CN102581762A - 一种晶体加工平磨料台 - Google Patents
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Abstract
一种晶体加工平磨料台，属于晶体加工技术领域，特别是涉及晶体平面磨装置。在所述平磨料台上设有多个圆柱形的、与晶体大小基本匹配的凹槽，所述凹槽的侧壁和/或底部上设有缓冲层，侧壁上设顶紧装置。在平磨晶体开始时，首先将此平磨料台平放到固定面上，晶体放置在料台上的凹槽内，再调节缓冲层和顶紧装置至晶体牢固，即可进行平磨加工。通过此料台的加工，可以得到平整、完整的单晶。
Description
技术领域
本发明属于晶体加工技术领域，特别是涉及晶体平面磨装置。
背景技术
晶体平面磨时，易出现崩边、裂纹等多种问题，现有技术的平面磨只能够一次磨一锭晶体，且加工粗糙，工作效率和质量都很难提高。
发明内容
本发明要解决的技术问题是克服现有平磨效率低、质量差的缺陷，提供了一种简单、使用方便的平磨料台。
为了解决上述技术问题，本发明提供了如下的技术方案：
一种晶体加工平磨料台，在所述平磨料台上设有多个圆柱形的、与晶体大小基本匹配的凹槽，所述凹槽的侧壁和/或底部上设有缓冲层，侧壁上设顶紧装置。
进一步地，所述缓冲层为橡胶垫，所述顶紧装置为顶紧螺丝。
晶体平磨是加工晶体时最重要的一步，在平磨晶体开始时，首先将此平磨料台平放到固定面上，晶体放置在料台上的凹槽内，根据晶体直径大小调节顶紧料台的顶紧装置至夹紧晶体，即可进行平磨加工。凹槽的侧壁和底部上设有缓冲层可以起到减震效果，侧壁的缓冲层还可以防止顶紧装置划损晶体，从而减少晶体破裂的可能。通过此料台的加工，可以得到平整、完整的单晶，晶体的角度可以是0°到8°。
附图说明
附图用来提供对本发明的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本发明的实施例一起用于解释本发明，并不构成对本发明的限制。在附图中：
图1是本发明平磨料台的主视图；
图 2是图1的料台的俯视图；
图3是图1的料台的左视图；
图4是图1的凹槽的剖面图。
具体实施方式
以下结合附图对本发明的优选实施例进行说明，应当理解，此处所描述的优选实施例仅用于说明和解释本发明，并不用于限定本发明。
如图1-4所示，一种晶体加工平磨料台，在所述平磨料台1上设有多个圆柱形、与晶体大小匹配的凹槽2，所述凹槽的侧壁和底部上设有缓冲层橡胶垫（图未示）和顶紧螺丝3。
实施例1：
所述凹槽为3个，将相应大小的、未加工的碳化硅晶体放到本发明的凹槽内，根据晶体大小调整缓冲层和顶紧螺丝，直至晶体平整和牢固，然后上平面磨床待磨，待加工完毕后，便会得到三块平整度极好的完整晶体。
实施例2：
所述凹槽为3个，将相应大小的、未加工的蓝宝石晶体放到本发明的凹槽内，根据晶体大小调整缓冲层和顶紧螺丝，直至晶体平整和牢固，然后上平面磨床待磨，待加工完毕后，便会得到三块平整度极好的完整晶体。
最后应说明的是：以上所述仅为本发明的优选实施例而已，并不用于限制本发明，尽管参照前述实施例对本发明进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换。凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (4)
1.一种晶体加工平磨料台，其特征在于：在所述平磨料台上设有多个圆柱形的、与晶体大小基本匹配的凹槽，所述凹槽的侧壁和/或底部上设有缓冲层，侧壁上设顶紧装置。
2.根据权利要求1所述的晶体加工平磨料台，其特征在于：所述缓冲层为橡胶垫。
3.根据权利要求1所述的晶体加工平磨料台，其特征在于：所述顶紧装置为顶紧螺丝。
4.根据权利要求1或2或3所述的晶体加工平磨料台，其特征在于：所述晶体为碳化硅、蓝宝石、磷化铟或氮化镓。
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