CN105047765A - 用于钝化发射极背面接触晶硅太阳电池的返工工艺 - Google Patents
用于钝化发射极背面接触晶硅太阳电池的返工工艺 Download PDFInfo
- Publication number
- CN105047765A CN105047765A CN201510553442.3A CN201510553442A CN105047765A CN 105047765 A CN105047765 A CN 105047765A CN 201510553442 A CN201510553442 A CN 201510553442A CN 105047765 A CN105047765 A CN 105047765A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- solar cell
- perc
- over again
- perc solar
- technique
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 title abstract description 10
- 229910021419 crystalline silicon Inorganic materials 0.000 title abstract 2
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 69
- 238000002161 passivation Methods 0.000 claims abstract description 38
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 31
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims abstract description 31
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 30
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract description 23
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims abstract description 16
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 claims abstract description 10
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 8
- 229910021426 porous silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 claims abstract description 7
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 claims abstract description 7
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims abstract description 5
- 101001073212 Arabidopsis thaliana Peroxidase 33 Proteins 0.000 claims abstract 26
- 101001123325 Homo sapiens Peroxisome proliferator-activated receptor gamma coactivator 1-beta Proteins 0.000 claims abstract 26
- 102100028961 Peroxisome proliferator-activated receptor gamma coactivator 1-beta Human genes 0.000 claims abstract 26
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims description 24
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 22
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M sodium hydroxide Inorganic materials [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 21
- 238000005245 sintering Methods 0.000 claims description 19
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 17
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 claims description 16
