CN102766844A - 有机电致发光二极管有机材料蒸镀用掩模装置 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种有机电致发光二极管有机材料蒸镀用掩模装置,包括:一掩模板框架、及数张安装在该掩模板框架上的分掩模板;所述分掩模板之间设有间隙,每两个相邻的分掩模板之间的间隙相同,所述掩模板框架呈矩形,其中间设有矩形的容置口,所述分掩模板的张数根据该掩模板框架的容置口的宽度及所述分掩模板的宽度而定,全部分掩模板的宽度加上其之间的间隙宽度的数值大于或等于容置口的宽度。所述有机电致发光二极管有机材料蒸镀用掩模装置通过数张分掩模板拼接于掩模板框架上,实现了有机电致发光二极管有机材料蒸镀用掩模的大尺寸化,同时有利于大尺寸有机电致发光二极管的有机材料的蒸镀。
Description
技术领域
本发明涉及有机电致发光二极管(OLED),尤其涉及一种有机电致发光二极管有机材料蒸镀用掩模装置。
背景技术
有机发光二极管或有机发光显示器(Organic Light Emitting Diode Display,OLED)又称为有机电致发光二极管,是自20世纪中期发展起来的一种新型显示技术。与液晶显示器相比,有机电致发光二极管具有全固态、主动发光、高亮度、高对比度、超薄、低成本、低功耗、快速响应、宽视角、工作温度范围宽、易于柔性显示等诸多优点。有机电致发光二极管的结构一般包括:基板、阳极、阴极和有机功能层,其发光原理是通过阳极和阴极间蒸镀的非常薄的多层有机材料,由正负载流子注入有机半导体薄膜后复合产生发光。有机电致发光二极管的有机功能层,一般由三个功能层构成,分别为空穴传输功能层(HoleTransport Layer,HTL)、发光功能层(Emissive Layer,EML)、电子传输功能层(Electron Transport Layer,ETL)。每个功能层可以是一层,或者一层以上,例如空穴传输功能层,有时可以细分为空穴注入层和空穴传输层;电子传输功能层,可以细分为电子传输层和电子注入层,但其功能相近,故统称为空穴传输功能层,电子传输功能层。
目前,全彩有机电致发光二极管的制作方法以红绿蓝(RGB)三色并列独立发光法、白光加彩色滤光片法、色转换法三种方式为主,其中红绿蓝三色并列独立发光法最有潜力,实际应用最多。
但在以红绿蓝三色并列独立发光法制作有机电致发光二极管的制作过程中,需要使用金属掩模板来达到对玻璃基板上发光层的发光像素部分区域蒸镀有机材料以实现彩色显示。随着有机电致发光二极管的发展,尤其是主动矩阵式有机发光二极管(Active Matrix Organic Light Emitting Diode,AMOLED)的发展,有机电致发光二极管产品尺寸及玻璃基板尺寸都在不断增加,这就要求蒸镀金属掩模板的尺寸不断增大,金属掩模板一般都很薄(一般不超过50um),而且有机电致发光二极管蒸镀工艺要求金属掩模板和玻璃基板之间要有很高的对位精度(金属掩模板单元器件与玻璃基板的像素单元之间对位误差在-3um~+3um)。随着有机电致发光二极管大尺寸化的生产,往往会产生由于金属掩模板与玻璃基板之间对位不准导致有机材料蒸镀到其他区域,造成产品不良,极大影响了生产效率和生产成本。因此,金属掩模板的大尺寸化及其大尺寸化后与玻璃基板之间的精确对位等技术问题,限制了有机电致发光二极管大尺寸化的发展。
发明内容
本发明的目的在于提供一种有机电致发光二极管有机材料蒸镀用掩模装置,其通过数张分掩模板拼接于掩模板框架上,实现了有机电致发光二极管有机材料蒸镀用掩模的大尺寸化,同时有利于大尺寸有机电致发光二极管的有机材料的蒸镀。
为实现上述目的,本发明提供一种有机电致发光二极管有机材料蒸镀用掩模装置,包括:一掩模板框架、及数张安装在该掩模板框架上的分掩模板;所述分掩模板之间设有间隙,每两个相邻的分掩模板之间的间隙相同,所述掩模板框架呈矩形,其中间设有矩形的容置口,所述分掩模板沿容置口的宽度方向进行排列安装,其张数根据该掩模板框架的容置口的宽度及所述分掩模板的宽度而定,全部分掩模板的宽度加上其之间的间隙宽度的数值大于或等于容置口的宽度。
所述掩模板框架的容置口大小根据待蒸镀的有机电致发光二极管发光层的大小而定。
所述分掩模板具有相同的结构及大小,每一分掩模板均包括开口有效区及设于该开口有效区两端的两无效区。
