CN102373422A - 真空镀膜系统 - Google Patents

Abstract

一种真空镀膜系统，包括一个真空镀膜室、一个传送装置、至少一个承载支架。真空镀膜室设有一个顶壁、一个底壁及两个连接所述顶壁及底壁的相对的侧壁。所述顶壁上安装有一个第一驱动装置。两个侧壁分别设有一个进料闸门及一个出料闸门。所述传送装置设有一个传送轨道及设置于传送轨道上的升降臂。传送轨道自所述进料闸门至所述出料闸门贯穿所述真空镀膜室。升降臂用于卡持所述承载支架。承载支架包括一个公转轴、与所述公转轴枢接的至少一个用于承放待镀膜工件的承载框。所述升降臂将承载支架传送至所述第一驱动装置下方，并将所述承载支架连接至所述第一驱动装置，所述第一驱动装置带动所述承载支架转动以使所述承载框绕所述公转轴转动。

Description

真空镀膜系统

技术领域

本发明涉及镀膜领域，具体地，涉及一种真空镀膜系统。

背景技术

目前，电子产品、光学元件等金属或塑料制品的外观装饰性镀膜或功能性镀膜，可以通过发展迅速的物理气相沉积(physical vapor deposition，PVD)工艺获得，传统的真空镀膜系统包括一进行溅镀反应的真空镀膜室，真空镀膜室内具有固定设置的挂具或卡持装置用以悬挂或卡持被镀工件。然而电子产品的外观形状日趋复杂，以及对光学元件镀膜要求亦日益提高。因此，对如何获得均匀的镀膜提出了更多的课题；另外，由于挂具或卡持装置固定设置于的真空镀膜室内，每次进行镀膜时，都需要打开真空镀膜室装载待镀膜工件，镀膜完成后再取下已镀膜的工件，再镀膜时，再装载待镀膜工件，如此，两次镀膜之间需要占用大量的等待时间，生产效率低下。

发明内容

有鉴于此，有必要提供一种可使工件表面镀膜更为均匀、并可提高生产效率的真空镀膜系统。

一种真空镀膜系统，包括一个真空镀膜室、一个传送装置、至少一个承载支架。所述真空镀膜室设有一个顶壁、一个底壁及两个连接所述顶壁及底壁的相对的侧壁。所述顶壁上安装有一个第一驱动装置。所述两个侧壁分别设有一个进料闸门及一个出料闸门。所述传送装置固定安装于真空镀膜室外，其设有一个传送轨道及设置于传送轨道上的升降臂。所述传送轨道自所述进料闸门至所述出料闸门贯穿所述真空镀膜室。所述升降臂用于卡持所述承载支架。所述承载支架包括一个公转轴、与所述公转轴枢接的至少一个用于承放待镀膜工件的承载框。所述升降臂将承载支架传送至所述第一驱动装置下方，并将所述承载支架连接至所述第一驱动装置，所述第一驱动装置带动所述承载支架转动以使所述承载框绕所述公转轴转动。

本发明提供的真空镀膜系统在进行镀膜反应时，所述第一驱动装置与所述承载支架连接并驱动所述承载支架转动，从而使放置在所述承载框上的待镀膜工件表面镀膜更加均匀。另外，承载支架通过传送装置送入真空镀膜室，可以实现连续镀膜，提高镀膜效率。

附图说明

图1为本发明提供的真空镀膜系统的主视图。

图2为图1的真空镀膜系统的俯视图。

图3为图1的真空镀膜系统的承载支架的主视图。

图4为图2所示的承载支架的俯视图。

主要元件符号说明

真空镀膜系统            100

真空镀膜室              10

顶壁                    101

进气口                  1011

底壁                    102

出气                    1021

侧壁                    103、104

进料闸门                1031

出料闸门                1041

靶材承放部              105

传送装置                20

传送轨道                201

升降臂                  202

承载支架                30

公转轴                  301

对接部                  3011

卡持部                  3012

上定位件                3013

下定位件                3014

承载框                  302

水平边框                3021

垂直边框                3022

枢接通孔                3023

自转轴                  303

承载部                  3031

转动棘轮                3032

第一驱动装置            40

第一马达                401

驱动部                  402

靶材                    50

第二驱动装置            60

驱动棘轮                601

传动带                  602

位置                    A、B、C

具体实施方式

请参见图1、2，本发明较佳实施方式提供的一种真空镀膜系统100包括一个真空镀膜室10、一个传送装置20、至少一个承载支架30及第一驱动装置40。

所述真空镀膜室10大致为立方体构造，其设有一个顶壁101、一个底壁102、两个连接所述顶壁101与所述底壁102的相对的侧壁103和104。所述顶壁101上设有进气1011。所述侧壁103设有进料闸门1031。侧壁104设有出料闸门1041。所述底壁102设有出气1021、及靶材承放部105，其中所述靶材承放部105用于承放并加热靶材50。

