CN102305239A - 特大型调心滚子轴承 - Google Patents

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邹丽媛
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Abstract

本发明公开一种特大型调心滚子轴承，通过改进内圈滚道的结构解决了内圈小挡边(4)受到滚动体(3)过大的轴向冲击载荷的问题。本发明采用以下技术方案：特大型调心滚子轴承由外圈(1)、保持架(2)、滚动体(3)和内圈(5)组成，其中适用于内径在500mm～＜750mm的大型卷板机的轴承内圈(5)加宽滚道宽度，使滚动体(3)在滚道中的轴向窜动量单边达到2mm～3mm或达到2.5mm～3mm；其中适用于内径在≥750mm的大型卷板机的轴承内圈(5)加宽滚道宽度，使滚动体(3)在滚道中的轴向窜动量单边达到3mm～4mm或达到3.5mm～4mm。本发明具有以下优点：大大减少了滚动体对内圈小挡边冲击力、使润滑更加充分，提高了轴承使用寿命50％。

Description

特大型调心滚子轴承
技术领域
本发明涉及调心滚子轴承，具体涉及特大型调心滚子轴承。 
背景技术
现有24000CA型特大型调心滚子轴承，由外圈(1)、保持架(2)、滚动体(3)和内圈(5)组成，适用于内径在500mm～900mm的大型卷板机；如图1所示，滚动体(3)在滚道中的轴向窜动量单边约为0.5mm，即滚动体(3)与内圈小挡边(4)之间隙仅有0.5mm。此结构的内圈小挡边(4)在受到滚动体(3)过大的轴向冲击载荷时极易碎裂，从而大大降低了轴承的的使用寿命。 
发明内容
本发明公开一种特大型调心滚子轴承，通过改进内圈滚道的结构解决了上述的问题。 
为实现上述目的本发明采用以下技术方案：特大型调心滚子轴承由外圈(1)、保持架(2)、滚动体(3)和内圈(5)组成，内圈(5)具有内圈小挡边(4)；其中适用于内径在500mm～＜750mm的大型卷板机的轴承内圈(5)的滚道加宽，滚动体(3)在滚道中的轴向窜动量单边为2mm～3mm。 
所述滚动体(3)在滚道中的轴向窜动量单边为2.5mm～3mm。 
其中适用于内径在≥750mm的大型卷板机的轴承内圈(5)的滚道加宽，滚动体(3)在滚道中的轴向窜动量单边为3mm～4mm。 
所述滚动体(3)在滚道中的轴向窜动量单边为3.5mm～4mm。 
本发明具有以下优点： 
由于轴承内部有足够的移动空间，大大减少了滚动体对内圈小挡边冲击力、使润滑更加充分，提高了轴承使用寿命50％。 
附图说明
下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步描述。 
图1为现有特大型调心滚子轴承结构解剖示意图； 
图2为本发明结构解剖示意图。 
图中标注说明：外圈1、保持架2、滚动体3、内圈小挡边4、内圈5。 
具体实施方式
如图2所示，特大型调心滚子轴承由外圈1、保持架2、滚动体3和内圈5组成，内圈(5)具有内圈小挡边(4)；其中适用于内径500mm～＜750mm的大型卷板机的轴承内圈5的滚道加宽，使滚动体3在滚道中的轴向窜动量单边达到2mm～3mm；滚动体3在滚道中的轴向窜动量可以更大一点，单边达到2.5mm～3mm。其中适用于内径≥750mm的大型卷板机的轴承内圈5 的滚道加宽，滚动体3在滚道中的轴向窜动量单边达到3mm～4mm；滚动体3在滚道中的轴向窜动量可以更大一点，单边达到3.5mm～4mm。 
通过加宽内圈5滚道宽度，使滚动体3与内圈小挡边4之间间隙增大，滚动体3在滚道中的轴向窜动量随之增大，从而使滚动体3在轴承内部有足够的轴向移动空间，降低了对内圈小挡边4的冲击载荷。由于轴承内部空间增大，润滑更加充分，改善了润滑条件、减少了摩擦。加宽内圈5滚道，但是不可以去除内圈小挡边4，因为特大型调心滚子轴承没有CC型冲压架结构，如果把内圈小挡边4全部去掉，滚动体3易于从保持架2兜孔中掉出，特别不利于轴承的移动、安装、拆卸和使用。 

Claims (5)

1.一种特大型调心滚子轴承，由外圈(1)、保持架(2)、滚动体(3)和内圈(5)组成，内圈(5)具有内圈小挡边(4)，其特征在于：所述内圈(5)的滚道加宽，增大滚动体(3)与内圈小挡边(4)之间的间隙。
2.根据权利要求1所述特大型调心滚子轴承，其特征在于：所述适用于内径在500mm～＜750mm的大型卷板机的轴承内圈(5)的滚道加宽，滚动体(3)在滚道中的轴向窜动量单边为2mm～3mm。
3.根据权利要求2所述特大型调心滚子轴承，其特征在于：所述滚动体(3)在滚道中的轴向窜动量单边为2.5mm～3mm。
4.根据权利要求1所述特大型调心滚子轴承，其特征在于：所述适用于内径在≥750mm的大型卷板机的轴承内圈(5)的滚道加宽，滚动体(3)在滚道中的轴向窜动量单边为3mm～4mm。
5.根据权利要求4所述特大型调心滚子轴承，其特征在于：所述滚动体(3)在滚道中的轴向窜动量单边为3.5mm～4mm。
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PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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