所述分掩模板开口有效区的开口与有机电致发光二极管发光层的像素单元的子像素点对应设置;所述分掩模板无效区的自由端分别连接在所述掩模板框架上,进而安装该分掩模板于掩模板框架上。
所述分掩模板开口有效区的开口为插槽型开口。
所述相邻的两分掩模板之间的间隙的宽度大于或等于有机电致发光二极管发光层的像素单元的子像素点的宽度。
所述像素单元的子像素点为红、绿、蓝三色子像素点中的任一颜色的子像素点。
所述分掩模板开口有效区的开口为缝隙型开口。
所述掩模装置还包括数张设置于相邻两分掩模板之间的间隙上的掩盖板,该掩盖板的宽度大于相邻两分掩模板之间的间隙的宽度,且小于相邻两开口有效区之间的距离。
所述掩盖板安装在所述掩模板框架上。
本发明的有益效果:本发明所述的有机电致发光二极管有机材料蒸镀用掩模装置,其通过数张分掩模板拼接于掩模板框架上,实现了有机电致发光二极管有机材料蒸镀用掩模的大尺寸化,解决了主动矩阵式有机电致发光二极管蒸镀技术无法突破的问题;所述蒸镀装置避免了有机材料蒸镀时附着于玻璃基板的其他区域,减少封装不良,及实现有机电致发光二极管大尺寸化的可能性;降低有机电致发光二极管生产成本,提高其生产效率。
为了能更进一步了解本发明的特征以及技术内容,请参阅以下有关本发明的详细说明与附图,然而附图仅提供参考与说明用,并非用来对本发明加以限制。
附图说明
下面结合附图,通过对本发明的具体实施方式详细描述,将使本发明的技术方案及其它有益效果显而易见。
附图中,
图1为本发明有机电致发光二极管有机材料蒸镀用掩模装置一实施例的结构示意图;
图2为图1中分掩模板开口有效区的局部放大示意图;
图3为本发明有机电致发光二极管有机材料蒸镀用掩模装置的另一实施例的掩模框架和分掩模板的组装示意图;
图4为图3所述实施例的有机电致发光二极管有机材料蒸镀用掩模装置的结构示意图。
具体实施方式
为更进一步阐述本发明所采取的技术手段及其效果,以下结合本发明的优选实施例及其附图进行详细描述。
请参阅图1及图2,本发明所述的有机电致发光二极管有机材料蒸镀用掩模装置,包括:一掩模板框架(mask frame)20、及数张安装在该掩模板框架20上的分掩模板(divide shadow mask)22,分掩模板22之间设有间隙(gap)24,每两个分掩模板22之间的间隙24相同,该数张分掩模板22拼接出整张蒸镀用的大尺寸的掩模板。所述掩模板框架20呈矩形,其中间设有矩形的容置口200。所述分掩模板22沿容置口200的宽度方向进行排列安装,其张数根据该掩模板框架20的容置口200的宽度及所述分掩模板22的宽度而定,全部分掩模板22的宽度加上其之间的间隙24宽度的数值大于或等于容置口200的宽度。
所述掩模板框架20的容置口200大小根据有机电致发光二极管发光层(未图示)的大小而定,通常两者的尺寸是一致的。
在本实施例中,所述分掩模板22具有相同的结构及大小,每一分掩模板22包括开口有效区220及设于该开口有效区220两端的两无效区222。
所述分掩模板22开口有效区220设有数个开口221,其与有机电致发光二极管发光层的像素单元的子像素点对应设置,进而在蒸镀制程中实现精确对位;所述分掩模板22两无效区222的自由端分别连接在所述掩模板框架20上,进而安装该分掩模板22于掩模板框架20上。
所述分掩模板22的开口221大小相同,在本实施例中,所述开口221为插槽型(slot type)开口。
所述分掩模板22拼接时间隔设置,且相邻的分掩模板22之间的间隙24宽度大于或等于有机电致发光二极管发光层的像素单元的子像素点的宽度。所述像素单元的子像素点为红、绿、蓝(R、G、B)三色子像素点中的任一颜色的子像素点。
请参见图3及图4,为本发明另一实施例所述的有机电致发光二极管有机材料蒸镀用掩模装置的结构示意图,在本实施例中,该有机电致发光二极管有机材料蒸镀用掩模装置,包括:一掩模板框架20、数张安装在该掩模板框架20上的分掩模板22’及设置于相邻两分掩模板22’之间的间隙24’上的掩盖板26;每两个相邻的分掩模板22’之间的间隙24’相同,即是将数张分掩模板22’拼接出整张蒸镀用的大尺寸的掩模板;所述掩模板框架20呈矩形,其中间设有矩形的容置口200。所述分掩模板22’沿容置口200的宽度方向排列安装,其张数根据该掩模板框架20的容置口200的宽度及所述分掩模板22’的宽度而定,全部分掩模板22’的宽度加上其之间的间隙24’宽度的数值大于或等于容置口200的宽度。