所述第一驱动装置40安装于所述顶壁101上，其包括第一马达401及驱动部402。所述驱动部402由所述第一马达401带动旋转。所述驱动部402为电磁铁，当对其通电时可以产生磁力以吸住铁质材料。

所述传送装置20固定安装于真空镀膜室10外，其包括传送轨道201及设置于传送轨道201上的升降臂202。所述传送轨道201为封闭环型，其自进料闸门1031至出料闸门1041贯穿所述真空镀膜室10。所述升降臂202用于卡持所述承载支架30。所述传送装置20还设有驱动装置(未图示)用于带动所述传送轨道201传动。所述传送装置20用于循环传动承载支架30进出所述真空镀膜室10。

同时参阅图3及图4，所述承载支架30包括一个公转轴301、两个承载框302。所述公转轴301与所述两个承载框302相枢接。

所述公转轴301包括一个对接部3011、一个卡持部3012、一个上定位件3013及一个下定位件3014。所述对接部3011为铁质材料，其设置于公转轴301的一端用于连接至所述第一驱动装置40的驱动部402，所述对接部3011可以与公转轴301一体成型，也可以与公转轴301通过螺纹配合或其它方式相结合，本实施方式中，所述对接部3011通过螺纹与所述公转轴301结合。所述卡持部3012设置于所述对接部3011附近，用于供所述升降臂202卡持以使所述承载支架30固持于升降臂202上。所述上定位件3013及下定位件3014与所述公转轴301通过螺纹配合，用于将所述两个承载框302限位于上定位件3013与下定位件3014之间。

所述每个承载框302大致为矩形，其包括一对相对的水平边框3021及一对相对的垂直边框3022，其中所述一对水平边框3021中点处设有枢接通孔3023用于穿设所述公转轴301。所述每个承载框302内还设置有多个与所述水平边框3021相枢接的自转轴303，每个自转轴303上设有多个承载部3031，所述承载部3031用于放置待镀膜工件(未图示)。所述每个承载框302内的相邻的两个自转轴303上的承载部3031呈交错设置。

所述每个承载框302的其中一个水平边框3021上设有第二驱动装置60及与所述自转轴303数量对应的转动棘轮3032。所述第二驱动装置60包括一驱动棘轮601及一传动带602。所述每个自转轴303一端连接至对应一个转动棘轮3032，所述驱动棘轮601通过传动带602带动所述转动棘轮3032转动。

请参阅1、2，为一个承载支架30通过传送装置20，从位置A传送至位置B、再传送至位置C的示意图。位于位置A时，所述承载支架30在真空镀膜室10外的进料闸门1031附近等待送入真空镀膜室10，此时所述出料闸门1041为关闭状态。此时对所述承载支架30装载待镀膜工件，并对待镀膜工件进行必要的前处理：如通过吹扫热风进行除尘和预热处理，然后将所述承载支架30从位置A传送到位置B，在经过所述进料闸门1031时，可以通过手动调节所述两个承载框302之间的相对角度至最小(例如15度)，这样可以在进料闸门1031开启最小的情况下使得所述承载支架30通过所述进料闸门1031，可以防止真空镀膜室10受外界污染。

当所述承载支架30传输至位置B，即位于所述第一驱动装置40的正下方时。对所述驱动部402通电使其产生电磁力，所述升降臂202调节所述承载支架30的位置使对接部3011连接至所述驱动部402，由于所述对接部3011为铁质材料，所述驱动部402通过磁力吸住所述对接部3011，然后所述升降臂202松开所述承载支架30的卡持部3012，此时通过手动将所述两个承载框302的角度调节为90度(如此，可以在镀膜过程中，各工件可以更均匀地分布于所述真空镀膜室10内)，然后关闭进料闸门1031，通过出气口1021对所述真空镀膜室10进行抽真空处理，然后通过进气口1011向真空镀膜室内加入反应气体如氮气等，加热所述靶材50，对工件进行镀膜处理。镀膜过程中，所述第一驱动装置40连接至所述公转轴301的对接部3011从而带动所述承载支架30在水平方向上自由转动，因此，所述承载框302可以绕所述公转轴301转动。另外，所述第二驱动装置60带所述自转轴303转动，因此所述放置于承载部3031上的待镀膜工件可以同时绕所述自转轴303与公转轴301转动，如此可以使得镀膜分布更为均匀。镀膜完成后，所述升降臂202卡持住所述承载支架30的卡持部3012，对所述驱动部402断电，因此所述驱动部402与所述对接部3011分开，在所述承载支架30经过所述出料闸门1041时，可以再通过手动调节所述两个承载框302之间的相对角度至最小(例如15度)，这样可以在出料闸门1041开启最小的情况下使得所述承载支架30通过所述出料闸门1041，将所述承载支架30经过出料闸门1041后传送至所述位置C。

