CN102138102A - 液晶光电装置的晶片级制造 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种液晶光电装置，其通过制造晶片级元件结构并在从该元件结构划片出单个装置之前将多个分立元件附接到表面结构制成。划片后，单个装置包括晶片级制造结构的一部分和至少一个分立元件。晶片级结构可包括液晶和控制电极，分立元件可包括固定透镜或图像传感器。该分立元件可位于晶片级结构的一侧或两侧。多个液晶层可用于降低来自不同角度的光互相作用产生的非均匀性，同时控制不同的偏振光。该液晶装置可用作例如可调谐透镜、快门或光圈的光电装置。

Description

液晶光电装置的晶片级制造
技术领域
本发明涉及光电装置和使用晶片级制造技术的光电装置的制造领域。
背景技术
在图像传感器、光探测器、发光二极管和其它光电装置领域中，使用载体基板(例如玻璃或塑料板)将光电装置阵列与其结合之后“划片(singulated)”成单独的芯片是众所周知的。通过蚀刻、注射成型或沉积，将过滤器或透镜结构添加到平面基板，从而形成具有光学装置阵列的晶片，该晶片能与它们的光电装置结合并划片形成单独的装置，也是众所周知的。有很多原因使类似晶片这样的装置的制造提高了生产的效率，部分原因在于，晶片的工艺比单独的元件的工艺速度快，并且完成用于晶片上阵列的元件的测试比划片后的元件的测试快。使用载体基板允许晶片作为具有较大尺寸的单件进行处理。这比处理具有处理难度大的小尺寸的单独芯片更快更简单。
一些有益的参考是Vigier-Blanc的美国专利US7,245,834，其公开了光电装置的晶片制造，在每个装置上具有透镜；Glenn等的美国专利US6,627,864，其描述了图像传感器封装的晶片制造，该封装包含光孔径窗口；以及Ma等的美国专利US7,329,861，其描述了集成封装的成像模块，在晶片阵列的单个图像传感器上提供透镜阵列。
发明内容
根据本发明，提供了一种可调谐液晶光学装置，使用晶片级制造以形成具有液晶层的结构，可从该结构划片出多个装置，并且分立元件在划片之前被附加到晶片，使得每个被划片出的装置包括一个或多个附加元件。因此，本发明提供一种用于分立元件的基板，该基板是一种允许在晶片阶段具有复杂光电装置形式的有源光电结构，该光电装置从与预想的外部分立元件组合的功能性分层基板划片出。
本发明包括一种制造多个液晶光学装置的方法，其首先制造分层的、晶片级元件结构。该晶片级结构包括液晶层和用于将电场施加到液晶层的多个电极层。多个光学元件被附接到该元件结构的表面，每个光学元件在该表面的不同的、预定位置。然后，分离该元件结构的预定区域，使得从其划片出多个光学装置，从而光学装置的每一个包括一部分晶片级制造的结构和与该结构附接的至少一个光学元件。
该液晶层可用作多种不同的光电装置的任一种，例如可调谐透镜、快门或可变光圈。因此，该晶片级元件结构和因而完成的光学装置可包括多个液晶层，每个液晶层包括具有不同取向角的液晶分子，从而最小化与来自不同角度方向的光的相互作用造成的不均匀性。该晶片级元件结构还可包括多个单独可控的液晶装置，其中每一个具有至少一个液晶层和至少一个电极。举例来说，如果每个液晶层对不同的偏振光起作用，那么具有这种结构的光学装置是合适的。
附接到晶片级元件结构的光学元件可包括固定透镜、图像传感器、两者的组合或与其他元件一起的组合。该元件还可附接到晶片级元件结构的一个表面或两个不同的表面上。例如，固定透镜可附接到结构的第一表面和第二表面上，使得完成的被划片出的光学装置包括在任一侧的固定透镜，每侧对应晶片级元件结构的一个基表面。同样地，可将固定透镜附接到第一表面，而将图像传感器附接到第二表面，使得被划片出的装置具有在装置一侧的固定透镜和在另一侧的图像传感器。因此，在这种情况下的被划片出的装置仅仅需要较少的最后附件(例如电线)来起到可变焦相机装置的作用。
附图说明
