CN102711847B - 用于通过电子束处理容器的装置的钟形罩形保护系统 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种处理装置，包括保护系统和一个或多个处理站(2)，每个处理站(2)包括电子束发射器(31)和用于将容器支撑在所述发射器下方的支撑设备(5)，所述发射器能够发射经过由所述支撑设备支撑的容器的上部开口的电子束，以对所述容器进行灭菌，所述保护系统用于阻挡由发射器发射的放射物。所述保护系统包括连接到发射器的上部部分(6A)、连接到支撑设备的下部部分(6B)和移动设备(9)，移动设备(9)能够使上部部分在缩进位置和至少一个操作位置之间相对于下部部分移动，在操作位置中，所述部分形成保护外壳(E1)，发射器和容器定位在保护外壳(E1)中。

Description

用于通过电子束处理容器的装置的钟形罩形保护系统

技术领域

本发明涉及一种处理装置，用于通过电子束进行容器的灭菌，所述装置设有特殊的保护系统。

背景技术

特别是通过美国专利2009/0045350已知用于处理的装置，其包括具有旋转支撑板的旋转的圆盘传送带，其中的旋转支撑板支撑以规则角度间隔布置的多个处理站，每个处理站包括具有电子束发射器的灭菌设备，以及用于将容器支撑在所述发射器下方的支撑设备，所述发射器能够发射经过由所述支撑设备支撑的容器的上部开口的电子束，以对容器特别是所述容器的内壁进行灭菌。

与常规的化学灭菌相比，通过电子束灭菌关于灭菌方面更加有效、迅速并且在处理后不留下任何残留痕迹。

然而，电子束发射器产生不想要的辐射，特别是X射线，并且因而需要提供保护系统或防护物以防止放射物朝外部传播的任何风险，并由此保护操作员。保护系统通过由铅基材料制成的保护外壳形成，其中放置用于灭菌的旋转的圆盘传送带，以及容器的进给和输送星轮。这些保护系统复杂、笨重而且非常昂贵。

发明内容

本发明的目的是建议一种在填充前对容器灭菌的处理装置，意在克服前述缺点，其是高性能且迅速的，同时在设计和实施上仍然保持简单。

为此效果，本发明建议一种处理装置，包括：

—一个或多个处理站，用于通过电子束对容器进行灭菌，每个处理站包括：

—灭菌设备，其包括电子束发射器，和

—支撑设备，其将容器支撑在所述发射器下方，所述发射器能够发射经过由所述支撑设备支撑的容器的上部开口的电子束，以对容器特别是容器的内壁进行灭菌，以及

—保护系统，其用于阻挡由一个或多个发射器发射的放射物，

其特征在于，对于每个处理站，所述保护系统包括：

—上部部分，其组装到发射器，

—下部部分，其组装到支撑设备，和

—移动设备，其能够进行上部部分相对于下部部分在缩进位置和至少一个作用位置之间的相对移动，在所述缩进位置中，上部部分与下部部分分离，以允许由支撑设备支撑的容器在发射器下方的定位，在所述作用位置中，上部部分和下部部分形成保护外壳，发射器和由支撑设备支撑的容器定位在该保护外壳中，以进行灭菌操作。

根据本发明，灭菌通过电子束进行，并且对于每个发射器保护系统包括下部部分和上部部分，下部部分和上部部分能够朝彼此移动以形成保护外壳，其中相同的上部部分和/或相同的下部部分能够为多个发射器或者该装置的所有发射器所共有。关于包含整个装置的外壳，根据本发明的保护外壳在设计和生产上简单、更便宜且更简洁。

根据实施方式，所述上部部分包括第一小板或第一板，称为上板，其上安装发射器，所述发射器向下延伸，所述下部部分包括第二小板或第二板，称为下板，构成所述支撑设备，其中至少上部部分或下部部分包括裙缘或管状壁形式，与其板一起形成钟形罩。