所述承载支架30位于位置C，即真空镀膜室10外的出料闸门1041附近，镀膜完成后从真空镀膜室10传出，等待工件冷却后卸载镀膜后的工件。

请参阅图1，本发明优选实施方式中，所述真空镀膜系统100包括三个承载支架30，分别位于位置A、位置B、位置C三个位置。位于位置A的承载支架30，此时装载待镀膜工件，并作镀膜前处理，等待送入真空镀膜室10；位置B的承载支架30，此时正在对工件进行镀膜处理；位于位置C的承载支架30，已经完成对工件的镀膜处理，此时等待工件冷却后取下工件。如此，可以通过三个承载支架30节省时间，提高镀膜效率。

本技术领域的普通技术人员应当认识到，以上的实施方式仅是用来说明本发明，而并非用作为对本发明的限定，只要在本发明的实质精神范围之内，对以上实施方式所作的适当改变和变化都落在本发明要求保护的范围之内。

Claims (9)

1.一种真空镀膜系统，其特征在于，包括一个真空镀膜室、一个传送装置、至少一个承载支架；所述真空镀膜室设有一个顶壁、一个底壁、及两个连接所述顶壁与底壁的相对的侧壁；所述顶壁上安装有第一驱动装置；所述两个侧壁分别设有进料闸门及出料闸门；所述传送装置固定安装于真空镀膜室外，其设有传输轨道及设置于传输轨道上的升降臂；所述传送轨道自所述进料闸门至所述出料闸门贯穿所述真空镀膜室；所述升降臂用于卡持所述承载支架；所述承载支架包括一公转轴、与公转轴枢接的至少一个用于承放待镀膜工件的承载框；所述升降臂将承载支架传送至所述第一驱动装置下方，并将所述承载支架连接至所述第一驱动装置，所述第一驱动装置带动所述承载支架转动以使所述承载框绕所述公转轴转动。

2.如权利要求1所述的真空镀膜系统，其特征在于，第一驱动装置包括第一马达及驱动部；所述驱动部通过所述第一马达带动旋转，所述驱动部为电磁体。

3.如权利要求2所述的真空镀膜系统，其特征在于，所述公转轴包括一个对接部、一个固持部、一个上定位件及一个下定位件；所述对接部为铁质材料，设置于公转轴的一端用于连接至所述第一驱动装置的驱动部；所述卡持部设置于所述对接部附近，用于供所述升降臂卡持以使所述承载支架固持于升降臂上；所述上定位件与下定位件与所述公转轴通过螺纹配合，所述承载框限位于上定位件与下定位件之间。

4.如权利要求1所述的真空镀膜系统，其特征在于，所述承载框为矩形，其包括一对相对的水平边框及一对相对的垂直边框，其中所述一对水平边框中点处设有枢接通孔用于穿设所述公转轴。

5.如权利要求4所述的真空镀膜系统，其特征在于，所述承载框内还设置有多个与所述水平边框相枢接的自转轴，每个自转轴上设有多个承载部，所述承载框内的相邻两个自转轴上的承载部呈交错设置。

6.如权利要求5所述的真空镀膜系统，其特征在于，所述承载框的其中一个水平边框上设有第二驱动装置及与所述自转轴数量对应的转动棘轮。

7.如权利要求6所述的真空镀膜系统，其特征在于，所述第二驱动装置包括一驱动棘轮及一传动带，所述每个自转轴一端连接至对应一个转动棘轮。

8.如权利要求1所述的真空镀膜系统，其特征在于，所述传送轨道为封闭环形。

9.如权利要求1所述的真空镀膜系统，其特征在于，包括三个承载支架。

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