图1是示意图(未按比例)，示出了晶片制造的、划片的、四个被植入扁平基板的液晶层的可变光能透镜的侧视图，在每个扁平基板的表面上添加平凸透镜。
图2是图1实施例的顶视示意图，示出了光偏振的方向和摩擦方向。
图3是与图1的半个可调谐液晶透镜(TLCL)相同的晶片结构侧视示意图。
图4是图3实施例的顶视示意图。为了简化说明，只示出在晶片上的2乘2阵列的4个单元。
图5示意性地说明了图像传感器结合到基板上，该基板具有植入的液晶光学装置。
图6示意性地说明了一实施例，其中，在其表面承载透镜结构的液晶光学装置基板与图像传感器承载基板安装在一起，该图像传感器承载基板也具有植入在其中的液晶光学装置。
图7示意性地说明了一实施例，其中该结构的电场调制层位于两液晶结构之间。
具体实施方式
本发明涉及可电控制的液晶光学装置，例如在以下国际专利申请中所描述的，其主题在此援引并入：PCT申请号PCT/CA2009/000743；PCT申请号PCT/IB2009/052658；PCT申请号PCT/CA2009/000742。这些在先申请中的每个描述了适合用在此处描述的制造类型中的液晶结构。此外，所属技术领域的技术人员可以得知这种制造工艺也可以等同地用于其他结构。
图1示出了根据本发明制造的可调谐液晶透镜(TLCL)结构。该结构包括两个固定在一起的半个TLCL晶片，这两个晶片具有彼此相对的90度的旋转，因此每半个TLCL控制不同的偏振光。但是，每半个的其他部分是相同的，两个半个的相同元件因而使用相同的附图标记，但具有不同的字母标识符，字母“a”表示第一半个TLCL，字母“b”表示第二半个TLCL。此处的描述，使用附图标记讨论未特别使用“a”或“b”后缀的半个TLCL时，表明同等地参考两个半个TLCL。
图1中的结构是制造的晶片装置，其具有两个半个的晶片，每个包括顶部基板12、底部基板13、传导层16和18、液晶结构20和22、中间基板24和电场调制层26。在每半个中使用两个液晶结构20和22，每个LC结构具有不同的晶体排列，如果使用单一层，由于来自不同方向光与液晶的不同交互作用，将引起非均匀响应补偿。应该清楚，尽管图1中示意性的表示，每个透镜结构20和22不仅包含液晶，还包括附加的多个支持液晶层所必需的材料，包含位于透镜层20和22之间的一个或多个基板。图1中两个半个TLCL中的每个还具有集成在其上的固定透镜结构，该透镜结构与装置的TLCL部分联合操作。固定透镜结构可以是任何想要的透镜类型，包括正透镜或负透镜、或修正色差的透镜或其它光线传播的透镜。如下面的讨论，代替或附加其他元件，固定透镜也可附接到晶片结构作为制造装置的一部分。
结合图3可以理解本发明的晶片级制造工艺，其示出了两相邻TLCL装置制造为单个晶片的一部分的第一实施例。所属技术领域的技术人员将理解典型的晶片可以包括远超过两个的多个，典型地更多，，图3中的结构目的仅仅是为了说明。制造工艺从原始玻璃基板开始，也就是，底部基板32。用于装置的基板的玻璃典型地为硼硅酸盐玻璃，其加工的厚度很薄，100微米或更小。该玻璃使用玻璃生产商建议的方法清洁。这些包括清洁剂浸泡、超声清洗和去离子水漂洗的组合。随后在干净的玻璃上涂敷透明传导薄膜电极34。典型地，该电极是溅射沉积的铟锡氧化物，然而其他薄膜沉积技术，例如蒸发也可以使用。可以使用图案化电极作为下部电极，并且该传导电极34可通过遮光板沉积以获得图案化电极，未涂敷的区域由金属掩模阻隔。
下一步是制造液晶(LC)单元。底部基板32和同样为玻璃晶片的中间基板36形成LC单元上部和下部的支持表面，并且均用取向层涂敷(对于底部基板32，该涂敷在电极层34顶部进行)。该涂层并未在图中示出，但是作为本领域的公知常识，涂层用于将液晶分子对准在共同的、预先确定的方向。典型地，这将使表面具有一些细微的结构。该涂层可以是之后用布摩擦形成结构的聚酰亚胺层，或者可以是以形成高度结构化表面的方式沉积的氧化膜。
