CN102386051B - 一种吸片台装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种吸片台装置，用以提供一种结构简单、能可靠固定要清洗的晶圆的吸片台装置。该吸片台装置用于清洗晶圆，包括：真空吸盘，盘身内部设置有第一真空仓，上表面设置有多个与所述第一真空仓连通的第一通孔；旋转主轴，用于驱动所述真空吸盘作水平旋转，轴内开有轴向孔和径向孔，所述轴向孔的长度小于所述旋转主轴的长度，且分别与所述第一真空仓和所述径向孔连通。该吸片机装置不仅能可靠固定要清洗的晶圆，而且还具有结构简单的优点。

Description

一种吸片台装置

技术领域

本发明涉及晶圆清洗技术领域，特别涉及一种吸片台装置。

背景技术

晶圆在被砂轮划切后，在晶圆的表面和沟槽中不可避免会残留一些切削微粒。这些残留的微粒将使制造出来的器件性能低劣，稳定性和可靠性很差，因此必须对划切完的晶圆进行清洗。

划切完的晶圆的清洗方式一般采用将划切完的晶圆放置在吸片台上，晶圆随着吸片台同步高速旋转，在晶圆上方喷液体(高纯去离子水或其它清洗液)而达到清除残留的微粒的目的。

在此过程中，晶圆连同粘接晶圆的蓝膜和绷架一起被固定在吸片台上。为了可靠的固定晶圆，吸片台的固定晶圆方式显得尤为重要。而现有技术中却缺少结构简单的、能可靠固定要清洗的晶圆的吸片台装置。

发明内容

本发明实施例提供了一种吸片台装置，用以提供一种结构简单的、能可靠固定要清洗的晶圆的吸片台装置。

本发明实施例提供一种吸片台装置，用于清洗晶圆，包括：

真空吸盘，盘身内部设置有第一真空仓，上表面设置有多个与所述第一真空仓连通的第一通孔；

旋转主轴，用于驱动所述真空吸盘作水平旋转，轴内开有轴向孔和径向孔，所述轴向孔的长度小于所述旋转主轴的长度，且分别与所述第一真空仓和所述径向孔连通。

所述的吸片台装置，还包括：

角接触球轴承，套于所述旋转主轴上，用于支撑所述真空吸盘旋转；和/或

深沟球轴承，套于所述旋转主轴上，用于支撑所述真空吸盘旋转。

所述的吸片台装置，还包括：

支撑座，设置于所述真空吸盘下方，套于所述旋转主轴上，用于稳固所述真空吸盘和旋转主轴。

所述的吸片台装置，还包括：

电机，通过联轴器与所述旋转主轴连接，用于驱动所述旋转主轴转动；

其中，所述电机的法兰通过安装板和支柱与所述支撑座固定连接。

所述支撑座内设置有第二真空仓，与所述径向孔连通；

所述支撑座侧面设置有第二通孔，与所述第二真空仓连通。

所述第二真空仓的上表面和下表面分别固定设置有油封。

所述的吸片台装置，还包括：

绷架，设置于所述真空吸盘的上表面，用于固定放置于所述真空吸盘上表面上的晶圆。

所述的吸片台装置，还包括：

离心夹，设置于所述真空吸盘的边缘，用于在所述真空吸盘处于旋转状态时，固定所述绷架。

所述离心夹的数目至少为4个。

本发明实施例提供了一种吸片机装置，仅通过在真空吸盘设置真空仓和连通该真空仓的通孔、在旋转主轴内设置连通该真空仓的通孔，就能够利用真空吸力将要清洗的晶圆非常可靠地固定在真空吸盘上，可见，该吸片机装置不仅能可靠固定要清洗的晶圆，而且还具有结构简单的优点。

附图说明

图1A为本发明实施例吸片台装置的竖直剖面图；

图1B为本发明实施例吸片台装置的俯视图；

图2为本发明实施例另一种吸片台装置的竖直剖面图；

图3A为本发明实施例其它种吸片台装置的立体示意图；

图3B为本发明实施例其它种吸片台装置的竖直剖面图；

图4A为本发明实施例离心夹在静止状态时的示意图；

图4B为本发明实施例离心夹在工作状态时的示意图。

具体实施方式

为了解决现有技术存在的问题，本发明实施例提供了一种吸片台装置。

如图1A-1B所示，本发明实施例提供了一种吸片台装置，用于清洗晶圆，该吸片台装置包括：

真空吸盘11，盘身内部设置有第一真空仓111，上表面设置有多个与第一真空仓111连通的第一通孔112；

旋转主轴12，用于驱动真空吸盘11作水平旋转，轴内开有轴向孔121和径向孔122，其中，轴向孔121分别与第一真空仓111和径向孔122连通，且长度小于旋转主轴12的长度。

下面说明图1A-1B所示吸片机装置的工作原理：

真空通过旋转主轴12上的径向孔122进入旋转主轴12，与径向孔122相交的旋转主轴12的轴向孔121将真空导入真空吸盘11下部的第一真空仓111，真空吸盘11上的多孔部分将第一真空仓111内的真空均匀分布在真空吸盘11的上表面，吸附要清洗的晶圆，在真空吸力作用下，要清洗的晶圆能够被非常可靠地固定在真空吸盘上。

可见，图1A-1B所示吸片机装置，仅通过在真空吸盘11盘身内设置真空仓和在上表面设置连通该真空仓的通孔、在旋转主轴12内设置连通该真空仓的通孔，就能够利用真空吸力将要清洗的晶圆非常可靠地固定在真空吸盘上，可见，该吸片机装置不仅能可靠固定要清洗的晶圆，而且还具有结构简单的优点。

如图2所示，为了使真空吸盘11能在水平面内平稳地旋转，避免真空吸盘11摆动，上述吸片台装置还可以包括：

角接触球轴承13(可设置一对或多对，图2中为一对)，套于旋转主轴12上，用于支撑真空吸盘11旋转；和/或

深沟球轴承14(可设置一个或多个，图2中为一个)，套于旋转主轴12上，用于支撑真空吸盘11旋转。

如图3A-3B所示，为了使真空吸盘11和旋转主轴12结构稳固，避免两者在工作状态时出现分离，图1A-1B(或图2)所示的吸片台装置还可以包括：

支撑座15，设置于真空吸盘11下方，套于旋转主轴12上，用于稳固真空吸盘11和旋转主轴12。

上述吸片台装置还可以包括：

电机16，通过联轴器17与旋转主轴12连接，用于驱动旋转主轴12转动；其中，电机16的法兰通过安装板18和支柱19与支撑座15固定连接。

另外，支撑座15内还可以设置有第二真空仓151，与径向孔122连通；

支撑座15侧面还可以设置有第二通孔152，与第二真空仓151连通。

其中，第二真空仓151上表面和下表面还分别固定设置有油封1512、1511。第二真空仓151设置于旋转主轴12与支撑座15的接合处，此时，分别在第二真空仓151的下表面安装油封1511、上表面安装油封1512对其进行密封，两油封1511、1512被固定于支撑座15上。

为了避免晶圆在真空吸盘11高速旋转时在离心力的作用下脱离真空吸盘11，上述吸片台装置还包括：

绷架20，设置于真空吸盘11的上表面，用于固定放置于真空吸盘11上表面上的晶圆。

为了避免绷架20在真空吸盘11高速旋转时在离心力的作用下脱离真空吸盘11，上述吸片台装置还可以包括：

离心夹21，设置于真空吸盘11的边缘，用于在真空吸盘11处于旋转状态时，固定绷架20。其中，离心夹21的数目至少为4个，这样可以更稳固地固定绷架20。

下面说明图3所示吸片机装置的工作原理：

真空从支撑座15的侧面的第二通孔152进入第二真空仓151，第二真空仓151内的真空通过旋转主轴12上的径向孔122进入旋转主轴12，与径向孔122相交的旋转主轴12的轴向孔121将真空导入真空吸盘11下部的第一真空仓111，最后真空吸盘11上的多孔部分将第一真空仓111内的真空均匀分布在真空吸盘11的上表面，吸附要清洗的晶圆。

如图4A示出离心夹21处于静止状态时，离心夹21向外张开，使离心夹21所包围的真空吸盘11区域足够大，使绷架20能够可靠的被放置在真空吸盘11的上方。

如图4B示出离心夹21处于工作时状态，由于离心力的作用，离心夹21绕轴211旋转，离心夹21对绷架20的四周施加压力，防止绷架20在高速旋转时脱离。

需要说明的是，本发明实施例中的真空吸盘11可以由陶瓷材料制成，也可以由其它适合在清洗晶圆时使用的材料制成。

以上所述是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明所述原理的前提下，还可以作出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。

Claims (7)

1.一种吸片台装置，用于清洗晶圆，其特征在于，包括：

真空吸盘，盘身内部设置有第一真空仓，上表面设置有多个与所述第一真空仓连通的第一通孔；

旋转主轴，用于驱动所述真空吸盘作水平旋转，轴内开有轴向孔和径向孔，所述轴向孔的长度小于所述旋转主轴的长度，且分别与所述第一真空仓和所述径向孔连通；

支撑座，设置于所述真空吸盘下方，套于所述旋转主轴上，用于稳固所述真空吸盘和旋转主轴；

所述支撑座内设置有第二真空仓，与所述径向孔连通；

所述支撑座侧面设置有第二通孔，与所述第二真空仓连通。

2.如权利要求1所述的吸片台装置，其特征在于，还包括：

角接触球轴承，套于所述旋转主轴上，用于支撑所述真空吸盘旋转；

和/或

深沟球轴承，套于所述旋转主轴上，用于支撑所述真空吸盘旋转。

3.如权利要求2所述的吸片台装置，其特征在于，还包括：

电机，通过联轴器与所述旋转主轴连接，用于驱动所述旋转主轴转动；

其中，所述电机的法兰通过安装板和支柱与所述支撑座固定连接。

4.如权利要求3所述的吸片台装置，其特征在于，

所述第二真空仓的上表面和下表面分别固定设置有油封。

5.如权利要求1所述的吸片台装置，其特征在于，还包括：

绷架，设置于所述真空吸盘的上表面，用于固定放置于所述真空吸盘上表面上的晶圆。

6.如权利要求5所述的吸片台装置，其特征在于，还包括：

离心夹，设置于所述真空吸盘的边缘，用于在所述真空吸盘处于旋转状态时，固定所述绷架。

7.如权利要求6所述的吸片台装置，其特征在于，

所述离心夹的数目至少为4个。

Images