CN102509762A - 一种Bi-2212高温超导厚膜的制备方法 - Google Patents

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李成山
张胜楠
郝清滨
白利峰
宋露露
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Abstract

本发明公开了一种Bi-2212高温超导厚膜的制备方法,该方法为:一、将粘结剂溶解于有机溶剂中,然后加入Bi-2212粉末得到悬浊液;二、采用浸涂法将悬浊液涂敷于擦净的金属基带上,然后烘干;三、采用冷压机将烘干后的金属基带在压力为15MPa~20MPa的条件下冷压10min~20min;四、将冷压后的金属基带于纯氧气氛中进行烧结,得到厚度为10μm~80μm的Bi-2212高温超导厚膜。本发明采用冷压机对浸涂法制备的Bi-2212厚膜进行冷压,在避免超导层破损的前提下,增加Bi-2212超导层密度,从而增加超导层的有效载流面积,提高Bi-2212厚膜的工程电流密度。

Description

一种Bi-2212高温超导厚膜的制备方法
技术领域
本发明属于高温超导材料技术领域,具体涉及一种Bi-2212高温超导厚膜的制备方法。
背景技术
由于Bi-2212基高温超导材料在4.2K~20K温区内具有优异的高磁场载流性能,且是目前唯一可制备成各向同性圆线的高温超导材料,这些特点使Bi-2212线材成为制备高场磁体系统内插线圈的首选材料。同时,基于Bi-2212高温超导材料优异的高场抗磁性能,Bi-2212超导厚膜在磁屏蔽等领域具有广泛的应用;而通过刻蚀等方法还可以在厚膜表面制成电路,对超导器件的开发和研制以及超导技术的进步具有重要的意义。
与薄膜(厚度为纳米级)和线带材相比,Bi-2212厚膜具有较高的银超比,可以在保证相同性能的条件下,大大降低材料成本。另一方面,在厚膜的热处理过程中,银层对氧交换的阻挡作用较小,可以缩短热处理时间,对降低加工成本也有一定的意义。
但是,对于Bi-2212基高温超导材料而言,织构化生长过程对其最终传输性能具有极其重要的作用。在部分熔化热处理过程中,基带对织构的诱导作用是Bi-2212基超导材料织构形成的主要机制之一。而在传统浸涂法制备的厚膜中,由于粉末间结合比较疏松,在部分熔化热处理的织构形成过程中,比较容易形成孔隙,基带诱导织构的有效距离较小,最终导致超导层织构度较低,这严重制约了Bi-2212基超导厚膜性能的提高。因此,如何提高厚膜密度,以增加基带诱导作用的有效距离,从而增加超导层的有效载流厚度,是提高Bi-2212厚膜的载流性能所需要解决的最重要问题。
发明内容
本发明所要解决的技术问题在于针对上述现有技术的不足,提供一种方法简便,工艺重复性好,适合于批量化生产的Bi-2212高温超导厚膜的制备方法。该方法采用冷压机对浸涂法制备的Bi-2212厚膜进行冷压,在避免超导层破损的前提下,增加Bi-2212超导层密度,从而增加超导层的有效载流面积,提高Bi-2212厚膜的工程电流密度。
为解决上述技术问题,本发明采用的技术方案是:一种Bi-2212高温超导厚膜的制备方法,其特征在于,该方法包括以下步骤:
步骤一、将粘结剂溶解于有机溶剂中,然后向溶解有粘结剂的有机溶剂中加入粒度为400~500目的Bi-2212粉末得到悬浊液,持续搅拌以保持悬浊液成分均匀;所述有机溶剂、粘结剂和Bi-2212粉末的质量比为0.4~1∶0.001~0.002∶1,所述有机溶剂为无水甲醇或无水乙醇,所述粘结剂为聚乙二醇或聚乙烯缩丁醛;
步骤二、采用浸涂法将步骤一中所述悬浊液涂敷于擦净的金属基带上,然后将涂敷有悬浊液的金属基带在温度为100℃~700℃的条件下烘干;
步骤三、采用冷压机将步骤二中烘干后的金属基带在压力为15MPa~20MPa的条件下冷压10min~20min;
步骤四、将步骤三中经冷压后的金属基带于纯氧气氛中进行烧结,得到基于金属基带的临界温度超过80K,厚度为10μm~80μm的Bi-2212高温超导厚膜;所述烧结的过程为:在温度为880℃~900℃的条件下保温10min~30min,然后以2℃/h~5℃/h的降温速率降温至810℃~850℃,保温10h~24h后随炉冷却至室温。
上述步骤二中所述金属基带为银基带、镍基带、银合金基带或镍合金基带。
上述步骤二中所述浸涂法为:将擦净的金属基带浸入步骤一中所述悬浊液中,然后以0.5m/s~2m/s的提拉速度提拉金属基带,使得金属基带表面涂敷悬浊液。
本发明与现有技术相比具有以下优点:
1、本发明的制备方法简便,工艺重复性好,适合于批量化生产。
2、本发明采用冷压机对浸涂法制备的Bi-2212厚膜进行冷压,在避免超导层破损的前提下,增加Bi-2212超导层密度,从而增加超导层的有效载流面积,提高Bi-2212厚膜的工程电流密度(Je)。
3、采用本发明的方法制备的Bi-2212高温超导厚膜的临界温度超过80K,临界电流密度比常规方法(未采用冷压)制备的基于相同基底的Bi-2212高温超导厚膜的临界电流密度提高了20%以上。
下面通过实施例对本发明的技术方案作进一步的详细描述。
具体实施方式
实施例1
步骤一、将粘结剂聚乙二醇溶解于无水乙醇中,然后加入粒度为400~500目的Bi-2212粉末得到悬浊液,持续搅拌以保持悬浊液成分均匀;所述无水乙醇、聚乙二醇和Bi-2212粉末的质量比为0.4∶0.001∶1;
步骤二、将擦净的银基带浸入步骤一中所述悬浊液中,再以0.5m/s的提拉速度提拉银基带,使得银基带表面涂敷悬浊液,最后将表面涂敷有悬浊液的银基带在温度为700℃的条件下烘干;
步骤三、采用冷压机将步骤二中烘干后的银基带在压力为15MPa的条件下冷压10min;
步骤四、将步骤三中经冷压后的银基带于纯氧气氛中进行烧结,得到基于银基带的临界温度超过80K,厚度为80μm的Bi-2212高温超导厚膜;烧结的过程为:在温度为889℃的条件下保温20min,然后以5℃/h的降温速率降温至810℃,保温24h后随炉冷却至室温。
本实施例采用冷压机对浸涂法制备的Bi-2212厚膜进行冷压,将超导层的相对密度从冷压前的20%提高到冷压后的35%,再通过烧结将Bi-2212高温超导厚膜的(00l)织构度从90%提高到97%左右,制备的基于银基带的Bi-2212高温超导厚膜的临界电流密度比常规方法(未采用冷压)制备的基于银基带的Bi-2212高温超导厚膜提高了约36%。
实施例2
步骤一、将粘结剂聚乙二醇溶解于无水甲醇中,然后加入粒度为400~500目的Bi-2212粉末得到悬浊液,持续搅拌以保持悬浊液成分均匀;所述无水乙醇、聚乙二醇和Bi-2212粉末的质量比为1∶0.002∶1;
步骤二、将擦净的银基带浸入步骤一中所述悬浊液中,再以2m/s的提拉速度提拉银基带,使得银基带表面涂敷悬浊液,最后将表面涂敷有悬浊液的银基带在温度为500℃的条件下烘干;
步骤三、采用冷压机将步骤二中烘干后的银基带在压力为20MPa的条件下冷压10min;
步骤四、将步骤三中经冷压后的银基带于纯氧气氛中进行烧结,得到基于银基带的临界温度超过80K,厚度为60μm的Bi-2212高温超导厚膜;烧结的过程为:在温度为892℃的条件下保温15min,然后以5℃/h的降温速率降温至840℃,保温10h后随炉冷却至室温。
本实施例采用冷压机对浸涂法制备的Bi-2212厚膜进行冷压,将超导层的相对密度从冷压前的18%提高到冷压后的33%,再通过烧结将Bi-2212高温超导厚膜的(00l)织构度从89%提高到97%左右,制备的基于银基带的Bi-2212高温超导厚膜的临界电流密度比常规方法(未采用冷压)制备的基于银基带的Bi-2212高温超导厚膜提高了约30%。
实施例3
步骤一、将粘结剂聚乙烯缩丁醛溶解于无水甲醇中,然后加入粒度为400~500目的Bi-2212粉末得到悬浊液,持续搅拌以保持悬浊液成分均匀;所述无水乙醇、聚乙二醇和Bi-2212粉末的质量比为0.6∶0.002∶1;
步骤二、将擦净的银锰合金基带浸入步骤一中所述悬浊液中,再以1m/s的提拉速度提拉银锰合金基带,使得银锰合金基带表面涂敷悬浊液,最后将表面涂敷有悬浊液的银锰合金基带在温度为100℃的条件下烘干;
步骤三、采用冷压机将步骤二中烘干后的银锰合金基带在压力为18MPa的条件下冷压20min;
步骤四、将步骤三中经冷压后的银锰合金基带于纯氧气氛中进行烧结,得到基于银锰合金基带的临界温度超过80K,厚度为10μm的Bi-2212高温超导厚膜;烧结的过程为:在温度为900℃的条件下保温10min,然后以2℃/h的降温速率降温至850℃,保温18h后随炉冷却至室温。
本实施例采用冷压机对浸涂法制备的Bi-2212厚膜进行冷压,将超导层的相对密度从冷压前的18%提高到冷压后的30%,再通过烧结将Bi-2212高温超导厚膜的(00l)织构度从89%提高到96%左右,制备的基于银锰合金基带的Bi-2212高温超导厚膜的临界电流密度比常规方法(未采用冷压)制备的基于银锰合金基带的Bi-2212高温超导厚膜提高了约30%。
实施例4
步骤一、将粘结剂聚乙烯缩丁醛溶解于无水乙醇中,然后加入粒度为400~500目的Bi-2212粉末得到悬浊液,持续搅拌以保持悬浊液成分均匀;所述无水乙醇、聚乙二醇和Bi-2212粉末的质量比为1∶0.001∶1;
步骤二、将擦净的银锰合金基带浸入步骤一中所述悬浊液中,再以2m/s的提拉速度提拉银锰合金基带,使得银锰合金基带表面涂敷悬浊液,最后将表面涂敷有悬浊液的银锰合金基带在温度为700℃的条件下烘干;
步骤三、采用冷压机将步骤二中烘干后的银锰合金基带在压力为20MPa的条件下冷压15min;
步骤四、将步骤三中经冷压后的银锰合金基带于纯氧气氛中进行烧结,得到基于银锰合金基带的临界温度超过80K,厚度为50μm的Bi-2212高温超导厚膜;烧结的过程为:在温度为895℃的条件下保温20min,然后以5℃/h的降温速率降温至840℃,保温24h后随炉冷却至室温。
本实施例采用冷压机对浸涂法制备的Bi-2212厚膜进行冷压,将超导层的相对密度从冷压前的18%提高到冷压后的40%,再通过烧结将Bi-2212高温超导厚膜的(00l)织构度从89%提高到98%左右,制备的基于银锰合金基带的Bi-2212高温超导厚膜的临界电流密度比常规方法(未采用冷压)制备的基于银锰合金基带的Bi-2212高温超导厚膜提高了约40%。
实施例5
步骤一、将粘结剂聚乙烯缩丁醛溶解于无水甲醇中,然后加入粒度为400~500目的Bi-2212粉末得到悬浊液,持续搅拌以保持悬浊液成分均匀;所述无水乙醇、聚乙二醇和Bi-2212粉末的质量比为0.8∶0.0015∶1;
步骤二、将擦净的镍钨合金基带浸入步骤一中所述悬浊液中,再以0.5m/s的提拉速度提拉镍钨合金基带,使得镍钨合金基带表面涂敷悬浊液,最后将表面涂敷有悬浊液的镍钨合金基带在温度为200℃的条件下烘干;
步骤三、采用冷压机将步骤二中烘干后的镍钨合金基带在压力为15MPa的条件下冷压20min;
步骤四、将步骤三中经冷压后的镍钨合金基带于纯氧气氛中进行烧结,得到基于镍钨合金基带的临界温度超过80K,厚度为40μm的Bi-2212高温超导厚膜;烧结的过程为:在温度为880℃的条件下保温20min,然后以3℃/h的降温速率降温至810℃,保温20h后随炉冷却至室温。
本实施例采用冷压机对浸涂法制备的Bi-2212厚膜进行冷压,将超导层的相对密度从冷压前的18%提高到冷压后的37%,再通过烧结将Bi-2212高温超导厚膜的(00l)织构度从88%提高到95%左右,制备的基于镍钨合金基带的Bi-2212高温超导厚膜的临界电流密度比常规方法(未采用冷压)制备的基于镍钨合金基带的Bi-2212高温超导厚膜提高了约20%。
实施例6
步骤一、将粘结剂聚乙二醇溶解于无水甲醇中,然后加入粒度为400~500目的Bi-2212粉末得到悬浊液,持续搅拌以保持悬浊液成分均匀;所述无水乙醇、聚乙二醇和Bi-2212粉末的质量比为1∶0.001∶1;
步骤二、将擦净的镍基带浸入步骤一中所述悬浊液中,再以2m/s的提拉速度提拉镍基带,使得镍基带表面涂敷悬浊液,最后将表面涂敷有悬浊液的镍基带在温度为100℃的条件下烘干;
步骤三、采用冷压机将步骤二中烘干后的镍基带在压力为20MPa的条件下冷压20min;
步骤四、将步骤三中经冷压后的镍基带于纯氧气氛中进行烧结,得到基于镍基带的临界温度超过80K,厚度为20μm的Bi-2212高温超导厚膜;烧结的过程为:在温度为892℃的条件下保温30min,然后以2℃/h的降温速率降温至810℃,保温10h后随炉冷却至室温。
本实施例采用冷压机对浸涂法制备的Bi-2212厚膜进行冷压,将超导层的相对密度从冷压前的18%提高到冷压后的38%,再通过烧结将Bi-2212高温超导厚膜的(00l)织构度从88%提高到94%左右,制备的基于镍基带的Bi-2212高温超导厚膜的临界电流密度比常规方法(未采用冷压)制备的基于镍基带的Bi-2212高温超导厚膜提高了约22%。
以上所述,仅是本发明的较佳实施例,并非对本发明做任何限制,凡是根据发明技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、变更以及等效结构变化,均仍属于本发明技术方案的保护范围内。

Claims (3)

1.一种Bi-2212高温超导厚膜的制备方法,其特征在于,该方法包括以下步骤:
步骤一、将粘结剂溶解于有机溶剂中,然后向溶解有粘结剂的有机溶剂中加入粒度为400~500目的Bi-2212粉末得到悬浊液,持续搅拌以保持悬浊液成分均匀;所述有机溶剂、粘结剂和Bi-2212粉末的质量比为0.4~1∶0.001~0.002∶1,所述有机溶剂为无水甲醇或无水乙醇,所述粘结剂为聚乙二醇或聚乙烯缩丁醛;
步骤二、采用浸涂法将步骤一中所述悬浊液涂敷于擦净的金属基带上,然后将涂敷有悬浊液的金属基带在温度为100℃~700℃的条件下烘干;
步骤三、采用冷压机将步骤二中烘干后的金属基带在压力为15MPa~20MPa的条件下冷压10min~20min;
步骤四、将步骤三中经冷压后的金属基带于纯氧气氛中进行烧结,得到基于金属基带的临界温度超过80K,厚度为10μm~80μm的Bi-2212高温超导厚膜;所述烧结的过程为:在温度为880℃~900℃的条件下保温10min~30min,然后以2℃/h~5℃/h的降温速率降温至810℃~850℃,保温10h~24h后随炉冷却至室温。
2.根据权利要求1所述的一种Bi-2212高温超导厚膜的制备方法,其特征在于,步骤二中所述金属基带为银基带、镍基带、银合金基带或镍合金基带。
3.根据权利要求1所述的一种Bi-2212高温超导厚膜的制备方法,其特征在于,步骤二中所述浸涂法为:将擦净的金属基带浸入步骤一中所述悬浊液中,然后以0.5m/s~2m/s的提拉速度提拉金属基带,使得金属基带表面涂敷悬浊液。
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