与该热气1混合而分解。该闭合的水幕防止了含有水滴的冷却气体的上行流进入该气化器的出口区域，借此防止对熔渣排放的干扰。

通过这种方法来产生一个水幕的缺点在于，该水含有越来越多的可以堵塞1mm至10mm宽间隙的固体物质，据此，至少如果该水幕在大多数情况下预期只有几毫米厚，则不管曲率如何，所产生的水幕都将具有多个空隙。为了运行安全性的原因，在实践中意味着必须以比在过程工程方面所需的厚度更大的厚度来构造该水幕，或者在使用将要被使用的水之前，必须以巨大的耗费来清除颗粒，否则将甚至会需要使用新水。然而，通过提供散布在圆周上的几个更宽的开口以代替一个狭窄的外围间隙，使流出的多个射流由于离心力的作用而被压平在该凹入的偏转部6上并且形成一个闭合的膜，则可以避免这个缺点。

图2展示了该水分配系统置于该气化反应器中的情况下的一个俯视图，该水分配系统具有压力容器8、用于将水送入环形分配器3的多个进料器主体9、以及带有热气1的中央圆柱形通道。只通过一个进料器主体送入水也将是可行的。在这种情况下，该环形分配器将必须具有适当地更大的直径。虽然一个更大的进料器主体的成本比几个更小的进料器主体的要少，但是它也更刚性，这会引起在分配器3和压力容器8之间的热膨胀差异。就进料器主体的数目而言，技术人员应该找出相关的最优值。

图3展示了来自具有偏转表面11的一个环形分配器3的一个透视图片段。本发明的水幕7的产生是通过采用不会被堵塞的、明显更大的多个开口10，以及一个偏转表面11来完成的，当流出的多个水射流离开该系统时，它们通过离心力被压平在该偏转表面上并且在其上形成一个平坦的水幕7。

为了保证在所有开口的入射流中的横向速度相等，需要在环形分配器3中的水流的一个基本上恒定的圆周速度，这点可以通过改变截面来实现，在本实例中这点是通过改变高度来完成的，但还可能利用其他的变化可能性。水的流入量受到在该标注H1旁边的横截面积的影响。H1代表高度的可变部分，而H2代表由H1和H2加合地组成的总高度的恒定部分。如图3所示，这些开口可以实施成圆孔，但也可以制作成矩形缝隙、或者直的和/或弯曲的喷嘴。

如果想要将该水幕在圆周方向上进行扭曲，可以利用该环形分配器3中的圆周流的脉冲来实现这个目的。按以下方式来配置这些开口10是充分的，使得在水通过这些开口10离开时该脉冲的圆周分量不会被破坏。如果该环形分配器3的上部壁明显地比该开口的圆周方向上的长度更薄，则可以与该壁垂直地制作这些开口。在壁更厚时，这些开口应该是以由法向指向的以及切向指向的速度分量通过矢量加法产生的最有利的角度而被制作成倾斜的形式。

图4展示了一个偏转表面11的一种有利的几何结构。该偏转表面应该主要具有一个圆的或椭圆的形式，并且包围一个偏转角BETA。测试已经证明半径R1和R2可以在一个宽的范围内变化。在该偏转表面的弯曲部分的端部配备有在纵截面中的一个直的部分B，亦即在三维透视图中的一个圆锥形部分，使得在撕裂边缘离心力不会影响到水并且不会改变射流的方向。只需要一个短的“直的”部分。在5至10个水膜厚度的长度（在沿着该偏转表面滑动的水膜厚2mm时，为10至20mm）下，产生了一个一个稳定的均匀的水幕。

图5展示了具有多个喷嘴作为多个开口10的该环形分配器3的一个实施方案。水通过倾斜到该切线方向的多个喷嘴从该环形分配器3流出。该偏转表面11可以首先向外倾斜以便获得多个更大的外周角并且使通路伸长，其中这些水射流由于离心力的作用而被压平在该通路上。

此外，图5展示了一个水膜15的产生，该水膜在该环形分配器3的、面对该反应器室的侧面上流下，从而使它免受结块材料的沉积。因此，在该环形分配器3的圆柱形的内壁中提供有多个开口12，通过这些开口，在该分配器中循环的水的一部分流进一个间隙14，该间隙例如是由该环形分配器的内壁和一个在上端部处被弯曲的圆柱形板13形成的，使得通过这些开口12成形的水射流是被压平的并且首先在表面13上形成一个薄膜。这些开口12可以具有与开口10类似的形状，即孔、缝隙或喷嘴。

应该通过通流来维持圆周速度，使得形成在表面13上的该薄膜因离心力而被投向在间隙14中静止的壁16。在膜厚度较低时，该间隙14的宽度可以比该水膜的宽度更大。在板13的上端的该偏转表面应该具有非常小的半径，例如30mm。这些开口12的直径和间隙14的宽度可以实质上大于所产生的壁膜的厚度，使得更粗的，例如10mm大的，熔渣颗粒能不受水限制地通过这个装置。

根据图5的一个实施方案的一个设计实例将进一步阐明下列工作方式：将产生具有以下初始参数的一个漏斗形的自由下落的水幕：

1m的直径，

1.5m/s至2m/s的速度，

2mm的厚度

该水含有可以达5mm大的固体颗粒。

那么该喷嘴内径应该选择为10mm以便排除任何堵塞。这些喷嘴之间的距离是这样选择的，使得在这些喷嘴中普遍存在所需的1.5m/s至2m/s的速度。因此这些喷嘴应该彼此间隔40mm的距离。实验测试证明，如果紧密地并排地安置这些喷嘴，则在高于10m/s²的离心力下已经可以产生一个平坦的水幕。半径越小，则离心力越高，并且容许距离和这些喷嘴的内径也越大。通过具有30mm半径的偏转板，一个离心加速度对水进行作用，该离心加速度在1.5m/s下为75m/s²并且在2m/s下为133m/s²，是重力加速度的7倍至13倍。测试和实验已经表明，在这些条件下可以产生一个均匀并且平坦的水幕。

图6阐述了本发明的水分配系统的另一个实施方案。该自由下落的水幕7是通过与图3和图5中描述的方式类似的方式产生的。但是，该水膜是由通过几个开口12流到该表面16上的水的切向注入产生的。在这些开口12中的水的速度可以高于在分配器4中的水的圆周速度，使得这些水射流被压在该壁16上并且形成一个平坦的膜。为了促进一个均匀膜的形成，可以在表面16和17之间另外提供一个小的例如10mm宽的直径跳变，使得首先形成一个旋转的10mm厚的水层，从中在该墙17上获得具有初始较低的竖直速度的一个更薄的壁面膜。

将通过以下实例来更精确地阐明该设计。通过一个薄的水膜来使具有2m直径的一个圆柱形的壁免受沉积，最窄的截面应该为至少10mm宽以便排除堵塞，并且通过该自由下落的水幕7所需的法向初始速度，从而使在这些开口10和12中的法向水出口速度达到大约5m/s。

通过在该表面16处的5m/s的切向速度，25m/s²的离心加速度作用在通过几个缝隙12流出的水上，这个速度明显高于重力加速度，借此可以产生附着在该壁上一个闭合的薄的水膜。具有超过3m/s的速度的几个区域应该是由抗侵蚀的材料制作的，例如铸铁或陶瓷，或者可以利用合适的材料通过堆焊的方式对这些区域涂覆金属部件。

图7阐述了本发明的水分配系统的另一个实施方案。该自由下落的水幕7是通过与图3至6中描述的方式类似的方式产生的，并且该水膜是类似于图5而产生的。但是，该隔壁包括两个同心的表面16和17，并且用于产生该膜16和多个水幕膜7的水供应是通过该中间空间来完成的。如果通过应用合适的泵送装置例如注射器来将水从在压力容器内的渣池输送到这些开口10和12，则这种解决方案是尤其有利的。

参考符号清单

1    带有热气的、1200°C至1800°C、高达80bar的中央圆柱形通道

2    冷却的壁

3    环形分配器

4    具有循环的水的该环形分配器的流通截面

5    出口间隙

6    偏转部

7    水幕

8    力容器

9    向分配器内进水的（一个或几个）进料器线路

10   多个开口（圆形的、角状的、直的/倾斜的缝隙）或多个喷嘴

11   偏转板或形式

12   像10一样的多个开口

13   环形板

14   间隙

15   壁膜

16   圆柱形的隔壁

17   圆柱形的隔壁

Claims (11)

1.用于在气化反应器中进行造渣夹带流工艺的水分配系统，其中在气化反应过程中释放的合成气向下流动，所述气化反应器包括：

安排在该反应器上部的一个第一反应室，在该反应室的上部区域中安排有用于进料材料的一个进料器装置，并且该反应室的侧壁配备有带有内冷却的多个管以作为一个膜式壁、或配备有多个盘管，液态渣能够从这些盘管自由地向下流而不会引起这种渣的表面发生凝固，并且在该反应室的底侧配备了一个带有滴落边缘的开口，

一个第二室被定位在底部处而与所述开口连接，其中将该合成气保持干燥且通过辐射冷却将其冷却，并且其中配备了用于产生一个漏斗形水幕(7)的一个水分配系统，

一个第三室被定位在底部处而与该第二室连接，并且用于来自该反应器的合成气的一个排放装置被安装在底部处或在该第三室的侧面上，

其特征在于

为了形成一个水幕(7)，一个同心的环形分配器(3)与在其截面中凹入式弯曲的一个轴对称的偏转表面(11)相组合被提供用作水分配系统，其中

该环形分配器(3)具有至少一个水送入，

该环形分配器(3)具有多个开口(10)，这些开口被合适地实施成用于允许一种射流式水输出，

来自这些开口(10)的射流方向指向该凹入式弯曲的偏转表面的内侧，

在来自这些开口(10)的射流方向上，该偏转表面(11)的平面取向的特征为，使得该射流的方向与该截面积的切向平面在该射流的冲击点处以范围在0度至45度之间的一个锐角向彼此对齐，并且其中

该偏转表面(11)在其截面中被弯曲直至使得它具有一个大于60度的偏转角(BETA)，该偏转表面(11)的曲率半径小于0.3米，

这些开口(10)被实施成向上指向的多个喷嘴，这些向上指向的喷嘴在该反应器圆周的方向上具有一种切向倾斜。

2.根据权利要求1所述的水分配系统，其特征在于，这些向上指向的喷嘴具有一种相对于该反应器的中心轴线的倾斜。

3.根据权利要求1所述的水分配系统，其特征在于，该环形分配器(3)被实施成具有不同的流动截面(4)，这些流动截面从该环形分配器(3)的进流(9)朝向这些开口(10)中的每一个逐渐缩减。

4.根据权利要求1所述的水分配系统，其特征在于，该偏转表面(11)是由彼此接合的多个部分形成的。

5.根据权利要求1或4所述的水分配系统，其特征在于，一个直的部分连接在该偏转表面(11)的弯曲部上。

6.根据以上权利要求1至4中任一项所述的水分配系统，其特征在于，在该环形分配器上提供了多个另外的侧向开口以及与它们相对地定位的多个偏转表面。

7.根据权利要求5所述的水分配系统，其特征在于，在该环形分配器上提供了多个另外的侧向开口以及与它们相对地定位的多个偏转表面。

8.用于在气化反应器中进行造渣夹带流工艺的分配水的方法，其中在气化反应的过程中释放的合成气向下流动，并且其中产生了在边缘处闭合的一个漏斗形水幕(7)，其特征在于，

水在加压状态下被通入一个环形分配器(3)之中，水在其中迅速通过分配器直到通过多个开口(10)离开该环形分配器(3)，

在离开这些开口(10)时各自形成一个水射流，所述水射流撞击在一个偏转表面(11)上，

每个水射流在它沿着该偏转表面(11)滑动时被发散并且与相邻的开口(10)的水射流合并从而形成一个闭合的水膜，

这个闭合的水膜在它在向下的方向上离开了该偏转表面(11)后被导引进入该反应器的内部，

这些水射流是以一种倾斜的方式被引导到该偏转表面(11)上从而使得该闭合的水膜执行围绕该反应器轴线的一次旋转。

9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，通过多个侧向开口(12)以及与这些开口相对定位的多个偏转表面(13)产生了至少另一个水膜，所述水膜(15)附着在该环形分配器或急冷室的多个冷却的壁上，这些冷却的壁暴露于所产生的气体。

10.根据以上权利要求8至9中任一项所述的方法，其特征在于，负载有固体物质的、并且来自该气化反应器的渣池的水被利用作为水。

11.根据以上权利要求8至9中任一项所述的方法，其特征在于，来自连接在该气化反应器的渣池下游的水循环的水被利用作为水。