根据实施方式，上部部分具有由上板和管状壁形成的钟形罩形式，当上部部分处于作用位置时，下部部分的下板布置在钟形罩中。有利地，下板具有向下延伸的管状壁，并且该管状壁能够在上部部分的管状壁中滑动，这些管状壁的重叠保证了由一个或多个发射器发射的放射物的阻挡。

根据实施方式，所述发射器设有管状喷嘴，该管状喷嘴基本竖直地在上板下方延伸并能够借助其远端输送由发射器产生的电子束，在上部部分朝着作用位置移动期间，所述喷嘴能够通过经过所述容器的上部开口而被引入所述容器中。根据实施方式，所述移动设备能够使上部部分在第一操作位置和末端操作位置之间移动，在第一操作位置中，喷嘴的远端布置在容器的上部开口上方，在末端操作位置中，所述喷嘴延伸到容器中。

根据另一实施方式，保护系统的一个部分是钟形罩的形式，所述钟形罩基本上借助其自由边缘压紧另一部分的板。根据另一实施方式，上部部分和下部部分中的每一个由钟形罩形成，两个钟形罩基本上在单独的作用位置相互压靠，或者更优选地，在操作位置中相互部分地嵌入。

根据实施方式，所述装置是逐步操作的线性类型的装置，包括至少一个或多个通道或平行处理线，例如从1到12条处理线，更优选地，从6到12条线，每条线设有至少一个处理站。根据实施方式，处理装置包括：

—多条线，其相互平行，

—至少一排处理站，其包括用于每条处理线的处理站，

—保护系统的上部部分，其包括上板和管状壁，所述上板支撑所述排处理站的所有发射器，所述管状壁从所述上板向下延伸并包围该排的所有所述发射器，

—保护系统的下部部分，其包括下板，该下板能够支撑用于每条处理线的至少一个容器，构成所述排的处理站的支撑设备，

—所述移动设备能够移动所述上板和/或下板，更优选地，能够移动所述上板。

保护系统包括关联的相同钟形罩和相同下板，用于处理站的排的所有处理站。

该装置可包括至少两个连续排的处理站，其相互平行。在此情形下，更优选地，保护系统包括上部部分特别是钟形罩和用于每排处理站的下部部分，以此方式用于形成用于每排处理站的保护外壳。

根据另一实施方式，该装置是旋转类型的装置，并且包括圆盘传送带，该圆盘传送带包括上部旋转板，支撑以规则角度间隔布置的多个处理站，保护系统包括用于每个处理站的上部部分和下部部分。

有利地，构成保护系统的元件由铅基材料制成。

借助电子束灭菌能够在外壳中，特别是在置于外壳中的容器中产生小量臭氧。根据实施方式，所述保护系统包括注射设备，该注射设备能够在借助电子束辐射期间和/或以后将产品注入外壳，并且特别是注入容器中以排出在辐射期间由电子束发射器产生的臭氧，并且由此借助于将在容器中调节的填充产品的臭氧来防止任何的变质。注射产品是气体产品或具有低沸点的液体产品，特别是例如氮气的中性气体或液氮。有利地，所述注射设备包括注射管，更优选地沿着发射器的喷嘴延伸，所述管能够通过在上部部分朝作用位置移动期间经过所述容器的上部开口而被引入所述容器中。

根据实施方式，所述保护系统，更优选地保护系统的上部部分，并且特别是上板包括排空设备，用于朝外壳的外部排空包含在外壳中的气体，以在上部部分相对于下部部分的相对移动期间和/或在中性气体注入外壳中的期间，防止外壳中的任何过压。所述排空设备包括例如一个或多个通气孔，更优选地布置在保护系统的上部部分的壁中，并且更优选地在保护系统的上部部分中，每个通气孔更优选地设有置于部分真空中的外管。

根据实施方式，所述保护系统还包括挡板系统，以用作在上部部分和下部部分之间的连接处的由一个或多个发射器发射的放射物的屏蔽，所述挡板系统包括例如下部管状壁的环状边缘，其由环状壁延伸，当钟形罩处于作用位置时，上部管状壁插入形成在环状壁和下部管状壁之间的凹槽中。