所述掩模板框架20的容置口200大小根据有机电致发光二极管发光层(未图示)的大小而定,通常两者的尺寸是一致的。
所述分掩模板22’具有相同的结构及大小,每一分掩模板22’均包括开口有效区220’及环绕该开口有效区220’设置的无效区222’。
所述分掩模板22’开口有效区220’的开口221’与有机电致发光二极管发光层的像素单元的子像素点对应设置,进而在蒸镀制程中实现精确对位;所述分掩模板22’无效区222’的自由端分别连接在所述掩模板框架20上,进而安装该分掩模板22’于掩模板框架20上。
所述分掩模板22’的开口221’具有相同大小,在本实施例中,所述开口221’为缝隙型(slit type)开口。
所述分掩模板22’拼接时间隔设置,且相邻的两分掩模板22’之间的间隙24’宽度大于或等于有机电致发光二极管发光层的像素单元的子像素点的宽度。所述像素单元的子像素点为红、绿、蓝(R、G、B)三色子像素点中的任一颜色的子像素点。
所述掩盖板26安装在所述掩模板框架20上,该掩盖板26的宽度大于相邻两分掩模板22’之间的间隙24’的宽度,且小于相邻两分掩模板22’开口有效区220’之间的距离进而将相邻两分掩模板22’之间的间隙24’完全覆盖,但不会影响到开口有效区220’的开口221’。
综上所述,本发明所述的有机电致发光二极管有机材料蒸镀用掩模装置,其通过数张分掩模板拼接于掩模板框架上,实现了有机电致发光二极管有机材料蒸镀用掩模的大尺寸化,解决了主动矩阵式有机电致发光二极管蒸镀技术无法突破的问题;所述蒸镀装置避免了有机材料蒸镀时附着于玻璃基板的其他区域,减少封装不良,及实现有机电致发光二极管大尺寸化的可能性;降低生产成本,提高生产效率。
以上所述,对于本领域的普通技术人员来说,可以根据本发明的技术方案和技术构思作出其他各种相应的改变和变形,而所有这些改变和变形都应属于本发明权利要求的保护范围。
Claims (10)
1.一种有机电致发光二极管有机材料蒸镀用掩模装置,其特征在于,包括:一掩模板框架、及数张安装在该掩模板框架上的分掩模板;所述分掩模板之间设有间隙,每两个相邻的分掩模板之间的间隙相同,所述掩模板框架呈矩形,其中间设有矩形的容置口,所述分掩模板沿容置口的宽度方向进行排列安装,其张数根据该掩模板框架的容置口的宽度及所述分掩模板的宽度而定,全部分掩模板的宽度加上其之间的间隙宽度的数值大于或等于容置口的宽度。
2.如权利要求1所述的有机电致发光二极管有机材料蒸镀用掩模装置,其特征在于,所述掩模板框架的容置口大小根据待蒸镀的有机电致发光二极管发光层的大小而定。
3.如权利要求1所述的有机电致发光二极管有机材料蒸镀用掩模装置,其特征在于,所述分掩模板具有相同的结构及大小,每一分掩模板均包括开口有效区及设于该开口有效区两端的两无效区。
4.如权利要求3所述的有机电致发光二极管有机材料蒸镀用掩模装置,其特征在于,所述分掩模板开口有效区的开口与有机电致发光二极管发光层的像素单元的子像素点对应设置;所述分掩模板无效区的自由端分别连接在所述掩模板框架上,进而安装该分掩模板于掩模板框架上。
5.如权利要求3所述的有机电致发光二极管有机材料蒸镀用掩模装置,其特征在于,所述分掩模板开口有效区的开口为插槽型开口。
6.如权利要求4所述的有机电致发光二极管有机材料蒸镀用掩模装置,其特征在于,所述相邻的两分掩模板之间的间隙的宽度大于或等于有机电致发光二极管发光层的像素单元的子像素点的宽度。
7.如权利要求7所述的有机电致发光二极管有机材料蒸镀用掩模装置,其特征在于,所述像素单元的子像素点为红、绿、蓝三色子像素点中的任一颜色的子像素点。
8.如权利要求3所述的有机电致发光二极管有机材料蒸镀用掩模装置,其特征在于,所述分掩模板开口有效区的开口为缝隙型开口。
9.如权利要求8所述的有机电致发光二极管有机材料蒸镀用掩模装置,其特征在于,还包括数张设置于相邻两分掩模板之间的间隙上的掩盖板,该掩盖板的宽度大于相邻两分掩模板之间的间隙的宽度,且小于相邻两开口有效区之间的距离。
10.如权利要求9所述的有机电致发光二极管有机材料蒸镀用掩模装置,其特征在于,所述掩盖板安装在所述掩模板框架上。
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