CN102477658A - 一种防尘梭轮 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种梭轮,特别是能够防止粉尘进入轴承内的一种防尘梭轮。其具有铁芯、包覆在铁芯外圆的聚氨酯、空心小轴、轴承和用于轴承轴向定位的孔用挡圈,轴承套装在小轴上,轴承与铁芯内腔过渡配合,小轴内穿设有螺栓,螺栓与小轴螺纹连接,铁芯内腔靠近螺栓头部处设有环形凸台,凸台的上方盖有防尘盖,小轴靠近孔用挡圈处带有防尘凸缘,螺栓的螺帽下方与轴承之间装有垫圈。通过在原有的小轴上加设了防尘凸缘,并且还增加了一个防尘盖,有效的阻挡粉尘进入梭轮的轴承内,提高了梭轮的使用寿命,节约了生产成本,提高了生产效益。

Description

一种防尘梭轮
技术领域
本发明涉及一种梭轮,特别是能够防止粉尘进入轴承内的一种防尘梭轮。
背景技术
梭轮一般用于纺织机的梭子上,而纺织机加工的原材料主要为线、丝、麻等,这些原材料在纺织过程中会产生较多的粉尘纤维。梭轮在这种工作环境下运转,那些粉尘会进入到梭轮内的轴承中,由于轴承内部有润滑油脂,因此这些粉尘进入轴承内部后便与润滑油脂粘结,一段时间以后,粉尘越积越多,轴承内部就填满了粉尘,造成轴承卡死,梭轮不转动,此时就必须停机更换梭轮,加工不能连续化进行,浪费了生产时间,而且梭轮使用寿命短,经常需要更换,增加了生产成本。
发明内容
本发明要解决的技术问题是:解决现有的梭轮容易进入粉尘,导致梭轮内的轴承卡死,梭轮经常需要更换,使用寿命短的技术问题。本发明提供一种防尘梭轮,它通过在原有的小轴上加设了防尘凸缘,并且还增加了一个防尘盖,有效的阻挡粉尘进入梭轮的轴承内,提高了梭轮的使用寿命,节约了生产成本,提高了生产效益。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:一种防尘梭轮,具有铁芯、包覆在铁芯外圆的聚氨酯、空心小轴、轴承和用于轴承轴向定位的孔用挡圈,轴承套装在空心小轴上,轴承与铁芯内腔过渡配合,空心小轴内穿设有螺栓,螺栓与空心小轴螺纹连接,铁芯内腔靠近螺栓头部处设有环形凸台,环形凸台的上方盖有防尘盖,所述的空心小轴靠近孔用挡圈处带有防尘凸缘。因为螺栓杆比较长,为了使螺栓杆轴向定位更好,承载能力更强,所述的空心小轴上套装有两个轴承。
为了保护轴承内圈,所述的螺栓的螺帽下方与轴承之间装有垫圈。
本发明的有益效果是:该一种防尘梭轮,通过在原有的小轴上加设了防尘凸缘,并且还增加了一个防尘盖,有效的阻挡粉尘进入梭轮的轴承内,提高了梭轮的使用寿命,节约了生产成本,提高了生产效益。
附图说明
下面结合附图和实施例对本发明作进一步说明。
图1是本发明的一种防尘梭轮的具体实施例的结构示意图。
图中:1、铁芯 2、聚氨酯 3、空心小轴 4、轴承 5、孔用挡圈6、螺栓 7、凸台 8、防尘盖 9、凸缘 10、垫圈
具体实施方式
如图1所示的本发明的一种防尘梭轮具体实施例,一种防尘梭轮,具有铁芯1、包覆在铁芯1外圆的聚氨酯2、空心小轴3、轴承4和用于轴承4轴向定位的孔用挡圈5,轴承4套装在空心小轴3上,轴承4与铁芯1内腔过渡配合,空心小轴3内穿设有螺栓6,螺栓6与空心小轴3螺纹连接,铁芯1内腔靠近螺栓6螺帽处设有环形凸台7,环形凸台7的上方盖有防尘盖8,空心小轴3靠近孔用挡圈5处带有防尘凸缘9,空心小轴3上套装有两个轴承4,螺栓6的螺帽下方与轴承4之间装有垫圈10。
工作时,空气中的粉尘很多,梭轮在这种工作环境下转动,很容易有粉尘进入到铁芯内的轴承里,现在在轴承上方设了一个防尘盖,有效阻挡了粉尘的进入,为了使轴承的密封效果更佳,在空心小轴靠近轴承下方还设置了防尘凸缘,有效防止粉尘从下端进入轴承内部,使轴承卡死。因为螺栓杆比较长,所以空心小轴也要相应较长,为了使螺栓杆轴向定位更好,承载能力更强,空心小轴上就要套装两个轴承。
以上述依据本发明的理想实施例为启示,通过上述的说明内容,相关工作人员完全可以在不偏离本项发明技术思想的范围内,进行多样的变更以及修改。本项发明的技术性范围并不局限于说明书上的内容,必须要根据权利要求范围来确定其技术性范围。

Claims (2)

1.一种防尘梭轮,具有铁芯(1)、包覆在铁芯(1)外圆的聚氨酯(2)、空心小轴(3)、轴承(4)和用于轴承(4)轴向定位的孔用挡圈(5),轴承(4)套装在空心小轴(3)上,轴承(4)与铁芯(1)内腔过渡配合,空心小轴(3)内穿设有螺栓(6),螺栓(6)与空心小轴(3)螺纹连接,其特征在于:铁芯(1)内腔靠近螺栓(6)螺帽处设有环形凸台(7),环形凸台(7)的上方盖有防尘盖(8),所述的空心小轴(3)靠近孔用挡圈(5)处带有防尘凸缘(9),所述的空心小轴(3)上套装有两个轴承(4)。
2.根据权利要求1所述的一种防尘梭轮,其特征在于:所述的螺栓(6)的螺帽下方与轴承(4)之间装有垫圈(10)。
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PB01 Publication
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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