CN102751378A - 一种选择性扩散的实现方式 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种选择性扩散的实现方式，先根据电池片表面栅线图形设计模具的图形，使电池片中电极部分对应重扩散区域，对应模具中的凹进区出区域，电极之间为浅扩散区域，对应模具中凸出区域；然后用悬涂机器在表面悬涂含掺杂剂的溶胶凝胶源，用模具压制硅片，压制后，硅片表面悬涂的掺杂源将是凹凸不平的形状，模具中凹进去的部分对应为掺杂较多的地方，为重扩散区，模具中凸出来的部分对应掺杂源较少区域，为浅扩散区，这样就实现图形转移。本发明大大降低了由于网版变形等导致的印刷偏移，提升产线良率，比较容易实现产业化。

Description

一种选择性扩散的实现方式
技术领域
本发明涉及一种太阳能电池工艺，尤其是一种选择性扩散的实现方式。
背景技术
目前的选择性扩散的实现方式很多都与丝网印刷有关，如采用SiO2掩膜，Merck浆料开槽的方式、innovolight的硅墨水方式，此种方式受网版变形等因素影响大，容易导致后期丝网印刷电极无法对准，严重影响效率。
发明内容
本发明要解决的技术问题是：提出一种重复性良好的选择性扩散的实现方式。
本发明所采用的技术方案为：一种选择性扩散的实现方式，包括以下步骤：
1）根据电池片表面栅线图形设计模具的图形；
2）清洗硅片，抛光或制绒；
3）用悬涂机器在硅片表面悬涂含掺杂剂的扩散源；所述的扩散源具有一定的流动性，可以为溶胶凝胶源或其他弹性源。
4）用制作好的模具压制硅片，将模具上的图形转移至硅片表面；
5）烘干硅片表面的弹性源；
6）硅片进入高温扩散设备进行扩散。
具体的说，本发明所述的步骤1）中的模具图形的制法为：电池片中的电极部分为重扩散区域，对应模具的凹区域；电极之间为浅扩散区域，对应模具的凸区域。所述的步骤4）中模具压制硅片，硅片表面悬涂的扩散源呈凹凸状；凸状区域为重扩散区域，凹状区域为浅扩散区域。
本发明所述的模具材料可以是高强度的塑料，或陶瓷，由于强度高，模具不易变形，与后期的丝网印刷电极比较容易对准。
本发明的有益效果是：本发明大大降低了由于网版变形等导致的印刷偏移，提升产线良率，比较容易实现产业化。
具体实施方式
现在实施例对本发明作进一步详细的说明。
一种选择性扩散的实现方式，包括以下步骤：
1）根据电池片表面栅线图形设计模具的图形；电池片中的电极部分为重扩散区域，对应模具的凹区域；电极之间为浅扩散区域，对应模具的凸区域；
2）清洗硅片；
3）用悬涂机器在硅片表面悬涂含掺杂剂的溶胶凝胶源。
4）用制作好的模具压制硅片，硅片表面悬涂的扩散源呈凹凸状；凸状区域为重扩散区域，凹状区域为浅扩散区域。将模具上的图形转移至硅片表面；
5）烘干硅片表面的溶胶凝胶源；
6）硅片进入高温扩散设备进行扩散。
以上说明书中描述的只是本发明的具体实施方式，各种举例说明不对本发明的实质内容构成限制，所属技术领域的普通技术人员在阅读了说明书后可以对以前所述的具体实施方式做修改或变形，而不背离发明的实质和范围。

Claims (4)

1.一种选择性扩散的实现方式，其特征在于包括以下步骤：
1）根据电池片表面栅线图形设计模具的图形；
2）清洗硅片，抛光或制绒；
3）用悬涂机器在硅片表面悬涂含掺杂剂的扩散源；
4）用制作好的模具压制硅片，将模具上的图形转移至硅片表面；
5）烘干硅片表面的扩散源；
6）硅片进入高温扩散设备进行扩散。
2.如权利要求1所述的一种选择性扩散的实现方式，其特征在于：所述的步骤1）中的模具图形的制法为：电池片中的电极部分为重扩散区域，对应模具的凹区域；电极之间为浅扩散区域，对应模具的凸区域。
3.如权利要求1所述的一种选择性扩散的实现方式，其特征在于：所述的步骤3）中的扩散源为溶胶凝胶源。
4.如权利要求1所述的一种选择性扩散的实现方式，其特征在于：所述的步骤4）中模具压制硅片，硅片表面悬涂的扩散源呈凹凸状；凸状区域为重扩散区域，凹状区域为浅扩散区域。
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