CN102540562A - 液晶显示屏高透过低反射电磁屏蔽结构及制作方法 - Google Patents

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余雷
王绪丰
樊卫华
铁斌
杨芳
郑赛
杨洪宝
吴添德
张小芸
吴金华
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Abstract

一种液晶显示屏高透过低反射电磁屏蔽结构及制作方法，其特征是它依次由作为光学功能层的第一偏光层（2）、第一四分之一波长延迟层（3）、氧化铟锡透明导电层（4）、第二四分之一波长延迟层（5）、第二偏光层（6）和减反射层（7）共六个光学功能层组成，各光学功能层之间采用透明光学胶（8）通过绑定工艺相互连接成一个整体，其中第一偏光层（2）紧邻液晶显示屏（1）。制作方法是采用光学胶依次将各光学功能层光学绑定固化形成。本发明具有高透过率和较低的电磁反射率，兼具现有的电磁屏蔽技术的优点的同时，成本低，效果好。

Description

液晶显示屏高透过低反射电磁屏蔽结构及制作方法
技术领域
本发明涉及一种液晶显示技术，尤其是一种液晶显示器的电磁屏蔽技术，具体地说是一种液晶显示屏高透过低反射电磁屏蔽结构及其制作方法。
背景技术
 众所周知，液晶显示器等显示器件都存在电磁辐射与电磁干扰问题，目前不论在民品还是在工业品领域都提出了防电磁辐射与防电磁干扰问题，因此显示器件显示窗口区域的电磁屏蔽技术就成为显示器件电磁屏蔽的重要技术之一。目前，显示器件窗口区域的电磁屏蔽主要采用两种技术：一种技术是采用金属网格作窗口电磁屏蔽层，另一种技术是采用透明导电层作窗口电磁屏蔽层。
采用金属网格作窗口电磁屏蔽层的优点是屏蔽效能高，但是由于金属线径对光线的阻挡作用，导致可见光的透过率较低；且金属网格与显示器的像素矩阵都是周期性排列结构，它们之间容易形成干涉条纹，影响显示器的显示效果。
采用透明导电层作窗口电磁屏蔽层，可见光的透过率高，但是由于透明导电层和空气、偏光片基材、玻璃等材料的折射率差别较大，导致显示窗口反射率大，影响显示器的显示效果。
发明内容
本发明的目的是针对现有的液晶显示器金属网格电磁屏蔽层易产生干涉条纹，而透明导电屏蔽层反射率大，均影响显示效果的问题，发明一种既能明显提高屏蔽效果，又能保证透过率的液晶显示屏高透过低反射电磁屏蔽结构及其制作方法。
本发明的技术方案之一是：
一种液晶显示屏高透过低反射电磁屏蔽结构，其特征是它依次由作为光学功能层的第一偏光层2第一四分之一波长延迟层3、氧化铟锡透明导电层4、第二四分之一波长延迟层5、第二偏光层6和减反射层7共六个光学功能层组成，各光学功能层之间采用透明光学胶8通过绑定工艺相互连接成一个整体，其中第一偏光层2紧邻液晶显示屏1，第一偏光层2和液晶显示屏1二者之间也通过透明光学胶进行绑定，绑定可通过滚压贴合或液态胶贴合实现。
所述的第一偏光层2与液晶显示屏1之间采用透明光学胶绑定。
本发明的技术方案之二是：
一种液晶显示屏高透过低反射电磁屏蔽结构的制作方法，其特征是它包括以下步骤：
（1）将减反射层7与第二偏光层6通过透明光学胶8采用光学贴合绑定工艺固化为双层结构；
（2）将上述双层结构与第二四分之一波长延迟层5通过透明光学胶8采用光学贴合绑定工艺固化为三层结构；
（3）将上述三层结构与氧化铟锡透明导电层4通过透明光学胶8采用光学贴合绑定工艺固化为四层结构；
（4）将上述四层结构与第一四分之一波长延迟层3通过透明光学胶8采用光学贴合绑定工艺固化形成多层光学功能层；
（5）将上述多层光学功能层与贴合有第一偏光层2的液晶显示屏1通过透明光学胶8采用光学贴合绑定工艺固化，即得到具有高透过低反射性能的液晶显示屏电磁屏蔽结构。
所述的第一偏光层2与液晶显示屏1之间采用透明光学胶绑定。
所述的光学贴合包括滚压贴合和液态胶贴合。
本发明的有益效果：
（1）采用具有高透过低反射性能的电磁屏蔽技术，可以减少显示器对外界的电磁辐射，包括对人体的电磁辐射，也可以减少外界电磁辐射对显示器的干扰，增强显示器的稳定性能。
（2）采用具有高透过低反射性能的电磁屏蔽技术，可以使显示器既具有电磁屏蔽性能，又具有较低的表面反射率，使显示器在强光环境下具备可读性，减少反射光对显示效果的影响。
（3）采用具有高透过低反射性能的电磁屏蔽技术，可以使显示器在同时具有电磁屏蔽性能及较低表面反射率性能的情况下，还具有较高的光线透过率，这样可以增强光源利用率，降低能耗。
附图说明
