CN102658754A - 一种核桃粉末底座及其制作方法 - Google Patents

一种核桃粉末底座及其制作方法 Download PDF

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Abstract

本发明涉及一种底座，具体涉及一种核桃粉末底座。还涉及该底座的制作方法。由核桃粉末、水、乳胶、颜料、添加剂为原料，混合、搅拌后倒入设计好的底座模具内，通过压力机施压成型后在通风的地方晾干制得。本发明有效的节省了资源，减少了浪费。

Description

一种核桃粉末底座及其制作方法
所属技术领域：
本发明涉及一种底座，具体涉及一种核桃粉末底座。本发明还涉及该底座的制作方法。
背景技术：
在制作核桃工艺品的过程中，会通过打磨，产生很多核桃粉末，一般情况下，核桃粉末没有利用价值，多数都是浪费掉了，而一些工艺品用的底座大多用木材、木工板、塑料、树脂等做成，能把核桃粉末再次利用起来制成底座，这样就可以大量节省资源，能有效的避免资源浪费。
发明内容：
本发明的目的是针上述提出的问题而提供一种能够变废为宝，大量节省资源的核桃粉末底座。
本发明的另一发明目的是提供该底座的加工方法。
本发明一种核桃粉末底座，其由下述重量份数的原料制成：
核桃粉末：水：乳胶：颜料：添加剂按照100：10～15：15～20：0.5～0.8：5～10。
具体制作方法，取100份核桃粉末，添加10～15份的水，搅拌均匀，再添加15～20份的乳胶，再次搅拌均匀，然后再添加0.5～0.8份颜料和5～10份的添加剂，快速搅拌均匀，最后再倒入设计好的底座模具内，通过压力机施压成型后在通风的地方晾8～10小时制得。
所述的颜料由氧化铁红和氧化铁黑混合制成。
所述的添加剂为石膏粉。
本发明由于将在制作核桃工艺品的过程中打磨产生的废核桃粉末，通过加工方法制成底座，变废为宝，大量节省了资源，减少了浪费。
具体实施方式：
实施例1：
取下述重量份数的原料：
核桃粉末100份，水10份，乳胶15份，由氧化铁红和氧化铁黑混合制成的颜料0.5份，石膏粉5份。
具体制作方法，取100份核桃粉末，添加10份的水，搅拌均匀，再添加15份的乳胶，再次搅拌均匀，然后再添加氧化铁红和氧化铁黑0.5份和5份的石膏粉，快速搅拌均匀，最后再倒入设计好的底座模具内，通过压力机施压成型后在通风的地方晾8小时制得核桃粉末底座。
实施例2：
取下述重量份数的原料：100：10～15：15～20：0.5～0.8：5～10
核桃粉末100份，水15份，乳胶20份，由氧化铁红和氧化铁黑混合制成的颜料0.8份，石膏粉10份。
具体制作方法，取100份核桃粉末，添加15份的水，搅拌均匀，再添加20份的乳胶，再次搅拌均匀，然后再添加氧化铁红和氧化铁黑0.8份和10份的石膏粉，快速搅拌均匀，最后再倒入设计好的底座模具内，通过压力机施压成型后在通风的地方晾10小时制得核桃粉末底座。

Claims (4)

1.一种核桃粉末底座，其特征是：由下述重量份数的原料制成：
核桃粉末∶水∶乳胶∶颜料∶添加剂按照100∶10～15∶15～20∶0.5～0.8∶5～10。
2.根据权利要求1所述的一种核桃粉末底座的制作方法，其特征是：取100份核桃粉末，添加10～15份的水，搅拌均匀，再添加15～20份的乳胶，再次搅拌均匀，然后再添加0.5～0.8份颜料和5～10份的添加剂，快速搅拌均匀，最后再倒入设计好的底座模具内，通过压力机施压成型后在通风的地方晾8～10小时制得。
3.根据权利要求1所述的一种核桃粉末底座，其特征是：所述的颜料由氧化铁红和氧化铁黑混合制成。
4.根据权利要求1所述的一种核桃粉末底座，其特征是：所述的添加剂为石膏粉。
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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2000058084A1 (en) * 1999-03-26 2000-10-05 Ronald Mark Associates, Inc. Composite materials with bulk decorative features and process for producing same
CN1944080A (zh) * 2006-10-25 2007-04-11 浙江大学 一种以竹粉和/或核桃壳粉为原料的硬质小工艺品的制备方法
CN102198688A (zh) * 2011-04-19 2011-09-28 卢柳均 一种核桃工艺品模型的制作方法

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PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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