CN102280401A - 石英舟基板支撑杆装置 - Google Patents

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黄兴成
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Abstract

一种石英舟基板支撑杆装置,通过在石英舟内部安装横截面为圆角矩形的基板支撑杆,以及采用石英材料,这样增大了基板支撑杆与基板接触面,减少基板滑动和装卸时造成擦伤的几率,由此避免了采用圆柱体支撑杆的基板在运动中易产生滑动增大基板擦伤几率的缺陷,以及还能避免采用长方体支撑杆的基板在装卸过程中易产生擦伤的缺陷。

Description

石英舟基板支撑杆装置
技术领域
本发明属于石英舟装备技术领域,具体涉及一种石英舟基板支撑杆装置。
背景技术
目前退火炉温度和洁净度较高,要求退火处理中使用的存放基板的石英舟能够耐高温且产生较少的微粒,这样与基板支撑杆不能使用耐磨而不耐高温的有机材料,只能使用耐高温又耐磨的无机材料。现在一般退火炉中的石英舟基板支撑杆采用圆柱体或长方体不锈钢材,但是采用圆柱体支撑杆,基板在运动中易产生滑动增大基板擦伤几率,而采用长方体支撑杆,基板在装卸过程中易产生擦伤。
发明内容
为了克服上述现有技术存在的不足,本发明的目的在于提供一种石英舟基板支撑杆装置,通过在石英舟内部安装横截面为圆角矩形的基板支撑杆,以及采用石英材料,这样增大了基板支撑杆与基板接触面,减少基板滑动和装卸时造成擦伤的几率,由此避免了采用圆柱体支撑杆的基板在运动中易产生滑动增大基板擦伤几率的缺陷,以及还能避免采用长方体支撑杆的基板在装卸过程中易产生擦伤的缺陷。
为了达到上述目的,本发明所采用的技术方案是:
一种石英舟基板支撑杆装置,包括在石英舟1内部竖直方向两侧面自下而上依次安装有两个以上水平架构的基板支撑杆2,该基板支撑杆2是横截面为圆角矩形的柱状杆。
所述的基板支撑杆2的材料为石英材料。
通过在石英舟1内部安装横截面为圆角矩形的基板支撑杆2,以及采用石英材料,这样增大了基板支撑杆2与基板接触面,减少基板滑动和装卸时造成擦伤的几率,由此避免了采用圆柱体支撑杆的基板在运动中易产生滑动增大基板擦伤几率的缺陷,以及还能避免采用长方体支撑杆的基板在装卸过程中易产生擦伤的缺陷。
附图说明
图1为带有本发明的石英舟基板支撑杆的石英舟的透视图。
图2为本发明的石英舟基板支撑杆的横截面示意图。
具体实施方式
下面结合附图对本发明作更详细的说明。
如附图所示,石英舟基板支撑杆装置,包括在石英舟1内部竖直方向两侧面自下而上依次安装有两个以上水平架构的基板支撑杆2,该基板支撑杆2是横截面为圆角矩形的柱状杆。所述的基板支撑杆2的材料为石英材料。
本发明的工作原理为先在石英舟1内部竖直方向两侧面的基板支撑杆2上水平放置上待退火处理的基板,然后放入退火炉中进行退火处理,退火处理完毕后再行取出在石英舟1内的基板。
通过在石英舟1内部安装横截面为圆角矩形的基板支撑杆2,以及采用石英材料,这样增大了基板支撑杆2与基板接触面,减少基板滑动和装卸时造成擦伤的几率,由此避免了采用圆柱体支撑杆的基板在运动中易产生滑动增大基板擦伤几率的缺陷,以及还能避免采用长方体支撑杆的基板在装卸过程中易产生擦伤的缺陷。

Claims (2)

1.一种石英舟基板支撑杆装置,包括在石英舟(1)内部竖直方向两侧面自下而上依次安装有两个以上水平架构的基板支撑杆(2),其特征在于:该基板支撑杆(2)是横截面为圆角矩形的柱状杆。
2.根据权利要求1所述的英舟基板支撑杆装置,其特征在于:所述的基板支撑杆(2)的材料为石英材料。
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Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1282801A (zh) * 1999-07-27 2001-02-07 李铁真 化学汽相淀积设备及利用该设备合成碳纳米管的方法
US20070148607A1 (en) * 2005-12-28 2007-06-28 Tani Yuichi Vertical boat and vertical heat processing apparatus for semiconductor process
US20070298621A1 (en) * 2006-06-23 2007-12-27 Tokyo Electron Limited Baking method of quartz products, computer program and storage medium
CN101969085A (zh) * 2010-06-18 2011-02-09 常州亿晶光电科技有限公司 轻便型面接触式防污石英舟
CN101990699A (zh) * 2008-04-17 2011-03-23 信越半导体股份有限公司 纵型热处理用晶舟及使用此晶舟的硅晶片的热处理方法

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1282801A (zh) * 1999-07-27 2001-02-07 李铁真 化学汽相淀积设备及利用该设备合成碳纳米管的方法
US20070148607A1 (en) * 2005-12-28 2007-06-28 Tani Yuichi Vertical boat and vertical heat processing apparatus for semiconductor process
US20070298621A1 (en) * 2006-06-23 2007-12-27 Tokyo Electron Limited Baking method of quartz products, computer program and storage medium
CN101990699A (zh) * 2008-04-17 2011-03-23 信越半导体股份有限公司 纵型热处理用晶舟及使用此晶舟的硅晶片的热处理方法
CN101969085A (zh) * 2010-06-18 2011-02-09 常州亿晶光电科技有限公司 轻便型面接触式防污石英舟

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