CN102561219A - 一种组合式明洞涵洞 - Google Patents

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Abstract

本发明属于隧道桥梁技术领域,具体涉及一种组合式明洞涵洞。本发明主要解决现有的明洞和涵洞存在费工费时,工作人员的劳动强度大,且对工作人员的技术水平要求高,施工受地质和气候影响大,工期长等问题。本发明的技术方案为:一种组合式涵洞桥梁,由左边墙和右边墙组成,在左边墙的上部设有凸起,在右边墙的上部设有与凸起相匹配的凹槽,所述左边墙和右边墙通过凸起伸进凹槽相连接。本发明具有施工技术简单、对工作人员的技术要求不高,专用设备少、质量稳定、尺寸随意、现场装配施工简便迅速,工期短,不受地质和气候的影响。

Description

一种组合式明洞涵洞
技术领域
本发明属于隧道桥梁技术领域,具体涉及一种组合式明洞涵洞。
背景技术
山区公路和铁路洞顶覆盖层较薄,难以用暗挖法建隧道时,隧道洞口或路堑地段受坍方、落石、泥石流、雪害等危害时,道路之间或道路与铁路之间形成立体交叉,但又不宜做立交桥时,通常设置明洞。现在的明洞一般是在现场使用钢筋水泥浇筑成,该方法费工费时,对技术和设备要求高,而且施工影响交通。
公路铁路跨越沟谷、溪沟、河流、人工渠道以及排除路基内侧边沟水流时,常常需要修建涵洞。涵洞是公路构造物的重要组成部分之一,常见的涵洞都是现场使用钢筋水泥浇筑或者用石头砖头垒等方法,该方法费工费时,工作人员的劳动强度大,且对工作人员的技术水平要求高,施工受地质和气候影响大,工期长等缺点。
发明内容
本发明主要针对现有的明洞和涵洞存在费工费时,工作人员的劳动强度大,且对工作人员的技术水平要求高,施工受地质和气候影响大,工期长等缺点,提供一种安装简单、工期短、不受地质和气候影响的组合式明洞涵洞。
本发明为实现上述目的而采取的技术方案为:
一种组合式涵洞桥梁,由左边墙和右边墙组成,在左边墙的上部设有凸起,在右边墙的上部设有与凸起相匹配的凹槽,所述左边墙和右边墙通过凸起伸进凹槽相连接。
进一步的,根据路面或者隧道宽度不同等实际情况,还可以采用下述技术方案:
一种组合式明洞涵洞,由左边墙、右边墙和顶部组成,在左边墙和右边墙的上端都设有凸起,在顶部的两端都设有凹槽,所述左边墙和右边墙的凸起分别与顶部的两个凹槽相连接。
本发明还可以使用其它的凸凹方法进行对接和固定。
本发明采用上述技术方案,左边墙、右边墙和顶部都是制备好的部件,需要组装明洞或者涵洞时只要将上述部件运到现场安装就可以,施工技术简单、对工作人员的技术要求不高,专用设备少、质量稳定、尺寸随意、现场装配施工简便迅速,工期短,不受地质和气候的影响。
附图说明
图1是本发明的结构示意图;
图2是本发明实施例2的结构示意图;
图3是本发明实施例3的结构示意图。
具体实施方式
实施例1
如图1所示,一种组合式明洞涵洞,由左边墙1和右边墙2组成,在左边墙1的上部设有凸起3,在右边墙2的上部设有与凸起3相匹配的凹槽4,所述左边墙1和右边墙2通过凸起3伸进凹槽4相连接。
现场安装时只需要将左边墙和右边墙安装好,可用螺丝或者焊接方法将接口处固定。
实施例2
如图2所示,一种组合式明洞涵洞,由左边墙1、右边墙2和顶部3组成,在左边墙1和右边墙2的上端都设有凸起4,在顶部3的两端都设有凹槽5,所述左边墙1和右边墙2的凸起4分别与顶部3的两个凹槽5相连接。
现场安装时只需要将左边墙和右边墙安装好,可用焊接方法将接口处固定。
实施例3
如图3所示,一种组合式明洞涵洞,由左边墙1、右边墙2和顶部3组成,在左边墙1和右边墙2的上端都设有凸起4,在顶部3的两端都设有凹槽5,所述左边墙1和右边墙2的凸起4分别与顶部3的两个凹槽5相连接。
现场安装时只需要将左边墙和右边墙安装好,可用螺丝将接口处固定。

Claims (2)

1.一种组合式明洞涵洞,其特征是由左边墙(1)和右边墙(2)组成,在左边墙(1)的上部设有凸起(3),在右边墙(2)的上部设有与凸起(3)相匹配的凹槽(4),所述左边墙(1)和右边墙(2)通过凸起(3)伸进凹槽(4)相连接。
2.根据权利要求1所述的一种组合式明洞涵洞,其特征是由左边墙(1)、右边墙(2)和顶部(3)组成,在左边墙(1)和右边墙(2)的上端都设有凸起(4),在顶部(3)的两端都设有凹槽(5),所述左边墙(1)和右边墙(2)的凸起(4)分别与顶部(3)的两个凹槽(5)相连接。
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Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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