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 238000000623 plasma-assisted chemical vapour deposition Methods 0.000 claims description 12
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 11
- 235000008216 herbs Nutrition 0.000 claims description 11
- 210000002268 wool Anatomy 0.000 claims description 11
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims description 8
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 claims description 7
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 230000002000 scavenging effect Effects 0.000 claims description 6
- 238000009941 weaving Methods 0.000 claims description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 14
- 238000007664 blowing Methods 0.000 abstract 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 abstract 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 4
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 3
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910017107 AlOx Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910004205 SiNX Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000003763 carbonization Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- 239000004411 aluminium Substances 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 1
- 230000007812 deficiency Effects 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- 238000011179 visual inspection Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L31/00—Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L31/18—Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of these devices or of parts thereof
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02041—Cleaning
- H01L21/02079—Cleaning for reclaiming
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/02041—Cleaning
- H01L21/02096—Cleaning only mechanical cleaning
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P70/00—Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
- Y02P70/50—Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Photovoltaic Devices (AREA)
Abstract
本发明涉及一种用于钝化发射极背面接触晶硅太阳电池的返工工艺,其包括如下步骤:步骤1、提供待返工的PERC太阳电池,并对所述PERC太阳电池用钝化层去除酸液清洗,以去除PERC太阳电池背面的钝化介质层;步骤2、将去除背面钝化介质层的PERC太阳电池水洗并吹干,在PERC太阳电池水洗吹干后,将PERC太阳电池用PN结去除酸液清洗,以去除硅片正面扩散后的PN结;步骤3、将上述去除PN结后的PERC太阳电池放置在碱液中,以去除上述酸液腐蚀过程中产生的多孔硅;步骤4、水洗上述PERC太阳电池并吹干,并将吹干后的PERC太阳电池置于制绒机上,以利用PERC工艺加工制备得到所需的PERC电池。本发明简化返工工艺流程,提高返工产能,降低成本,提高生产线PERC太阳电池的优质率。
