CN102707846A - 一种在非平面电容式触摸屏上制备透明导电层的方法 - Google Patents
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Abstract
一种在非平面电容式触摸屏上制备透明导电层的方法，涉及在电容式触摸屏上制备透明导电层的技术领域。本发明包括如下步骤：将透明导电原料制备成待转印的透明导电层；对非平面触摸屏面板表面进行强化处理，切割后制成非平面触摸屏面板层；按顺序依次布置转印基材层、光阻层、透明导电层、非平面触摸屏面板层，利用转移印工艺，将透明导电层、光阻层转印到非平面触摸屏面板层上。本发明实现了应用范围广，避免出现断层现象，生产效率高，制造过程简单的目的。
Description
技术领域
本发明涉及在电容式触摸屏上制备透明导电层的技术领域。
背景技术
电容式触摸屏是新型显示器件领域的一项新技术，透明导电层是电容式触摸屏的核心材料，以经济的方法制作出高可靠性的导电层是制造合格电容屏的重要基础。
作为一种新型触摸控制元件，电容式触摸屏的应用越来越广泛，样式也越来越丰富，不仅有传统的的平面式，也逐渐发展出非平面式电容屏，如：柱面、模具成型的曲面。
在真空溅镀氧化铟锡导电层过程中，因非平面电容屏存在转角，氧化铟锡不易溅镀，容易形成断层现象，这是传统真空溅镀工艺难以克服的。
发明内容
本发明目的是提供一种应用范围广，避免出现断层现象，生产效率高，制造过程简单的在电容式触摸屏上制备透明导电层的方法。
一种在非平面电容式触摸屏上制备透明导电层的方法，包括如下步骤：
第一步：将透明导电原料制备成待转印的透明导电层；
第二步：对非平面触摸屏面板表面进行强化处理，切割后制成非平面触摸屏面板层；
第三步：按顺序依次布置转印基材层、光阻层、透明导电层、非平面触摸屏面板层，利用转移印工艺，将透明导电层、光阻层转印到非平面触摸屏面板层上。
本发明的透明导电原料为氧化铟锡或纳米银中的一种。
本发明采用上述技术方案，与现有技术相比具有优点：
1、克服断层现象：此方法充分利用纳米银导电膜的柔韧性，完全克服了真空溅镀氧化铟锡导电层所产生的断层现象；
2、适应面广：不仅可以向PC板、PMMA板以及复合板上转印，亦可以向钢化玻璃、PET面板上转印。
3、突破了平面式面板的单调形象，满足了个性化的需求；
4、适应面广：不仅可以向PC板、PMMA板以及复合板上转印，亦可以向钢化玻璃、PET面板上转印；
5、充分利用转移印刷的优点，简化了产品制造过程，提高生产效率。
附图说明
图1是本发明转印前的结构示意图。
图2是本发明转印后的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图对本发明的技术方案进行详细说明：
如图1、图2所示，一种在非平面电容式触摸屏上制备透明导电层的方法，包括如下步骤：
第一步：将透明导电原料制备成待转印的透明导电层2；
第二步：对非平面触摸屏面板表面进行强化处理，切割后制成非平面触摸屏面板层1；
第三步：按顺序依次布置转印基材层3、光阻层4、透明导电层2、非平面触摸屏面板层1，利用转移印工艺，将透明导电层2、光阻层4转印到非平面触摸屏面板层1上。
本发明的透明导电原料为氧化铟锡或纳米银中的一种。
Claims (2)
1.一种在非平面电容式触摸屏上制备透明导电层的方法，其特征在于包括如下步骤：
第一步：将透明导电原料制备成待转印的透明导电层（2）；
第二步：对非平面触摸屏面板表面进行强化处理，切割后制成非平面触摸屏面板层（1）；
第三步：按顺序依次布置转印基材层（3）、光阻层（4）、透明导电层（2）、非平面触摸屏面板层（1），利用转移印工艺，将透明导电层（2）、光阻层（4）转印到非平面触摸屏面板层（1）上。
2.根据权利要求1所述的在电容式触摸屏上制备透明导电层的方法，其特征在于上述透明导电原料为氧化铟锡或纳米银中的一种。
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2012
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