附图说明

在本发明当前优选具体实施方式的以下详细的解释性描述期间，并参照所附的概略图，本发明将被更好地理解并且其他的目的、细节、特征和优势将显得更加清晰，附图中：

图1是根据本发明的处理装置的概略侧视图，包括用于容器灭菌的处理站；

图2A至2C是处理站的侧视图，显示容器灭菌期间保护系统的各种位置；

图3是根据可选择实施方式的处理装置的概略顶视图，包括平行的多个灭菌站；

图4是根据图3中截平面IV-IV的概略视图；

图5是根据图3中截平面V-V的概略视图；并且

图6是根据可选择实施方式的处理站的概略侧视图。

具体实施方式

图1显示一种处理装置，用于容器R的灭菌、由填充产品处理的容器的填充以及容器的封闭。

处理装置包括处理线1，处理线1包括通过逐步操作的输送系统10，沿着处理线1从上游到下游关于向前的方向F1布置了用于带来容器的站81、用于容器灭菌的处理站2、填充站82、封闭站83和用于容器的搬空站84。为了保证容器的无菌填充，整个处理线放置在无菌空气的层流下方，例如如由箭头F4概略显示的下降层流。

根据本发明的装置允许包括上部主开口的任何类型的容器R的灭菌、填充和堵塞。处理站2通过经过容器的上部开口而允许容器内壁的灭菌。实质上已知的填充站82，例如基于重量的类型，允许由确定量的填充产品填充灭菌的容器，其中填充产品为液体或粘性物，例如像水、奶或果汁的液体产品。封闭站83或堵塞站此处使得在填充容器的上部开口上安装盖子成为可能。

处理站2包括由电子束发射器31形成的灭菌设备3，实质上已知地，该灭菌设备3设有延伸形式的管状喷嘴或管状天线(antenne)32，发射器能够借助于其喷嘴的远端32a输送电子束。喷嘴的远端设有钛片材。灭菌设备例如通过如美国专利文献2008/0073549中所述的发射器形成。发射器固定安装在称为上板的小板或板4的下表面上，具有纵向竖直轴线A(图2A)的其喷嘴竖直向下延伸。喷嘴被以此方式限定使得其能够通过容器的上部开口插进，以照射容器的内部。参照图2A，板支撑件通过移动设备9的中间物移动地安装在装置的底盘C上，移动设备9也称为升高/降低设备，实质上已知地，使得能够以如箭头F2所示的竖直平移的方式在下文描述的高缩进位置和低操作位置之间移动上板。

每个处理站还包括容器R的支撑设备，用于将容器保持在发射器下方，根据喷嘴的轴线A大体上居中。支撑设备包括称为下板的固定用具或板5，其固定安装在装置的底盘C上，能够支撑容器。可选择地，移动设备作用在支撑设备上，其中上部钟形罩固定安装在底盘上。

根据本发明的装置包括保护系统或防护物，以阻挡由发射器发射的放射物，特别是X射线类型的干涉放射物。此防护系统包括上部部分6A和下部部分6B。上部部分具有由上板4和上部管状壁61形成的钟形罩6A的形状，其中的上部管状壁61也称为上部裙缘，从所述上板向下延伸。上板构成钟形罩的底壁，上部裙缘61包围发射器31及其天线32并延伸超过天线的远端32a。下部部分6B由所述下板5并由下部管状壁62形成，下部管状壁62也称为下部裙缘，从所述下板5向下延伸。该装置包括例如单个的处理线1，具有用于灭菌的单个处理站2。保护钟形罩6A具有大体圆柱形形状，其中其上板4具有圆盘的形状，并且其上部裙缘61具有圆形横向截面。下板5也具有圆盘的形状，并且其下部裙缘62具有圆形截面，其外直径基本上对应于上部裙缘61的内直径。