Description
技术领域
本发明涉及一种工艺方法,尤其是一种用于钝化发射极背面接触晶硅太阳电池的返工工艺,属于太阳能电池加工的技术领域。
背景技术
常规丝网印刷晶体硅太阳电池效率提升空间已很有限,市场空间正被高效率太阳电池压缩,钝化发射极背面接触(PERC)太阳电池凭借高效率、可规模化量产等优势,市场份额正逐步提升,提高PERC太阳电池效率、提高PERC太阳电池优质率,降低报废,从而降低PERC电池制造成本是光伏业界普遍关注的问题。
在PERC太阳电池制造过程中,会因为外观有色斑、色差,扩散后方阻异常、刻蚀过刻导致PN结破坏、PECVD镀膜异常等工艺问题而返工。目前,对PERC太阳电池的返工工艺包括如下:
对于PECVD镀膜前的PERC太阳电池的返工流程为:烧结炉内高温烧结→预处理→制绒清洗→扩散→刻蚀→PECVD镀背膜和正膜→背面激光开窗→丝网印刷→烧结。
对于PECVD镀膜后的PERC太阳电池的返工流程为:HF/HCl去膜→烧结炉内高温烧结→预处理→制绒清洗→扩散→刻蚀→PECVD镀背膜和正膜→背面激光开窗→丝网印刷→烧结。
以上返工流程中均涉及高温烧结过程,烧结温度一般在800℃以上,在丝网印刷红外烧结炉内完成,烧结炉一般用作银浆、铝浆烧结,返工片烧结的主要目的是去除硅片表面手指印和有机物,但在去除有机物的同时容易引入二次污染,主要是金属离子污染,引入污染后易将金属离子带入后道工序,金属离子是高效电池少子寿命的“杀手”,造成电池转换效率降低,返工后电池EL测试时出现了“黑框”,“黑框”对应了高效电池少子寿命低区。
发明内容
本发明的目的是克服现有技术中存在的不足,提供一种用于钝化发射极背面接触晶硅太阳电池的返工工艺,其简化返工工艺流程,提高返工产能,降低成本,提高生产线PERC太阳电池的优质率。
按照本发明提供的技术方案,一种用于钝化发射极背面接触晶硅太阳电池的返工工艺,所述返工工艺包括如下步骤:
步骤1、提供待返工的PERC太阳电池,并对所述PERC太阳电池用钝化层去除酸液清洗,以去除PERC太阳电池背面的钝化介质层;
步骤2、将去除背面钝化介质层的PERC太阳电池水洗并吹干,在PERC太阳电池水洗吹干后,将PERC太阳电池用PN结去除酸液清洗,以去除硅片正面扩散后的PN结;
步骤3、将上述去除PN结后的PERC太阳电池放置在碱液中,以去除上述酸液腐蚀过程中产生的多孔硅;
步骤4、水洗上述PERC太阳电池并吹干,并将吹干后的PERC太阳电池置于制绒机上,以利用PERC工艺加工制备得到所需的PERC电池。
步骤4中,利用PERC工艺的过程包括预处理、制绒清洗、扩散、刻蚀、PECVD镀背面和正膜、背面激光开窗、丝网印刷和烧结。
所述钝化层去除酸液为HF/HCl混合溶液,其中,混合溶液中,HF的浓度为15%~25%,HCl的浓度为10%~18%,将返工的PERC太阳电池在钝化层去除酸液中清洗600~900s。
步骤2中,水洗180~300s,并在水洗后用加热氮气吹干。
步骤2中,PN结去除酸液为HF/HNO3的混合溶液,其中,混合溶液中,HF的浓度为3%~8%,HNO3的浓度为20%~30%,清洗时间为120~240s。
步骤3中,用浓度为3%~8%的NaOH溶液或KOH溶液的碱液,清洗时间为30s~90s,以去除多孔硅。
步骤4中,水洗的时间为180~300s,并用加热氮气对水洗后的PERC太阳电池吹干。
本发明具有如下优点:
1、本发明通过返工工艺,使工艺异常产生的不良品通过返工后变为外观正常、电性能参数正常的合格品,提高生产线PERC电池的优质率,降低成本。
2、本发明由制绒清洗、扩散、刻蚀、PECVD镀AlOx/SiNx、激光各工序异常造成的返工片都可用该返工工艺,无需区分硅片表面是否有PN结,表面是否已镀膜,很大程度上提高了返工产能,简化了返工工艺流程。
3、本发明返工工艺前处理过程为常温湿化学工艺,使用HF/HCl混合溶液去除硅片表面钝化介质层,使用HF/HNO3混合溶液腐蚀硅片,达到去除硅片表面PN结、表面手指印、有机物的目的,尤其在去除表面有机物、手指印时不需要高温烧结氧化、碳化去除,避免了在高温烧结过程中引入二次污染。
4、本发明返工工艺同样适用于外观有问题的原始硅片制绒,外观问题包括原始硅片表面沾有有机物,原始硅片表面有手指印,在常规制绒工艺中很难将其去除。
5、本发明返工工艺流程适用于大规模量产生产线,HF/HCl清洗、HF/HNO3清洗、碱洗均可在水平或槽式清洗机内完成,提高了返工电池产能。
6、本发明该返工工艺流程不仅适用于背面具有钝化介质层并通过激光开窗和金属形成局部接触的PERC电池,同样适用于常规丝网印刷单晶电池返工,但常规丝网印刷单晶电池返工工艺不一定适用于PERC电池返工,两者的主要区别在于电池结构、工艺,PERC电池返工需考虑背面钝化层以及激光图形的去除,而常规丝网印刷单晶电池不存在背面钝化层,也没有背面激光开窗工艺。
附图说明:
图1为去除钝化介质层的PERC太阳电池返工后电池效率分布示意图。
具体实施方式
下面结合具体实施例对和附图本发明作进一步说明。
