CN102627916B - 具有强化功能的玻璃抛光液 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种具有强化功能的玻璃抛光液,包含稀土氧化物和至少一种离子半径大于钠的碱金属盐、除钡以外离子半径大于钠且不水解的金属盐。其中稀土氧化物占抛光液总重的0.001%~80%,离子半径大于钠的碱金属盐、除钡以外离子半径大于钠且不水解的金属盐占抛光液总重的0.01%~15%,抛光液pH=5~12。该玻璃抛光液可以提高抛光后玻璃表面硬度以及机械性能。
Description
技术领域
本发明涉及一种玻璃抛光液,特别涉及一种具有强化功能的玻璃抛光液,该玻璃抛光液对玻璃表面抛光后能够增强玻璃表面抗划伤性能以及机械性能。
背景技术
当前玻璃加工企业生产中所使用的玻璃抛光液主要以大颗粒稀土氧化物粉做抛光摩擦剂,总体抛光速率低,分散稳定性差,容易导致严重的表面划伤,还存在平化抛光效率低等缺陷。长时间抛光往往大大降低抛光效率,造成抛光机的迅速磨损,生产效率低,以及大量的耗材消费。同时,传统玻璃抛光液不具有强化玻璃表面抗划伤与增强玻璃表面机械性能的功能。随着触摸屏在各种显示器方面的广泛利用与普及,对保护屏玻璃的机械以及抗划伤的能力要求日益增高。
发明内容
本发明的目的是提供一种具有强化功能的玻璃抛光液,该玻璃抛光液可以提高抛光后玻璃表面硬度以及机械性能。
解决问题采用的技术方案是:
具有强化功能的玻璃抛光液,包含稀土氧化物和至少一种离子半径大于钠的碱金属盐、除钡以外离子半径大于钠且不水解的金属盐。
稀土氧化物占抛光液总重的0.001%~80%,离子半径大于钠的碱金属盐、除钡以外离子半径大于钠且不水解的金属盐占抛光液总重的0.01%~15%,抛光液pH=5~12。
还含有抛光分散剂,所述抛光分散剂为分子量小于500且在温度小于150℃条件下不分解的含羧基有机化合物。
所述抛光分散剂优选聚马来酸。
离子半径大于钠的碱金属盐优选钾盐。
除钡以外离子半径大于钠且不水解的金属盐优选铁盐、锌盐、铅盐、银盐中的一种。
本发明的有益效果:本发明产品悬浮性强,不宜沉积,分散稳定性好,抛光效果稳定,表面缺陷低,抛光无划痕,可有效提高平化抛光效率,抛光效率大于700纳米/分钟,且不易造成对抛光机的损伤。
具体实施方式
以下结合具体实施例对本发明做进一步详细说明。
实施例一:
1、制备方法:
称取750克稀土氧化物,加入4517克水中,室温下搅拌均匀,制成稀土氧化物悬浮液。向稀土氧化物悬浮液加入50克磷酸钾,将pH调到7.5。还可再向pH=7.5的稀土氧化物悬浮液分别加入5克,10克,15克,30克的聚马来酸制备4个样品。
2、应用实例:
将所制4个样品在Logitech CDP单面抛光机上抛光。下压:1psi,下盘以及载盘转速50RPM,抛光液流速:100ml/分钟。该系列抛光液抛光速率分别为732,810,807,815钠米/分钟,玻璃表面无划痕,抛光机无损伤。玻璃硬度85。
1、制备方法:
称取150克稀土氧化物,加入4517克水中,室温下搅拌均匀,制成稀土氧化物悬浮液。
2、应用实例:
将样品在Logitech CDP单面抛光机上抛光。下压:1psi,下盘以及载盘转速50RPM,抛光液流速:100ml/分钟。该抛光液抛光速率为528钠米/分钟,玻璃表面无划痕,抛光机无损伤。玻璃硬度59。
实施例二:
1、制备方法:
称取350克稀土氧化物,加入3200克水,150克磷酸钾,搅拌均匀,pH调节到7.5。
2、应用实例:
将所制样品在Logitech CDP单面抛光机上抛光。下压:1psi,下盘以及载盘转速50RPM,抛光液流速:100ml/分钟。该抛光液抛光速率为857钠米/分钟,玻璃表面无划痕,抛光机无损伤。玻璃硬度93。
实施例三:
1.制备方法
A:称取0.05克稀土氧化物,加入4933克水中,室温下搅拌均匀,制成稀土氧化物悬浮液。向稀土氧化物悬浮液加入167克硝酸钾,再用盐酸调整pH 10.3。
B:称取100克稀土氧化物,加入4933克水中,室温下搅拌均匀,制成稀土氧化物悬浮液。向稀土氧化物悬浮液加入167克硝酸钾,再用盐酸调整pH 10.3。
C:称取500克稀土氧化物,加入4933克水中,室温下搅拌均匀,制成稀土氧化物悬浮液。向稀土氧化物悬浮液加入167克硝酸钾,再用盐酸调整pH 10.3。
D:称取750克稀土氧化物,加入4933克水中,室温下搅拌均匀,制成稀土氧化物悬浮液。向稀土氧化物悬浮液加入167克硝酸钾,再用盐酸调整pH 10.3。
2、应用实例:
将上述制备的4个样品在Logitech CDP单面抛光机上抛光。下压:1psi,下盘以及载盘转速50RPM,抛光液流速:100ml/分钟。该系列抛光液抛光速率分别为为A:538,B:660,C:765,D:987钠米/分钟,玻璃表面无划痕,抛光机无损伤。玻璃硬度82,78,80,83。
相同抛光条件下,该抛光耗材与其他抛光耗材相比,抛光后玻璃表面硬度高10%以上。
Claims (1)
1.具有强化功能的玻璃抛光液,其特征在于:该玻璃抛光液由以下方法制备而成,称取350克稀土氧化物,加入3200克水,150克磷酸钾,搅拌均匀,PH调节到7.5。
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Families Citing this family (3)
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---|---|---|---|---|
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CN106883768A (zh) * | 2017-04-20 | 2017-06-23 | 宁波日晟新材料有限公司 | 微酸性条件下的碱性玻璃抛光液以及应用 |
CN108821324B (zh) * | 2018-09-17 | 2020-05-19 | 珠海琴晟新材料有限公司 | 一种纳米氧化铈及其制备方法和应用 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6454821B1 (en) * | 2000-06-21 | 2002-09-24 | Praxair S. T. Technology, Inc. | Polishing composition and method |
CN1919950A (zh) * | 2006-08-23 | 2007-02-28 | 孙韬 | 高精度抛光液及其生产方法、用途 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6589100B2 (en) * | 2001-09-24 | 2003-07-08 | Cabot Microelectronics Corporation | Rare earth salt/oxidizer-based CMP method |
US7300603B2 (en) * | 2003-08-05 | 2007-11-27 | Rohm And Haas Electronic Materials Cmp Holdings, Inc. | Chemical mechanical planarization compositions for reducing erosion in semiconductor wafers |
CN1919949A (zh) * | 2006-08-23 | 2007-02-28 | 孙韬 | 高精度复合抛光液及其生产方法、用途 |
JP5317436B2 (ja) * | 2007-06-26 | 2013-10-16 | 富士フイルム株式会社 | 金属用研磨液及びそれを用いた研磨方法 |
CN101239785B (zh) * | 2008-02-26 | 2010-11-17 | 孙韬 | 大屏幕薄膜晶体管模组减薄液的生产方法 |
CN101544871B (zh) * | 2009-04-22 | 2012-12-26 | 孙韬 | 高效无划伤玻璃抛光液及其生产方法 |
CN102010662B (zh) * | 2010-07-21 | 2013-03-13 | 天津晶岭微电子材料有限公司 | 微晶玻璃抛光液的制备方法 |
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Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6454821B1 (en) * | 2000-06-21 | 2002-09-24 | Praxair S. T. Technology, Inc. | Polishing composition and method |
CN1919950A (zh) * | 2006-08-23 | 2007-02-28 | 孙韬 | 高精度抛光液及其生产方法、用途 |
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