参照图2a，在上板的高缩进位置中，钟形罩6A的环状自由边缘61a布置在下板5的上方，以此方式使得容器R能够在所述下板上放在发射器下方并在钟形罩下方。

为了容器的灭菌操作，如图2B中所示，上板4借助于移动设备9以竖直平移的方式向下朝第一操作位置移动。在此移动期间，钟形罩6A覆盖容器R，下部部分的下部裙缘62在钟形罩的上部裙缘61中滑动。发射器31及其天线32布置在容器的开口上方。上板4和形成钟形罩6A的上部裙缘61，以及设有其下部裙缘62的下板5由铅基材料制成，并在该第一操作位置一起形成保护外壳E1。在此第一操作位置，发射器31可被驱动以辐射容器的外壁。上部裙缘61和下部裙缘62重叠足以防止任何放射物离开外壳E的高度。

上板4然后借助于移动设备9进一步向下移动，到达如图2C中所示的末端操作位置，以辐射容器的整个内壁。在此移动期间，下部部分的下部裙缘62在钟形罩的上部裙缘61中滑动。喷嘴32的长度和上部裙缘61的高度被调整，以此方式使得喷嘴的远端32a在末端操作位置中布置在容器R的底部附近。

上板4然后逐步地朝着图2B中所示的其第一低操作位置恢复。辐射然后停止，并且上板4恢复图2A中所示的其缩进位置。输送机10然后被驱动以搬空处理的容器并将其朝着填充站82转移，并将待处理的另一容器放到发射器下方。

根据本发明的装置能够在Log3大小的灭菌水平下被用于不同容器的灭菌填充。

容器可以是例如附图中概略显示的瓶子类型，由玻璃或例如PET、PEHD或PP的塑料材料制成。填充借助于填充喷口在填充站82处进行，并且瓶子被再次封闭，更优选地在氮饱和环境下，在包括帽的螺旋设备的堵塞站83处再次封闭。根据实施方式，瓶子借助于被插入瓶子中并用于输送不同产品的两个平行管填充。第一管被用于输送例如液体，比如果汁，而另一管被用于输送例如浆状物和/或维他命。

容器可以是《砖》形的纸盒，通常由合成的纸盒/LDPE/铝材料形成。纸盒预先预成型并在装置中开口地输送。纸盒在其下侧上开口，或者在可能设有盒盖基体的其上侧上，其热密封至合成材料并且盒盖旋拧在其上。在通过天线经由其开口侧插入容器中灭菌以后，纸盒通过使用填充喷口或一个或两个管在填充站被填充，然后在封闭站被密封，更优选地处于氮饱和环境下，其中的螺旋设备由加热铁块取代。

容器可以是《砖》形的纸盒，预先预成型并已经借助于在上部部分处热密封而用盒盖基体封闭，例如为32或36mm，已经热密封至合成材料。纸盒通过基体开口输送到装置中，没有盒盖。在通过天线经由其开口基体插入容器中灭菌以后，填充通过管进行，之后封闭通过将盒盖旋拧在基体上而进行。

容器可以是由钢或铝制成的罐，其在填充以后卷曲，其中封闭站因而包括卷曲单元。

图3至5显示了可选择的实施方式，其中该装置包括6条平行的处理线1a-1f，每条处理线包括用于容器灭菌的处理站102，其中的站根据垂直于处理线的排布置。

发射器131安装在例如由矩形形成的相同上板104的下表面上。上板以在装置的底盘C'上平移的方式移动地安装。由矩形板形成的共同下板105构成用于全部处理站的排的处理站2的支撑设备。

保护系统的上部部分由钟形罩106A形成，钟形罩106A由所述共同上板104和矩形截面的管状壁或上部裙缘161构成。保护系统的下部部分106B由所述共同下板05和向下延伸的管状壁或下部裙缘162形成。

为各种处理站所共有的移动设备109(图3)使得能够在图4中所示缩进位置和例如如上所述的操作位置，且尤其是图5所示的末端操作位置之间移动上板104，以形成保护外壳E2并允许六个容器被同时灭菌。