为了简化返工工艺流程,提高返工产能,降低成本,提高生产线PERC太阳电池的优质率,本发明返工工艺包括如下步骤:
步骤1、提供待返工的PERC太阳电池,并对所述PERC太阳电池用钝化层去除酸液清洗,以去除PERC太阳电池背面的钝化介质层;
本发明实施例中,待返工的PERC太阳电池是由于在制绒清洗、扩散、刻蚀、PECVD镀膜、激光等工序中由于工艺异常产生的不良品,通过返工能使得后续得到的PERC太阳电池满足要求。
所述钝化层去除酸液为HF/HCl混合溶液,其中,混合溶液中,HF的浓度为15%~25%,HCl的浓度为10%~18%,将返工的PERC太阳电池在钝化层去除酸液中清洗600~900s。
步骤2、将去除背面钝化介质层的PERC太阳电池水洗并吹干,在PERC太阳电池水洗吹干后,将PERC太阳电池用PN结去除酸液清洗,以去除硅片正面扩散后的PN结;
本发明实施例中,水洗时间为180~300s,并在水洗后用加热氮气吹干。PN结去除酸液为HF/HNO3的混合溶液,其中,混合溶液中,HF的浓度为3%~8%,HNO3的浓度为20%~30%,清洗时间为120~240s。
步骤3、将上述去除PN结后的PERC太阳电池放置在碱液中,以去除上述酸液腐蚀过程中产生的多孔硅;
本发明实施例中,由于在钝化层去除酸液以及PN结去除酸液腐蚀时会产生多孔硅,用浓度为3%~8%的NaOH溶液或KOH溶液的碱液,清洗时间为30s~90s,以去除多孔硅。
步骤4、水洗上述PERC太阳电池并吹干,并将吹干后的PERC太阳电池置于制绒机上,以利用PERC工艺加工制备得到所需的PERC电池。
本发明实施例中,水洗的时间为180~300s,并用加热氮气对水洗后的PERC太阳电池吹干。利用PERC工艺的过程包括预处理、制绒清洗、扩散、刻蚀、PECVD镀背面和正膜、背面激光开窗、丝网印刷和烧结。利用PERC标准工艺中的预处理、制绒清洗、扩散、刻蚀、PECVD镀背膜和正膜、背面激光开窗、丝网印刷和烧结的具体工艺步骤、工艺条件均为本技术领域人员所熟知,此处不再赘述。
下表是去除背面钝化介质层后的PERC太阳电池返工处理后的电池电性能,图1为去除钝化介质层的PERC太阳电池返工后电池效率分布示意图,由下表以及图1可以明显得出,转换效率可达到正常生产的PERC电池效率水平,电池外观符合正常电池外观检验要求。
Uoc/V | Isc/A | Rs/Ω | Rsh/Ω | FF/% | NCell | Irev2/A | 片数/pcs |
0.6574 | 9.4698 | 0.0025 | 354.1138 | 80.0166 | 20.51% | 0.1239 | 764 |
其中,Uoc为开路电压,ISc为短路电流、RS为串联电阻,Rsh为并联电阻,FF为填充因子,Ncell为转换效率,Irev2为反向漏电流。
本发明通过返工工艺,使工艺异常产生的不良品通过返工后变为外观正常、电性能参数正常的合格品,提高生产线PERC电池的优质率,降低成本。
本发明由制绒清洗、扩散、刻蚀、PECVD镀AlOx/SiNx、激光各工序异常造成的返工片都可用该返工工艺,无需区分硅片表面是否有PN结,表面是否已镀膜,很大程度上提高了返工产能,简化了返工工艺流程。
本发明返工工艺前处理过程为常温湿化学工艺,使用HF/HCl混合溶液去除硅片表面钝化介质层,使用HF/HNO3混合溶液腐蚀硅片,达到去除硅片表面PN结、表面手指印、有机物的目的,尤其在去除表面有机物、手指印时不需要高温烧结氧化、碳化去除,避免了在高温烧结过程中引入二次污染。
本发明返工工艺同样适用于外观有问题的原始硅片制绒,外观问题包括原始硅片表面沾有有机物,原始硅片表面有手指印,在常规制绒工艺中很难将其去除。
本发明返工工艺流程适用于大规模量产生产线,HF/HCl清洗、HF/HNO3清洗、碱洗均可在水平或槽式清洗机内完成,提高了返工电池产能。
本发明该返工工艺流程不仅适用于背面具有钝化介质层并通过激光开窗和金属形成局部接触的PERC电池,同样适用于常规丝网印刷单晶电池返工,但常规丝网印刷单晶电池返工工艺不一定适用于PERC电池返工,两者的主要区别在于电池结构、工艺,PERC电池返工需考虑背面钝化层以及激光图形的去除,而常规丝网印刷单晶电池不存在背面钝化层,也没有背面激光开窗工艺。
Claims (7)
1.一种用于钝化发射极背面接触晶硅太阳电池的返工工艺,其特征是,所述返工工艺包括如下步骤:
步骤1、提供待返工的PERC太阳电池,并对所述PERC太阳电池用钝化层去除酸液清洗,以去除PERC太阳电池背面的钝化介质层;
步骤2、将去除背面钝化介质层的PERC太阳电池水洗并吹干,在PERC太阳电池水洗吹干后,将PERC太阳电池用PN结去除酸液清洗,以去除硅片正面扩散后的PN结;
步骤3、将上述去除PN结后的PERC太阳电池放置在碱液中,以去除上述酸液腐蚀过程中产生的多孔硅;
步骤4、水洗上述PERC太阳电池并吹干,并将吹干后的PERC太阳电池置于制绒机上,以利用PERC工艺加工制备得到所需的PERC电池。
2.根据权利要求1所述的用于钝化发射极背面接触晶硅太阳电池的返工工艺,其特征是:步骤4中,利用PERC工艺的过程包括预处理、制绒清洗、扩散、刻蚀、PECVD镀背面和正膜、背面激光开窗、丝网印刷和烧结。