形成结构化表面后，制造单元本身。在示例性的实施例中，三种材料沉积在形成LC单元的一个玻璃晶片上，并且图3中选择性示出了这些材料，如液晶结构38。第一种材料是任意的附加传导材料。通常是传导性粘合剂或焊剂。也可沉积非传导性粘合剂用于限定将填充液晶材料的区域。非传导性粘合剂典型地是丙烯酸、环氧树脂或硅树脂材料。最后，沉积液晶材料。在沉积的一种或多种材料中，包括间隔体。典型地，该间隔体是严格控制尺寸的玻璃或聚合物球体，其用于设定LC单元的厚度。最后，将第二玻璃晶片(例如，中间基板36)置于被分配材料的顶部，并且粘合剂材料通过加热、加压和/或光照进行固化。所属技术的技术人员可以理解，这仅仅是液晶单元一个特定的实施例，本发明可以等同地用于具有其他材料和/或结构的液晶单元。
下一步，在第三玻璃晶片(即，顶部基板42)上制造电场空间调制(电场“透镜”)结构40，顶部基板42上已经涂敷了电极层44。与底部基板的电极层34一样，如果需要，顶部基板的电极44也可被图案化。图3中也示出了可能的电极接头。典型地，应用到顶部基板的调制结构40由具有变化的电和光特性的聚合物层制造。可选择地，图案化电极和合成的传导材料可以单独使用或共同使用，用于提供想要的电场空间调制。例如，在一个实施例中，电场调制层包含与频率相关的介电常数材料的预定分布，该预定分布导致想要的电场强度的空间分布。这些与频率相关的材料可以单独使用或与图案化电极联合使用。由于液晶装置的性质和目的，在一些实施例中，不需要对电场进行空间调制。可以加入附加的传导材料(例如传导粘合剂和焊剂)和结构材料(例如玻璃、聚合物或金属隔离物)。制造后，使用光粘合材料，将顶部基板42、电极涂层44和电场调制层40结合到LC单元。在这点，已制造了对于一种偏振光有效的TLCL。但是，如下面所讨论，该结构仅仅表示以晶片形式制造的TLCL的一半，因为另一个这样的结构可以被添加以生成对两种垂直的偏振光都起作用的TLCL。图4是图3中结构的顶视图，表示经液晶层处理的单一偏振方向(图4示出了晶片的四个可能的装置，但是，如上所述，典型地，实际的晶片级制造将具有更多个这样的结构。)
形成非偏振灵敏TLCL包含将两个半个的TLCL晶片结合在一起。这两个晶片的底部基板背靠背地放置，如图1所示。此外，一个晶片相对另外一个晶片旋转90度，因此每个半个TLCL中LC单元的取向彼此成90度。每半个TLCL作用于一种偏振光，两个偏振方向的组合允许TLCL的操作不依赖于偏振。光粘合剂位于两晶片之间，并且晶片被取向使得每个晶片中的单个装置的光轴被取向。随后使用加热、加压和/或光照固化该光学粘合剂。
液晶分子与光的相互作用受到相对于光传播方向取向的影响而不同，因此液晶的光学性质受到TLCL上入射角的影响而不同。为了减小这种效应，每半个TLCL可选择性地包括两层，即每一层包括具有其方向指向同一个角度但彼此方向相对的取向层。以这种方式，每半个TLCL对入射光角度的依赖降低。图1的实施例中示出了这样的结构。因此，在这个实施例中，TLCL晶片共有四个植入的液晶层。图2中还示出了图1实施例的顶视图，包括成直角的轴的最终偏振，其具有在两个方向沿各自轴提供液晶取向的分开的单元。在图3示出的实施例中，半个TLCL仅仅具有一个LC层，这样图4的对应顶视图表示单一的取向方向。
半个TLCL晶片和/或全TLCL具有足够的机械强度用作能在顶部基板容纳透镜涂层(或在玻璃基板中具有蚀刻的透镜)的载体基板。在图1至图4的实施例中，在每半个TLCL的顶部基板上提供平凸透镜，使得在组合的全TLCL上提供凸透镜。例如，在图3的实施例中，平凸透镜50固定到接近每个分离的、待从晶片结构划片出的TLCL单元的结构的顶部基板42以。具有液晶透镜结构的固定透镜的使用可根据其应用具有一些优点，例如能够在一定范围的光功率内控制TLCL的电调制范围。因此，在这样的实施例中，固定透镜集成为晶片级制造的一部分，由此允许大量生产包括这种特性的TLCL单元。在图1的结构中，固定透镜50在每半个TLCL上的位置具有同样的优点。
在图5的实施例中，示出了类似图3实施例的TLCL结构，但不是固定透镜，而是图像传感器52被集成到每个TLCL单元中。TLCL单元在晶片级被制造，结合图3如上所述，而图像传感器52被结合到每个单元的表面。该表面可以是顶部基板42的表面，并且可以位于该结构其他部分的适当距离处，以允许通过液晶透镜聚焦的图像的探测。
尽管植入在所示实施例的晶片基板中的液晶光学装置是可变光功率透镜，应了解平面液晶光学装置可以是不可电控的固定透镜。对于制造光电组件(例如与光纤和其他波导耦合的探测器和光发射器)这特别有益。这样的液晶透镜可被预设并固定(固化)，以具有不同部分有差别的特定光学特性，例如光功率和色差。具有这种“被预设”层的晶片与其他晶片级元件的阵列接合，其他晶片级元件例如注模(或其他制备方式)透镜或图像传感器阵列。这样，该“被预设”的晶片可用于修正其他更加昂贵的相机透镜阵列。
液晶光学装置也可以是可控装置，其提供可控的光束转向、偏振过滤、快门作用或可变的孔径光圈(等同于虹膜)。在快门或虹膜光圈的情况中，该光学装置使用非液晶材料提供薄的、非机械装置。例如，从日本专利公开文本2004-12906中提供了光电装置，使得不透明粒子沿环形几何状移动，以扩大并限定虹膜孔径。
除了常规的液晶装置，“一次可预设材料”可置于薄玻璃板之间，用于提供固定的光学装置，例如透镜。这种应用的良好示例是用于修正主光束角。在此种情况下，植入的光学装置能够在适当的生产阶段修正在整个光学组件中探测到的瑕疵，例如划片之前。一次性可预设材料的示例是反应型液晶材料，可以使用电场或磁场预设该材料，之后使用化学或辐射引发剂固定该材料。
图6中，两个具有植入的液晶光学装置的晶片基板通过堆栈方式安装在一起。一个晶片具有与一侧结合的图像传感器52。关联的液晶光学装置可以是快门或可变的偏振过滤器。根据电可变装置的类型，必须适当地选择图像传感器与装置的距离。第二晶片通过间隔体结构54安装到第一晶片上，该第二晶片具有植入在其中的可调谐的透镜并也与平凸透镜50结合以用于提供想要的用于在图像传感器上会聚图像的基础光功率。因此，可调谐的透镜能提供聚焦调整。
图7示出附加的实施例，与图3的实施例类似，电场调制层60位于晶片结构的中间位置，在液晶结构“X”62和液晶结构“Y”64之间。液晶结构Y支撑在顶部基板66(具有电极涂层67)和基板68之间。类似地，液晶结构X支撑在底部基板70(具有电极涂层71)和基板72之间。如果需要，该两液晶结构62和64可以是不同的结构。在一个实施例中，每个结构包括液晶和聚合网状物，它们共同建立需要的液晶分子的空间分布。液晶结构也可以是由不同基板和隔离物支撑的液晶层，并且可以与分开的取决于频率的介电常数层相作用，或者甚至可以与包含在液晶结构中的取决于频率的介电常数材料相互作用。不同的电极层还可以是平面的或图案化的，用于所需的不同应用。所属技术领域的技术人员将理解，液晶装置需要的功能将规定液晶层、支撑基板、电极和任何电介质材料的排列方式。
与图3的实施例一样，图7的实施例包含划片前附接于晶片级结构的分立元件。如实施例中所示，固定透镜74靠近顶部基板放置。此外，靠近底部基板放置固定透镜/支架元件76。这些元件每个具有中心区域78，相对于完成的液晶装置用作固定透镜。此外，这些元件具有整体的支架80，该支架支撑已完成的元件，该已完成的元件相对于它们安装到的任何结构已经完成。这样的形状用于将液晶装置固定到这样的结构，和/或用于提供相对于其上的光学元件的空间。
根据前述的实施例，图7中的结构包括区域56，其中晶片结构将被切割划片为单独的装置。该实施例示出了具有交叉方向的两个液晶结构，但是本实施例的延伸可以使用置于不同旋转方向的、如图示的两个晶片级结构，从而相同地施加垂直偏振光。在此种情况下，这两种结构可在每个的底部基板结合在一起，外部元件(例如图中示出的透镜结构)固定到晶片级结构的顶部基板66中的一个或两个上。
如同理解的，进一步的具有植入的液晶光学装置的基板的结合能够提供缩放控制、光圈控制、光束转向等。也可以理解，当图像系统使用植入的液晶透镜时，该植入的液晶光学装置可以是固定的或可调谐的透镜，该透镜被没计以具有的成像特性用于补充其他成像系统的光学元件，从而降低该成像系统的色差。该液晶透镜的光学特性可以调节以满足成像系统的需求，并且补偿透镜元件或元件之间空间的缺陷。
需要注意，使用如此处描述的晶片级制造，单独的层可以是很薄的。对于之前的任何实施例这是真实的，但是参考图7可以更好的理解。在比如这个实施例中，全功能装置可以使用每个厚度大约为50-100μm的外部基板层(例如，基板66、70)、每个厚度大约为40-50μm的内部基板层(例如，基板68，72)和大约5-30μm的液晶结构构建。图7中实施例的一种样式使用调制层60，该调制层由具有10-50nm厚度氧化铟锡(ITO)涂层的开口图案化电极和厚度在约10nm的取决于频率的介电常数材料(例如氧化钛)层制成。该结构的附加层，例如厚度在20-40nm的取向层和厚度在10-50nm的电极，不会过多增加该结构的整个尺寸。因此，如图7中所示的装置就有厚度在约200μm至400μm的晶片级元件结构。如果晶片级元件结构由两个如图7中所示的结构组成，因此整个厚度大约为400-800μm。附加的分立元件的尺寸增加了最终装置的厚度，但是该基本晶片级元件结构是很薄的。
在包括附加的分立元件的液晶装置的晶片级制造之后，下一步包含从晶片划分出装置。典型地，这将是划线和裂片方法、机械切割方法或光学切割方法。在划线和裂片方法中，在晶片中形成线性缺陷(划线)，之后晶片受到应力直至晶片沿线性缺陷破裂。对于机械切割方法，使用磨轮去除分开部分晶片的材料条。在光学切割方法中，使用激光去除材料条以分开晶片。图3-7示意性示出在划片过程中去除的单独装置周围的晶片的区域56。
随后，通过与电线、引线框或柔性电路连接，封装加工完成的TLCL。典型地，使用传导粘合剂或焊剂进行连接。在完成连接后，TLCL周围的区域充满外封材料，保护TLCL不受严酷环境和机械损伤的影响。
也将理解，每半个TLCL具有朝一个方向排列液晶分子的取向层。液晶层的电场调制为偏振光在一个方向形成折射率的空间变化。垂直方向的偏振光具有相同的折射率。通过将夹心结构中彼此靠近的偏振方向组合，透镜对非偏振光可进行有效操作。
在晶片级制造阶段(例如，在划片之前)完成光电装置的生产对现有技术提供了巨大的优势。作为基板的晶片的尺寸和稳定性简化了将外部元件附接到晶片级元件结构的步骤。划片过程后，除了例如引线固定等完成步骤外，完成装置的生产。同样地，本发明提供了更简化并更有效的装置生产方法。

Claims (30)

1.一种制造多个液晶光学装置的方法，包括：
制造分层的、晶片级元件结构，该元件结构包括液晶层和用于将电场施加到液晶层的多个电极层；
将多个光学元件的每一个附接到该元件结构的表面的不同的、预定位置；并且
分离该元件结构的预定区域，使得从该元件结构划片出所述多个光学装置，所述光学装置的每一个包括晶片级制造结构的一部分和与该结构附接的至少一个光学元件。
2.根据权利要求1的方法，其中所述多个光学元件包括多个透镜。
3.根据权利要求1或2的方法，其中所述多个光学元件包括多个图像传感器。
4.根据权利要求1至3的任一项的方法，其中该元件结构的表面是第一表面，并且其中该方法还包括将多个光学元件附接到不同于第一表面的该元件结构的第二表面，并且其中分离该元件结构的预定区域的步骤划片出多个光学装置，该多个光学装置的每一个包括晶片级制造结构的一部分和在第一表面和第二表面的每一个上的至少一个光学元件。
5.根据权利要求4的方法，其中第一表面上的光学元件包括透镜，并且其中第二表面上的光学元件包括图像传感器。
6.根据权利要求1至5的任一项的方法，其中液晶层用作透镜。
7.根据权利要求1至5的任一项的方法，其中液晶层用作快门。
8.根据权利要求1至5的任一项的方法，其中液晶层用作光圈。
9.根据权利要求1至8的任一项的方法，其中晶片级元件结构包括至少两个液晶层，每个液晶层包括具有不同取向角的液晶分子。
10.根据权利要求1至9的任一项的方法，其中晶片级元件结构包括多个单独可控的液晶装置，该液晶装置的每一个具有至少一个液晶层和用于将电场施加到液晶层的电极层。
11.一种液晶光学装置，其由包括如下步骤的制造方法制成：
制造分层的、晶片级元件结构，该元件结构包括液晶层和用于将电场施加到液晶层的多个电极层；
将光学元件附接到该元件结构的表面的预定位置；并且
分离该元件结构的预定区域，使得从该元件结构划片出所述光学装置，所述光学装置包括晶片级制造结构的一部分和与该结构附接的所述光学元件。
12.根据权利要求11的液晶光学装置，其中该光学元件包括固定透镜。
13.根据权利要求11或12的液晶光学装置，其中该光学元件包括图像传感器。
14.根据权利要求11至13任一项的液晶光学装置，其中该元件结构的表面是第一表面，并且其中该方法还包括将光学元件附接到不同于第一表面的该元件结构的第二表面，并且其中分离该元件结构的预定区域的步骤划片出所述光学装置，使其包括晶片级制造结构的一部分和在第一表面和第二表面的每一个上的光学元件。
15.根据权利要求14的液晶光学装置，其中第一表面上的光学元件包括透镜，并且其中第二表面上的光学元件包括图像传感器。
16.根据权利要求11至14任一项的液晶光学装置，其中液晶层用作透镜。
17.根据权利要求11至14任一项的液晶光学装置，其中液晶层用作快门。
18.根据权利要求11至14任一项的液晶光学装置，其中液晶层用作光圈。
19.根据权利要求11至18任一项的液晶光学装置，其中晶片级元件结构包括至少两个液晶层，每个液晶层包括具有不同取向角的液晶分子。
20.根据权利要求11至19任一项的液晶光学装置，其中晶片级元件结构包括多个单独可控的液晶装置，该液晶装置的每一个具有至少一个液晶层和用于将电场施加到液晶层的电极层。
21.一种液晶光学装置阵列，包括：
分层的、晶片级元件结构，该元件结构包括液晶层和用于将电场施加到液晶层的多个电极层；以及
多个光学元件，该光学元件的每一个附接到该元件结构的表面的不同的、预定位置，使得该元件结构的预定区域能够被分离，从而从该元件结构划片出所述多个光学装置，所述光学装置的每一个包括晶片级制造结构的一部分和与该结构附接的至少一个光学元件。
22.根据权利要求21的液晶光学装置阵列，其中该多个光学元件包括多个透镜。
23.根据权利要求21或22的液晶光学装置阵列，其中该多个光学元件包括多个图像传感器。
24.根据权利要求21至23任一项的液晶光学装置阵列，其中该元件结构的表面是第一表面，并且其中该元件结构还包括与附接有多个光学元件的第一表面不同的第二表面，从而划片出多个光学装置导致所述装置的每一个包括晶片级制造结构的一部分和在第一表面和第二表面的每一个上的至少一个光学元件。
25.根据权利要求24的液晶光学装置阵列，其中第一表面上的光学元件包括透镜，并且其中第二表面上的光学元件包括图像传感器。
26.根据权利要求21至25任一项的液晶光学装置阵列，其中液晶层用作透镜。
27.根据权利要求21至25任一项的液晶光学装置阵列，其中液晶层用作快门。
28.根据权利要求21至25任一项的液晶光学装置阵列，其中液晶层用作光圈。
29.根据权利要求21至28任一项的液晶光学装置阵列，其中晶片级元件结构包括至少两个液晶层，每个液晶层包括具有不同取向角的液晶分子。
30.根据权利要求21至29任一项的液晶光学装置阵列，其中晶片级元件结构包括多个单独可控的液晶装置，该液晶装置的每一个具有至少一个液晶层和用于将电场施加到液晶层的电极层。
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