 图1是本发明的高透过低反射电磁屏蔽结构示意图。
图2是本发明的高透过低反射电磁屏蔽结构的低反射原理示意图。
图3是本发明的高透过低反射电磁屏蔽结构的高透过原理示意图。
图4是本发明的高透过低反射电磁屏蔽结构的制作过程示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明作进一步的说明。
    如图1所示。
一种液晶显示屏高透过低反射电磁屏蔽结构，它依次由作为光学功能层的第一偏光层2第一四分之一波长延迟层3、氧化铟锡透明导电层4、第二四分之一波长延迟层5、第二偏光层6和减反射层7共六个光学功能层组成，各光学功能层之间采用透明光学胶8（可直接从市场购置或参考相关设计手册自行配置）通过绑定工艺相互连接成一个整体，其中第一偏光层2紧邻液晶显示屏1，同时第一偏光层2与液晶显示屏1之间也采用透明光学胶绑定。各功能层的厚度可根据应用场合及基材的厚度确定，本领域技术人员可在1-20微米之间选择确定，如图1所示。
本发明的高透过率低反射率电磁屏蔽原理为：
采用透明导电层作窗口电磁屏蔽层，由于折射率差别大，导致显示窗口反射率大。
与此相反，本发明的电磁屏蔽结构中，采用多层光学功能层通过绑定工序制作，如图1所示，多层光学功能层的放置顺序从靠近液晶显示屏1到远离液晶显示屏1依次为：偏光层2、四分之一波长延迟层3、氧化铟锡透明导电层4、四分之一波长延迟层5、偏光层6和减反射层7，各光学功能层之间采用透明光学胶8通过绑定工序形成具有高透过低反射性能的电磁屏蔽技术。
如图2所示，当入射光1-1射向液晶显示屏1时，将依次经过减反射层7、透明光学胶8、偏光层6、透明光学胶8、四分之一波长延迟层5、透明光学胶8、氧化铟锡透明导电层4、透明光学胶8、四分之一波长延迟层3、透明光学胶8、偏光层2和透明光学胶8。光线经过分界面时将产生反射，由于偏光层2、四分之一波长延迟层3、四分之一波长延迟层5、偏光层6和减反射层7及透明光学胶8之间的折射率相差较小，层间的反射率较小，反射光2-1、2-2、2-3较小。氧化铟锡透明导电层4的反射率较大，反射光2-4较大，占总反射光的主要部分，因此，降低反射光2-4是降低总反射光的有效方法，实现该电磁屏蔽技术的低反射性能的有效途径。
如图2所示，入射光1-1为自然光，透过减反射层7及透明光学胶8并不改变入射光1-1的偏振态，入射光1-1继续前行，透过偏光层6时光强减少为原来的一半，且偏振态变为偏振方向平行于纸面的线偏振光，入射光1-1继续前行，透过四分之一波长延迟层5，线偏振光变为左旋圆偏振光，左旋圆偏振光在氧化铟锡透明导电层4界面上反射形成反射光2-4，反射光2-4变为右旋圆偏振光，反射光2-4继续前行，透过四分之一波长延迟层5，右旋圆偏振光变为偏振方向垂直于纸面的线偏振光，反射光2-4继续前行，透过偏光层6时，由于垂直于纸面的线偏振光的偏振方向与偏光层6的透光方向相互垂直，此线偏振光大部分将被偏光层6吸收，因此反射光2-4透过偏光层6时光强大大减少，进而实现本发明的低反射性能。
同时，如图3所示，液晶显示屏1发出的透射光3-1经偏光层2变为偏振方向平行于纸面的线偏振光，透射光3-1继续前行，透过四分之一波长延迟层3，平行于纸面的线偏振光变为左旋圆偏振光，透射光3-1继续前行，透过氧化铟锡透明导电层4时不改变偏振态，透射光3-1继续前行，透过四分之一波长延迟层5，左旋圆偏振光变为平行于纸面的线偏振光，透射光3-1继续前行，由于平行于纸面的线偏振光的偏振方向与偏光层6的透光方向相同，该平行于纸面的线偏振光不会被偏光层6吸收，因此透射光3-1透过偏光层6时光强不会发生明显变化，进而实现本发明的高透过性能。
实施例二。
如图4所示。
一种液晶显示屏高透过低反射电磁屏蔽结构的制作方法，它包括以下步骤：（1）将减反射层7与偏光层6通过透明光学胶8采用光学贴合（如滚压贴合、液态胶贴合等，下同）绑定工艺固化为双层结构。（2）将此双层结构与四分之一波长延迟层5通过透明光学胶8采用光学贴合绑定工艺固化为三层结构。（3）将此三层结构与氧化铟锡透明导电层4通过透明光学胶8采用光学贴合绑定工艺固化为四层结构。（4）将此四层结构与四分之一波长延迟层3通过透明光学胶8采用光学贴合绑定工艺固化形成多层光学功能层。（5）将此多层光学功能层与贴合有偏光层2的液晶显示屏1通过透明光学胶8采用光学贴合绑定工艺固化，实现具有高透过低反射性能的液晶显示屏电磁屏蔽技术。
本发明未涉及部分如透明光学胶的组份、光学贴合绑定工艺及固化温度等均与现有液晶显示器制造技术相同或可采用现有技术加以实现。

Claims (5)

1.一种液晶显示屏高透过低反射电磁屏蔽结构，其特征是它依次由作为光学功能层的第一偏光层（2）、第一四分之一波长延迟层（3）、氧化铟锡透明导电层（4）、第二四分之一波长延迟层（5）、第二偏光层（6）和减反射层（7）共六个光学功能层组成，各光学功能层之间采用透明光学胶（8）通过绑定工艺相互连接成一个整体，其中第一偏光层（2）紧邻液晶显示屏（1）。
2.根据权利要求1所述的液晶显示屏高透过低反射电磁屏蔽结构，其特征是所述的第一偏光层（2）与液晶显示屏（1）之间采用透明光学胶绑定。
3.一种权利要求1所述的电磁屏蔽结构的制作方法，其特征是它包括以下步骤：
（1）将减反射层（7）与第二偏光层（6）通过透明光学胶（8）采用光学贴合绑定工艺固化为双层结构；
（2）将上述双层结构与第二四分之一波长延迟层（5）通过透明光学胶（8）采用光学贴合绑定工艺固化为三层结构；
（3）将上述三层结构与氧化铟锡透明导电层（4）通过透明光学胶（8）采用光学贴合绑定工艺固化为四层结构；
（4）将上述四层结构与第一四分之一波长延迟层（3）通过透明光学胶（8）采用光学贴合绑定工艺固化形成多层光学功能层；
（5）将上述多层光学功能层与贴合有第一偏光层（2）的液晶显示屏（1）通过透明光学胶（8）采用光学贴合绑定工艺固化，即得到具有高透过低反射性能的液晶显示屏电磁屏蔽结构。
4.根据权利要求3所述的方法，其特征是所述的第一偏光层（2）与液晶显示屏（1）之间采用透明光学胶绑定。
5.根据权利要求3所述的方法，其特征是所述的光学贴合包括滚压贴合和液态胶贴合。
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