3.根据权利要求1所述的用于钝化发射极背面接触晶硅太阳电池的返工工艺,其特征是:所述钝化层去除酸液为HF/HCl混合溶液,其中,混合溶液中,HF的浓度为15%~25%,HCl的浓度为10%~18%,将返工的PERC太阳电池在钝化层去除酸液中清洗600~900s。
4.根据权利要求1所述的用于钝化发射极背面接触晶硅太阳电池的返工工艺,其特征是,步骤2中,水洗180~300s,并在水洗后用加热氮气吹干。
5.根据权利要求1所述的用于钝化发射极背面接触晶硅太阳电池的返工工艺,其特征是:步骤2中,PN结去除酸液为HF/HNO3的混合溶液,其中,混合溶液中,HF的浓度为3%~8%,HNO3的浓度为20%~30%,清洗时间为120~240s。
6.根据权利要求1所述的用于钝化发射极背面接触晶硅太阳电池的返工工艺,其特征是:步骤3中,用浓度为3%~8%的NaOH溶液或KOH溶液的碱液,清洗时间为30s~90s,以去除多孔硅。
7.根据权利要求1所述的用于钝化发射极背面接触晶硅太阳电池的返工工艺,其特征是:步骤4中,水洗的时间为180~300s,并用加热氮气对水洗后的PERC太阳电池吹干。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201510553442.3A CN105047765A (zh) | 2015-09-01 | 2015-09-01 | 用于钝化发射极背面接触晶硅太阳电池的返工工艺 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN201510553442.3A CN105047765A (zh) | 2015-09-01 | 2015-09-01 | 用于钝化发射极背面接触晶硅太阳电池的返工工艺 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN105047765A true CN105047765A (zh) | 2015-11-11 |
Family
ID=54454151
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN201510553442.3A Pending CN105047765A (zh) | 2015-09-01 | 2015-09-01 | 用于钝化发射极背面接触晶硅太阳电池的返工工艺 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN105047765A (zh) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106299023A (zh) * | 2016-08-26 | 2017-01-04 | 奥特斯维能源(太仓)有限公司 | 一种抗pid太阳能电池返工片的处理方法 |
CN107275445A (zh) * | 2017-08-04 | 2017-10-20 | 常州天合光能有限公司 | 一种多晶硅太阳能电池片隔离返工工艺 |
CN107331730A (zh) * | 2017-07-03 | 2017-11-07 | 浙江爱旭太阳能科技有限公司 | 管式perc太阳能电池的修复工艺及制备工艺 |
CN108054243A (zh) * | 2017-12-16 | 2018-05-18 | 广东爱旭科技股份有限公司 | 一种单晶perc太阳能电池镀膜不良片的返工方法 |
CN108470799A (zh) * | 2018-05-17 | 2018-08-31 | 协鑫集成科技股份有限公司 | 背钝化晶体硅片的返工处理方法、太阳能电池及制备方法 |
CN113421946A (zh) * | 2021-06-21 | 2021-09-21 | 苏州潞能能源科技有限公司 | 太阳能电池返工工艺 |
JP2022502870A (ja) * | 2018-10-12 | 2022-01-11 | 浙江愛旭太陽能科技有限公司Zhejiang Aiko Solar Energy Technology Co., Ltd. | 結晶シリコン太陽電池の表面の周縁めっきを除去する方法 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102544241A (zh) * | 2012-03-19 | 2012-07-04 | 泰州德通电气有限公司 | 一种硅太阳能电池片还原成硅片的方法 |
CN103606595A (zh) * | 2013-11-21 | 2014-02-26 | 英利集团有限公司 | 烧结后不合格单晶硅电池片的再利用及其栅线回收方法 |
CN204179095U (zh) * | 2014-10-16 | 2015-02-25 | 苏州阿特斯阳光电力科技有限公司 | 一种perc太阳能电池 |
-
2015
- 2015-09-01 CN CN201510553442.3A patent/CN105047765A/zh active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102544241A (zh) * | 2012-03-19 | 2012-07-04 | 泰州德通电气有限公司 | 一种硅太阳能电池片还原成硅片的方法 |
