CN102776477A - 防水膜及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种防水膜及其制备方法，该防水膜适用于光学镜片、手机面板、触摸屏等产品的表面。包括：提供纯度高、无定形的氧化物原料载体；将所述氧化物原料载体于室温下通过胶黏剂经冷压或热压方式制成所需的形状；将所得的半成品放置于坩埚中，将该坩埚置入常压高温炉中，对炉温升至850－1500℃进行热处理；在热处理的条件下，通过相变制备出形状均匀的多孔氧化物载体材料，其孔径为1um－100um；将含有有机氟硅化合物的防水材料溶液滴到多孔氧化物载体材料中，制得防水膜。
Description
【技术领域】
本发明涉及一种防水膜及其制备方法，该防水膜适用于光学镜片、手机面板、触摸屏等产品的表面。
【背景技术】
现在随着光学应用领域的不断发展，光电产品的应用范围越来越广，对产品的要求也越来越高。现有技术中，为满足光学镜片、眼镜镜片、触摸屏、手机面板等产品的需求，通过真空镀膜机，使用五氧化二钽、五氧化三钛、二氧化硅、二氧化锆、氧化铟锡等无机材料，在基片的表面蒸镀增透膜或导电膜，达到所需求的光学或导电性能指标要求。
在真空镀膜时，无机材料在电阻加热或电子枪高能轰击下，成为蒸汽在基片表面冷却沉积。由于蒸汽在沉积时形成的膜层，在微观结构上是不平坦的，而且存在大量的毛细空隙，使镜片表面易吸附各种灰尘、水、油污等，容易刮伤产品的表面，影响产品的光学性能，为克服这一缺陷，一般在产品的表面除了蒸镀增透膜或导电膜外，还需蒸镀一层防水膜，保护产品的基片。
目前市面上使用的防水膜一般使用铜基底载体和铜坩埚铁丝载体，主要缺点在于：一是在真空镀膜时有可能将金属材料蒸镀上去，影响产品的性能；二是制作成本较高、制作工艺比较繁琐；三是现今各国对环保方面要求越来越高，尤其是欧盟等先进国家对这方面有着更为苛刻的要求，已经开始逐渐限制防水膜所需的铜金属制品材料的进口，这将严重阻碍防水膜等真空镀膜材料的应用和发展。
因此，有必要开发一种新的成本较低、性能较高、不影响环境的防水膜，这将具有良好的市场前景。
【发明内容】
本发明所要解决的技术问题在于提供一种防水膜及其制备方法，制作方法简便，制得的防水膜用于产品表面且不会影响其光学性能及导电性能。
本发明采用以下技术方案解决上述技术问题：
防水膜的制备方法，包括如下步骤：
步骤1：提供纯度高、无定形的氧化物原料载体；
步骤2：将所述氧化物原料载体于室温下通过胶黏剂经冷压或热压方式制成所需的形状；
步骤3：将所得的半成品放置于坩埚中，将该坩埚置入常压高温炉中，对炉温升至850－1500℃进行热处理；
步骤4：在热处理的条件下，通过相变制备出形状均匀的多孔氧化物载体材料，其孔径为1um－100um；
步骤5：将含有有机氟硅化合物的防水材料溶液滴到多孔氧化物载体材料中，制得防水膜。
进一步地，所述步骤1中氧化物原料载体包括二氧化硅、或三氧化二铝、或二氧化锆中的一种。
进一步地，所述步骤2中的胶黏剂包括水、或乙醇、或丙三醇中的一种。
依上述防水膜的制备方法所制得的防水膜，包括多孔氧化物载体、及其置于所述多孔氧化物载体的孔中的有机氟硅化合物溶液。
所述氧化物载体包括二氧化硅、或三氧化二铝、或二氧化锆中的一种。
本发明的优点在于：1、作为载体的材料，二氧化硅等氧化物材料资源上非常丰富，价格低廉，不像铜铁这些资源性材料，矿产存量存在地域性和有限性；2、在熔点上氧化物类的载体比金属材质的载体熔点高，因此在蒸镀防水膜时既可以采用电阻加热或电子枪直接轰击加热的方式，不用考虑设备异常时有可能导致载体材料蒸发到基片上，影响基片光学性能或导电性能；3、环保方面，二氧化硅等氧化物载体材料在使用后，不用特别注意其废弃物的处理，只需按一般废弃物处理即可，不像金属材料载体需要注意其载体材料的回收工作。特别是欧盟国家对环保要求越来越高，二氧化硅等多孔载体材料有效的避免了产品其进入欧盟国家的门槛；4、制作比较方便，可以大批量生产。
【具体实施方式】
本实施例中所采用的原料是一种高纯度的无定形的二氧化硅粉末，于室温下，通过水或乙醇、丙三醇等有机醇类作为胶黏剂，经冷压方式或热压方式，制成所需的形状；
将所得的半成品放置的坩埚移至常压高温炉中，对炉温升1100℃进行热处理，此处温度可保持在800－1500℃均可；
在热处理的条件下，通过相变制备出形貌均匀的多孔二氧化硅载体材料，即防水膜等真空蒸镀材料的载体；制备出来的载体孔径特征为1μm-100μm；
再将含有有机氟硅化合物的防水材料溶液滴定到多孔二氧化硅材料载体中，制得防水膜。
上述的二氧化硅粉末，在实践中可由三氧化二铝粉末、或二氧化锆粉末代替。
下面描述采用本发明所述的方法制得的防水膜的使用方法，即如何将该防水膜镀于产品表面：
将依上述方法制备好的防水膜，放在钨舟或钼舟上，电阻加热至300-500℃，使载体中的有机氟硅化合物沉积于镀有二氧化硅的基片表面，或使用电子枪直接轰击在载体上，轰击时载体温度300-450℃，使载体中的有机氟硅化合物沉积于产品表面。
制备的基片接触角可以达到115°以上，且耐摩擦测试时，在1000g的负荷，0000#铁丝绒，接触面积为100mm2时，往复摩擦5000次，基片表面无划痕，接触角还可以达到105°以上。
此方案在成型过程可以添加助溶剂或稳定剂等催化剂，使其在常压高温炉中反应，促进其反应，形成稳定的多孔载体材料。
本发明的有益效果在于：1、作为载体的材料，二氧化硅等氧化物材料资源上非常丰富，价格低廉，不像铜铁这些资源性材料，矿产存量存在地域性和有限性；2、在熔点上氧化物类的载体比金属材质的载体熔点高，因此在蒸镀防水膜时既可以采用电阻加热或电子枪直接轰击加热的方式，不用考虑设备异常时有可能导致载体材料蒸发到基片上，影响基片光学性能或导电性能；3、环保方面，二氧化硅等氧化物载体材料在使用后，不用特别注意其废弃物的处理，只需按一般废弃物处理即可，不像金属材料载体需要注意其载体材料的回收工作。特别是欧盟国家对环保有着苛刻的要求，二氧化硅等多孔载体材料有效的避免了欧盟国家对此类产品进入所设置的门槛；4、制作比较方便，可以大批量生产。
以上所述仅为本发明的较佳实施用例而已，并非用于限定本发明的保护范图。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换以及改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (5)
1.防水膜的制备方法，其特征在于：包括如下步骤：
步骤1：提供纯度高、无定形的氧化物原料载体；
步骤2：将所述氧化物原料载体于室温下通过胶黏剂经冷压或热压方式制成所需的形状；
步骤3：将所得的半成品放置于坩埚中，将该坩埚置入常压高温炉中，对炉温升至850－1500℃进行热处理；
步骤4：在热处理的条件下，通过相变制备出形状均匀的多孔氧化物载体材料，其孔径为1um－100um；
步骤5：将含有有机氟硅化合物的防水材料溶液滴到多孔氧化物载体材料中，制得防水膜。
2.如权利要求1所述的防水膜的制备方法，其特征在于：所述步骤1中氧化物原料载体包括二氧化硅、或三氧化二铝、或二氧化锆中的一种。
3.如权利要求1或2所述的防水膜的制备方法，其特征在于：所述步骤2中的胶黏剂包括水、或乙醇、或丙三醇中的一种。
4.如权利要求1所述的防水膜的制备方法所制得的防水膜，其特征在于：包括多孔氧化物载体、及其置于所述多孔氧化物载体的孔中的有机氟硅化合物溶液。
5.如权利要求4所述的防水膜，其特征在于：所述氧化物载体包括二氧化硅、或三氧化二铝、或二氧化锆中的一种。
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|---|---|
| CN (1) | CN102776477A (zh) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104419893A (zh) * | 2013-08-29 | 2015-03-18 | 江苏远大光学科技有限公司 | 一种眼镜片防水膜镀膜方法 |
| CN107974660A (zh) * | 2017-11-10 | 2018-05-01 | 江西水晶光电有限公司 | 一种颗粒防水膜电子枪蒸镀的方法 |
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2012
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