容器R沿着6条处理线的驱动通过具有楔形物的输送带110提供，其包括布置在运送滑动床112的任一侧上的两条环状带111，其中之间安装楔状物113。滑动床112具有用于钟形罩的管状壁162的通道和下板的定位的开口112a。

纵向引导唇状物114(图5)有利地设置在滑动床和下板上，以沿着处理线1a-1f横向地引导容器。可选择地，容器的横向引导通过楔形物提供，楔形物包括例如印痕，其形状对应于待输送容器的形状。

为了将一排容器置于下板105上，上板被置于高缩进位置，并且输送机被致动以在方向F3上移动楔形物并由此在发射器下方推动一排容器，例如图4中所示。输送机然后在反向方向上被驱动以朝着后部移动楔形物，并且特别地将开口112a与在发射器下方推动容器的楔形物分离，从而允许钟形罩106A朝其操作位置移动。

该装置的每条线还可包括如上所述的在处理站102的下游的填充站和堵塞站。

可选择地，每条处理线1a-1f包括按照垂直于处理线的多排布置的多个处理站。对于处理站的每一排来说，保护系统包括钟形罩和下部部分，钟形罩的共同上板支撑该排的站的发射器，下部部分的下板构成该排的站的支撑设备。更优选地，钟形罩通过共同的移动设备109在其缩进位置及其作用位置之间移动。处理站的排彼此移位，以当钟形罩处于作用位置时，允许楔形物定位在两个连续的钟形罩之间。

根据本发明的保护系统还可以与用于旋转类型的处理的装置一起使用，其中用于旋转类型的处理的装置包括具有环状或圆形板形式的支撑板或上板的圆盘传送带，其中的圆盘传送带意在被安装成围绕竖直旋转轴线关于固定框架旋转。支撑板支撑以规则角度间隔围绕旋转轴线布置的多个处理站。每个站包括安装在板的下表面上的发射器。保护系统的上部部分由支撑板和包围发射器并从板的下表面延伸的多个上部裙缘构成。每个上部裙缘与上板一起形成与处理站关联的钟形罩。每个处理站的支撑设备包括设有下部裙缘的固定用具或下板。每个处理站包括移动设备，移动设备在此作用在下板上，以将其在分离位置和操作位置之间从上板移动，用于例如借助于进给星轮和输送星轮，允许容器定位在下板上并将容器从下板中去除，其中具有其上部裙缘的下板与上部钟形罩一起形成保护外壳。

图6显示处理站的可选择实施方式，其不同于图2A至2C中所示的处理站在于其包括用于将产品注入外壳中以排除在借助于电子束的灭菌期间产生的臭氧的注射设备以及用于将气体排出外壳外部的排空设备的事实。处理站202包括如之前的灭菌设备203，灭菌设备203包括电子束发射器231，电子束发射器231设有管状天线232并安装在上板204上。保护系统包括由上板204和上部管状壁261形成的上部钟形罩206A，以及由下板205形成且设有下部管状壁262的下部部分206B。上板能够通过移动设备209以竖直平移的方式移动，并且用作用于容器R的支撑的下板固定安装在底盘C”上。

处理站包括固定安装在钟形罩中的管道或注射管7。此管平行于发射器的天线延伸，其中管的远端70a基本布置在与天线远侧的远端232a相同水平的位置。此管以基本密封的方式通过钟形罩的上板204。管被用于紧接辐射以后，例如当上板4处于其第一操作位置时将中性气体，例如氮气注入容器R中，以在容器R中产生过压并由此将由辐射产生的臭氧排出容器的外部。可选择地，中性气体的注入还在辐射期间进行，例如当上板从其末端操作位置朝其第一操作位置移动时。

可选择地，管被用于在辐射期间和/或紧接辐射以后将液氮例如液氮的液滴输送到容器R中，其中液氮转化为气态然后逐渐地填充容器并逐渐地将臭氧冲出容器的外部。

上板204设有没入外壳E3中的通气孔241，以防止外壳内部的过压。这些通气孔用于排空包含在外壳中并在上板204下降直到其末端操作位置期间被压缩的气体。另外，这些通气孔被用于排空在容器中由辐射产生并借助于注射的氮推到容器R外部的臭氧。由铅制成的挡板系统242设置在上板的下表面上，以用于在灭菌期间产生的X射线的屏蔽，并由此防止放射物借助于所述通气孔传播到外壳的外部。通气孔连接到置于部分真空中的柔性管243，以吸入由钟形罩和下部部分的相对移动而压缩的气体并且特别地吸入由辐射产生的臭氧。

有利地，也由铅制成的挡板系统263被设置，以防止放射物在上部部分206A和下部部分206B之间的界面上的任何传播，更精确地，在钟形罩的上部管状壁261和下部管状壁262之间的界面处。挡板系统263包括从下部管状壁262的自由边缘朝外部延伸并借助于竖直环状壁263b延伸的水平环状边缘263a，竖直环状壁263b平行于下部管状壁向上延伸并基本到达下板205。此环状壁263b与下部管状壁262一起形成环状凹槽264，其中在钟形罩相对于下板205的相对移动期间滑动钟形罩的上部管状壁261。

虽然本发明已经结合具体实施方式进行了描述，但是当然明显的是本发明决不限制于此并且本发明包括所述设备的所有技术等效形式及其组合，如果后者落入本发明范围内的话。

Claims (13)

1.一种处理装置，包括：

—一个或多个处理站(2、102、202)，其用于通过电子束对容器(R)进行灭菌，每个处理站包括灭菌设备(3、103、203)和支撑设备，所述灭菌设备(3、103、203)包括设有管状喷嘴(32、132、232)的电子束发射器(31、131、231)，所述支撑设备用于将容器支撑在所述发射器下方，所述发射器能够发射经过由所述支撑设备支撑的容器的上部开口的电子束，以对所述容器进行灭菌，以及

—保护系统，其用于阻挡由所述发射器或多个发射器发射的放射物，

其特征在于，对于每个处理站，所述保护系统包括：

—上部部分(6A、106A、206A)，所述上部部分组装到所述发射器，所述上部部分具有由称为上板的第一板(4、104、204)并由从所述上板向下延伸的管状壁(61、161、261)形成的钟形罩的形状，所述发射器安装在所述第一板上并且所述发射器的喷嘴基本上在所述上板下方竖直地延伸，

—下部部分(6B、106B、206B)，所述下部部分包括第二板(5、105、205)，所述第二板称为下板，构成所述支撑设备，和

—移动设备(9、109、209)，所述移动设备能够进行所述上部部分相对于所述下部部分在缩进位置和操作位置之间的相对移动，在所述缩进位置中，所述上部部分与所述下部部分分离，以允许由所述支撑设备支撑的容器在所述发射器下方的定位，在所述操作位置中，所述上部部分和所述下部部分形成保护外壳(E1、E2、E3)，所述发射器和由所述支撑设备支撑的所述容器定位在所述保护外壳(E1、E2、E3)中，当所述上部部分处于作用位置时，所述下板布置在所述钟形罩中，所述移动设备能够使所述上部部分在第一操作位置和末端操作位置之间移动，在所述第一操作位置中，所述喷嘴(32、132、232)的远端(32a、232a)布置在所述容器的所述上部开口上方，在所述末端操作位置中，所述喷嘴在所述容器中延伸，所述下板(5、105、205)具有向下延伸的管状壁(62、162、262)，所述管状壁(62、162、262)能够在所述上部部分(6A、106A、206A)的所述管状壁(61、161、162)中滑动，这些管状壁的重叠保证了由一个或多个发射器发射的放射物的阻挡，

所述上板(4、104、204)构成所述钟形罩的底壁，所述上部部分(6A、106A、206A)的管状壁(61、161、162)包围所述发射器(31、131、231)及其喷嘴(32、132、232)并延伸超过所述喷嘴(32、132、232)的所述远端(32a、232a)。

2.根据权利要求1所述的处理装置，其特征在于，在此第一操作位置，所述发射器(31、131、231)能被驱动以辐射所述容器的外壁，所述上部部分(6A、106A、206A)的管状壁(61、161、162)和所述下部部分的管状壁(62、162、262)重叠足以防止任何放射物离开所述保护外壳(E1、E2、E3)的高度，所述上板(4、104、204)进一步向下移动到达末端操作位置，以能够辐射所述容器的整个内壁，在此进一步的移动期间，所述下部部分的管状壁(62、162、262)在所述钟形罩的管状壁(61、161、162)中滑动，所述喷嘴(32、132、232)的长度和所述钟形罩的管状壁(61、161、162)的高度被调整，以此方式使得所述喷嘴的远端(32a、232a)在末端操作位置中布置在所述容器(R)的底部附近。

3.根据权利要求1或2所述的处理装置，其特征在于，所述装置是逐步操作的线性类型的装置，包括至少一条或多条平行的处理线(1a-1f)，每条线设有至少一个处理站(2、102、202)。

4.根据权利要求3所述的处理装置，其特征在于，所述处理装置包括：

—多条线(1a-1f)，其相互平行，

—至少一排处理站，其包括用于每条处理线的处理站，

—所述钟形罩的所述上板(4、104、204)，其支撑所述至少一排处理站的所有发射器(31、131、231)并且所述钟形罩的所述管状壁(61、161、261)从所述上板向下延伸并包围所述排的所有所述发射器，

—所述下板(5、105、205)，其构成所述排的所述处理站的所述支撑设备，

—所述移动设备，其能够移动所述上板和/或所述下板。

5.根据权利要求1或2所述的处理装置，其特征在于，所述装置是旋转类型的装置，所述装置包括圆盘传送带，所述圆盘传送带包括上部旋转板，支撑以规则角度间隔布置的多个处理站，所述保护系统包括用于每个处理站的上部部分和下部部分。

6.根据权利要求1或2所述的处理装置，其特征在于，构成所述保护系统的元件(4、61、5、62；104、105、161、162；204、261、205、262)由铅基材料制成。

7.根据权利要求1或2所述的处理装置，其特征在于，所述保护系统包括能够将产品注入所述保护外壳(E3)中以排出在辐射期间由所述发射器(231)产生的臭氧的注射设备。

8.根据权利要求7所述的处理装置，其特征在于，所述注射设备包括注射管(7)，所述管能够通过在所述上部部分(206A)朝所述作用位置移动期间经过所述容器的上部开口而被引入所述容器(R)中。

9.根据权利要求1或2所述的处理装置，其特征在于，所述保护系统包括排空设备(241、242)，用于朝所述保护外壳(E3)的外部排空包含在所述保护外壳中的气体。

10.根据权利要求7所述的处理装置，其特征在于，所述保护系统包括排空设备(241、242)，用于朝所述保护外壳(E3)的外部排空包含在所述保护外壳中的气体。

11.根据权利要求8所述的处理装置，其特征在于，所述保护系统包括排空设备(241、242)，用于朝所述保护外壳(E3)的外部排空包含在所述保护外壳中的气体。

12.根据权利要求1或2所述的处理装置，其特征在于，所述保护系统包括挡板系统(263)，以用作在所述上部部分(206A)和所述下部部分(206B)之间的连接处的由所述发射器或多个发射器发射的放射物的屏蔽。

13.根据权利要求12所述的处理装置，其特征在于，所述挡板系统包括所述下部管状壁(262)的环状边缘(263a)，所述环状边缘(263a)经由环状壁(263b)延伸，当所述钟形罩(206A)处于作用位置时，所述上部管状壁(261)插入形成在所述环状壁和所述下部管状壁之间的凹槽(264)中。