CN103606595A (zh) * | 2013-11-21 | 2014-02-26 | 英利集团有限公司 | 烧结后不合格单晶硅电池片的再利用及其栅线回收方法 |
CN204179095U (zh) * | 2014-10-16 | 2015-02-25 | 苏州阿特斯阳光电力科技有限公司 | 一种perc太阳能电池 |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN106299023A (zh) * | 2016-08-26 | 2017-01-04 | 奥特斯维能源(太仓)有限公司 | 一种抗pid太阳能电池返工片的处理方法 |
CN106299023B (zh) * | 2016-08-26 | 2017-12-22 | 奥特斯维能源(太仓)有限公司 | 一种抗pid太阳能电池返工片的处理方法 |
CN107331730A (zh) * | 2017-07-03 | 2017-11-07 | 浙江爱旭太阳能科技有限公司 | 管式perc太阳能电池的修复工艺及制备工艺 |
CN107331730B (zh) * | 2017-07-03 | 2019-04-23 | 浙江爱旭太阳能科技有限公司 | 管式perc太阳能电池的修复工艺及制备工艺 |
CN107275445A (zh) * | 2017-08-04 | 2017-10-20 | 常州天合光能有限公司 | 一种多晶硅太阳能电池片隔离返工工艺 |
CN108054243A (zh) * | 2017-12-16 | 2018-05-18 | 广东爱旭科技股份有限公司 | 一种单晶perc太阳能电池镀膜不良片的返工方法 |
CN108470799A (zh) * | 2018-05-17 | 2018-08-31 | 协鑫集成科技股份有限公司 | 背钝化晶体硅片的返工处理方法、太阳能电池及制备方法 |
JP2022502870A (ja) * | 2018-10-12 | 2022-01-11 | 浙江愛旭太陽能科技有限公司Zhejiang Aiko Solar Energy Technology Co., Ltd. | 結晶シリコン太陽電池の表面の周縁めっきを除去する方法 |
CN113421946A (zh) * | 2021-06-21 | 2021-09-21 | 苏州潞能能源科技有限公司 | 太阳能电池返工工艺 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN105047765A (zh) | 用于钝化发射极背面接触晶硅太阳电池的返工工艺 | |
CN105206711B (zh) | 一种太阳能电池片加工方法 | |
CN101777606B (zh) | 一种晶体硅太阳电池选择性扩散工艺 | |
CN102629644B (zh) | 一种成品晶硅太阳能电池片的返工工艺 | |
CN102569530B (zh) | 一种晶体硅太阳电池背面钝化介质层局部刻蚀方法 | |
CN102263159A (zh) | 一种利用硼磷共扩散制备n型太阳电池的工艺 | |
CN102931290A (zh) | 一种不损伤绒面的多晶硅太阳能电池返工方法 | |
CN102074617A (zh) | 一种丝网印刷返工硅片的处理方法 | |
CN104993014B (zh) | 扩散后不良片的单独返工方法 | |
CN106098860A (zh) | 一种太阳能电池片的生产工艺 | |
CN101339966A (zh) | 太阳能电池的后制绒生产工艺 | |
CN102623563B (zh) | 一种双面受光型晶体硅太阳电池的制备方法 | |
CN101635319B (zh) | 一种制作背面铝扩散的n型太阳能电池的方法 | |
CN104993021A (zh) | 一种提升太阳能电池丝印返工片转化效率的方法 | |
CN101931030B (zh) | 纳米改性高效率低成本多晶硅太阳能电池制备工艺 | |
CN103280492A (zh) | 一种高方阻太阳能电池的制作方法 | |
CN105355710B (zh) | 一种太阳能电池片加工工艺 | |
CN102723401A (zh) | 选择性发射极晶体硅太阳电池制造方法 | |
CN102683483A (zh) | 一种晶硅太阳能电池去死层方法 | |
CN203536374U (zh) | 一种制造晶硅太阳能电池的湿法刻蚀装置 | |
CN101339964A (zh) | 晶体硅太阳能电池的选择性扩散方法 | |
CN102354716A (zh) | 一种激光打孔后硅片的处理方法 | |
CN104299890A (zh) | 一种硅片表面钨铁金属离子的清洗方法 | |
CN102255000B (zh) | 具有图案的太阳能电池片的制备方法 | |
CN104835867A (zh) | 一种新型的硅片清洗工序单面酸腐蚀制绒的方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20151111 |
|
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |